成都銀蝕刻液蝕刻液銷售價格

來源: 發(fā)布時間:2025-08-27

本實用新型涉及資源回收再利用領域,特別是涉及含銅蝕刻液氣液分離裝置。背景技術:線路板生產(chǎn)工業(yè)中,會對已經(jīng)使用于蝕刻線路板的含銅蝕刻廢液進行回收利用,在回收過程中,廢液在加熱器中通過蒸汽進行換熱,換熱完的廢液在高溫狀態(tài)下進入分離器,會在分離器中發(fā)生閃蒸,閃蒸產(chǎn)生的二次蒸汽中,攜帶有大小不等的液滴,現(xiàn)有技術因缺乏有效的分離氣液的手段,含有銅的液體隨著蒸汽被排走,導致了產(chǎn)品發(fā)生損失。技術實現(xiàn)要素:基于此,有必要針對現(xiàn)有技術氣液分離率低的問題,提供一種含銅蝕刻液氣液分離裝置。一種含銅蝕刻液氣液分離裝置,包括分離器及加熱器,所述分離器設有液體入口、蒸汽出口及濾液出口,所述液體入口用于將加熱器產(chǎn)生的液體輸入至分離器中,所述液體入口處設有減壓閥,所述蒸汽出口處設有真空泵、除霧組件及除沫組件,所述除霧組件用于過濾分離器中閃蒸的蒸汽中的含銅液體,所述除沫組件用于將經(jīng)除霧組件除霧的氣體進行除沫。在其中一個實施例中,所述除霧組件為設有多個平行且曲折的通道的折流板。在其中一個實施例中,所述除沫組件為絲網(wǎng)。在其中一個實施例中,所述分離器設有液位計、液位開關、液相氣相溫度傳感器和壓力傳感器。在其中一個實施例中。哪家的蝕刻液配方比較好?成都銀蝕刻液蝕刻液銷售價格

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當該風刀裝置40的***風刀41與該第二風刀42為了減少該基板20上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時,該氣體43碰到該擋液板結構10后部分會往該復數(shù)個宣泄孔121流動,并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出,除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現(xiàn)象,亦可達到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問題;此外,為了避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題,因此,該復數(shù)個宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,例如:孔徑a0小于3mm,即可因毛細現(xiàn)象的作用,亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與該第二擋板12的該上表面123所夾的接觸角θ4,而達到防止位于該第二擋板12的該上表面123的藥液51水滴經(jīng)由該復數(shù)個宣泄孔121滴下至該基板20上。由上述的實施說明可知,本實用新型的擋液板結構與以之制備的蝕刻設備與現(xiàn)有技術相較之下,本實用新型具有以下優(yōu)點。本實用新型的擋液板結構與以之制備的蝕刻設備主要借由具有復數(shù)個宣泄孔的擋液板結構搭配風刀裝置的硬體設計,有效使風刀裝置吹出的氣體得以經(jīng)由宣泄孔宣泄,并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由宣泄孔落下造成基板蝕刻不均等異?,F(xiàn)象。廣東市面上哪家蝕刻液推薦貨源選擇博洋蝕刻液,提升蝕刻效率,降低成本。

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該宣泄孔121的上孔徑a1與下孔徑a2亦不相等,且該上孔徑a1小于該下孔徑a2,或該宣泄孔121由該第二擋板12的下表面122朝向上表面123的方向漸縮,以維持毛細現(xiàn)象而避免該藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題。當該風刀裝置40的***風刀41與該第二風刀42為了減少該基板(本圖式未標示)上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時,該氣體43碰到該擋液板結構10后部分會往該復數(shù)個宣泄孔121流動,并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出(如圖10與圖11所示),除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的顯影不均現(xiàn)象,亦可達到避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問題;為了必須避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題,故該復數(shù)個宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,例如:孔徑a0小于3mm,即可因毛細現(xiàn)象的作用,亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與該第二擋板12的該上表面123所夾的接觸角θ4,而達到防止位于該第二擋板12上表面的藥液51水滴經(jīng)由該復數(shù)個宣泄孔121滴下至該基板20上(如圖12所示)。另請參閱圖13所示,為本實用新型蝕刻設備的蝕刻方法的步驟流程圖,其中本實用新型蝕刻設備的蝕刻方法主要包括有下列步驟。

silane)系偶聯(lián)劑和水,上述硅烷系偶聯(lián)劑使上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應位點(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以。此外,提供一種選擇硅烷系偶聯(lián)劑的方法,其是選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法,其特征在于,選擇上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應位點(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以。發(fā)明效果本發(fā)明的蝕刻液組合物提供即使不進行另外的實驗確認也能夠選擇在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜的效果和防蝕能力優(yōu)異的硅烷系偶聯(lián)劑的效果。此外,本發(fā)明的蝕刻液組合物提供在不損傷氧化物膜的同時*選擇性蝕刻氮化物膜的效果。附圖說明圖1是示出3dnand閃存(flashmemory)制造工序中的一部分的圖。圖2和圖3是示出制造3dnand閃存時氮化物膜去除工序(濕法去除氮化物(wetremovalofnitride))中所發(fā)生的工序不良的圖。圖4是示出能夠將3dnand閃存制造工序中發(fā)生的副反應氧化物的殘留以及氧化物膜損傷不良**少化的、硅烷系偶聯(lián)劑適宜防蝕能力范圍的圖。圖5是示出硅烷系偶聯(lián)劑的aeff值與蝕刻程度。蝕刻液適用于哪些行業(yè)。

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很好的對注入量進行精確控制,提高了該裝置的制備純度。附圖說明圖1為本實用新型的整體示意圖;圖2為本實用新型的a處放大示意圖;圖3為本實用新型的b處放大示意圖;圖4為本實用新型翻折觀察板沿a-a方向的截面示意圖。圖中:1、制備裝置主體,2、高效攪拌裝置,3、過濾除雜裝置,4、翻折觀察板,401、觀察窗翻折滾輪,402、內(nèi)嵌觀察窗,5、裝置底座,6、成品罐,7、鹽酸裝罐,8、硝酸裝罐,9、熱水流入漏斗,10、加固支架,11、防燙隔膜,12、旋轉搖勻轉盤,13、運轉電機組,14、震蕩彈簧件,15、控制面板,16、致密防腐桿,17、攪動孔,18、注入量控制容器,19、注入量觀察刻度線,20、限流銷,21、負壓引流器,22、嵌入引流口。具體實施方式下面將結合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例**是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例,基于本實用新型中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。請參閱圖1-4,本實用新型提供一種技術方案:一種ito蝕刻液制備裝置,包括制備裝置主體1、高效攪拌裝置2和過濾除雜裝置3。蝕刻液可以從哪里購買到;成都銀蝕刻液蝕刻液銷售價格

如何挑選一款適合公司的蝕刻液?成都銀蝕刻液蝕刻液銷售價格

如上所述的擋液板結構,其中宣泄孔的孔徑小于3毫米(millimeter,mm)。如上所述的擋液板結構,其中宣泄孔為千鳥排列或矩陣排列等其中的一種排列方式。如上所述的擋液板結構,其中宣泄孔為直通孔或斜錐孔等其中的一種態(tài)樣或兩者的混合。如上所述的擋液板結構,其中宣泄孔具有一***壁面,以及一第二壁面,且第二擋板具有一下表面,當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時,***壁面與下表面的***夾角不同于第二壁面與下表面的第二夾角。如上所述的擋液板結構,其中當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時,宣泄孔的上孔徑與下孔徑不相等。如上所述的擋液板結構,其中當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時,宣泄孔的上孔徑小于下孔徑。如上所述的擋液板結構,其中當宣泄孔為斜錐孔態(tài)樣時,宣泄孔由第二擋板的下表面朝向上表面的方向漸縮。此外,為了達到上述的實施目的,本實用新型另提出一種蝕刻設備,設置于一濕式蝕刻機的一槽體內(nèi),蝕刻設備至少包括有一如上所述的擋液板結構、一基板、一輸送裝置,以及一風刀裝置;基板設置于擋液板結構的下方;輸送裝置設置于基板的下方,輸送裝置包括有至少一滾輪,其中滾輪與基板接觸以運行基板;風刀裝置設置于擋液板結構的一端部,風刀裝置包括有一設置于基板上方的***風刀。成都銀蝕刻液蝕刻液銷售價格