剝離液是一種通用濕電子化學(xué)品,主要用于去除金屬電鍍或者蝕刻加工完成后的光刻膠和殘留物質(zhì),同時(shí)防止對(duì)襯底層造成破壞。剝離液是集成電路、分立器件、顯示面板、太陽(yáng)能電池等生產(chǎn)濕法工藝制造的關(guān)鍵性電子化工材料,下游應(yīng)用領(lǐng)域,但整體應(yīng)用需求較低,因此市場(chǎng)規(guī)模偏小。剝離液應(yīng)用在太陽(yáng)能電池中,對(duì)于剝離液的潔凈度要求較低,需達(dá)到G1等級(jí),下游客戶主要要天合、韓華、通威等;應(yīng)用到面板中,通常要達(dá)到G2、G3等級(jí),且高世代線對(duì)于剝離液的要求要高于低世代線,下游客戶有京東方、中星光電;在半導(dǎo)體中的應(yīng)用可分等級(jí),在8英寸及以下的晶圓制造中,對(duì)于剝離液的要求達(dá)到G3、G4水平,大硅片、12英寸晶元等產(chǎn)品要達(dá)到G5水平。高效剝離液,讓光刻膠去除更輕松、更徹底。南通哪家剝離液供應(yīng)商
1.顯影液:顯影液是一種溶液,用于在PCB板上顯示銅線軌道的比例和位置,使其成為可以用于焊接元件的良好的PCB板。2.剝離液:剝離液是一種特殊的溶劑,用于將PCB板上的銅線軌道剝離開(kāi),以便重新焊接元件。3.蝕刻液:蝕刻液是一種酸性溶液,用于將PCB板上的銅線軌道腐蝕掉,以便重新焊接元件。4.清洗液:清洗液是一種混合物,用于將PCB板上的塵埃、污垢和其他殘留物消除干凈,以便進(jìn)行焊接和裝配。1.顯影液:是指用于顯影制版的液體,一般由溶劑、硫酸銅、有機(jī)酸和抗氧化劑等組成。2.剝離液:是指用于把制版上的顯影膜剝離出來(lái)的液體,一般由硝酸鋁、硫酸鈉等組成。3.蝕刻液:是指用于蝕刻制版的液體,一般由硝酸銅、硝酸鈉、硝酸鋅等組成。4.清洗液:是指用于清洗制版的液體,一般由水、硝酸、硫酸、乙醇等組成。上海BOE蝕刻液剝離液推薦貨源剝離液的發(fā)展趨勢(shì)如何。
形成帶有沉淀物的固液混合物,打開(kāi)一級(jí)過(guò)濾罐進(jìn)料管路上的電磁閥18,固液混合物進(jìn)入一級(jí)過(guò)濾罐16的過(guò)濾筒中,先由一級(jí)過(guò)濾罐16的過(guò)濾筒過(guò)濾得到一級(jí)線性酚醛樹(shù)脂,濾液由提升泵6送往攪拌釜的循環(huán)料口7,往復(fù)3次數(shù)后,一級(jí)線性酚醛樹(shù)脂回收完成,關(guān)閉一級(jí)過(guò)濾罐進(jìn)料管路上的電磁閥18,利用提升泵6將一級(jí)過(guò)濾罐16中濾液抽取到攪拌釜10內(nèi)備用;2、向攪拌釜10中輸入酸性溶液,與前述濾液充分?jǐn)嚢杌旌显俅挝龀龀恋砦?,即二?jí)線性酚醛樹(shù)脂,利用ph計(jì)檢測(cè)溶液ph值,當(dāng)達(dá)到5-7范圍內(nèi)即可,打開(kāi)二級(jí)過(guò)濾罐13進(jìn)料管路上的電磁閥17,帶有沉淀物的混合液進(jìn)入二級(jí)過(guò)濾罐13中,由其中的過(guò)濾筒過(guò)濾得到二級(jí)線性酚醛樹(shù)脂,廢液二級(jí)過(guò)濾罐底部的廢液出口20流出,送往剝離成分處理系統(tǒng)。上述過(guò)濾得到的一級(jí)線性酚醛樹(shù)脂可用于光刻膠產(chǎn)品的原料,而二級(jí)線性酚醛樹(shù)脂可用于其他場(chǎng)合。
所述功能切換口3外部并聯(lián)有高純水輸入管線1和沉淀劑輸入管線2。所述二級(jí)過(guò)濾罐13的底部設(shè)有廢液出口20。所述一級(jí)過(guò)濾罐16和二級(jí)過(guò)濾罐13內(nèi)部均懸設(shè)有攔截固體成分的過(guò)濾筒。本實(shí)施例中,所述一級(jí)過(guò)濾罐16和二級(jí)過(guò)濾罐13的結(jié)構(gòu)相同,以一級(jí)過(guò)濾罐16為例,由外殼1601、懸設(shè)于外殼1601內(nèi)的過(guò)濾筒、扣裝于過(guò)濾筒頂部的壓蓋1602組成。所述壓蓋1602中心設(shè)有對(duì)應(yīng)進(jìn)料管路15的通孔。所述過(guò)濾筒由均勻布設(shè)多孔1606的支撐筒體1605、設(shè)于支撐筒體1605內(nèi)表面的金屬濾網(wǎng)1604、設(shè)于金屬濾網(wǎng)1604表面的纖維濾布1603組成。所述支撐筒體1605的上沿伸出外殼1601頂部并利用水平翻邊支撐于外殼1601上表面,所述金屬濾網(wǎng)1604的上沿設(shè)有與支撐筒體1605的水平翻邊扣合的定位翻邊。所述支撐筒體1605的底面為向筒體內(nèi)側(cè)凹陷的錐面1607,增加了過(guò)濾面積,提高了過(guò)濾效率。所述攪拌釜10設(shè)有ph計(jì)(圖中省略),用于檢測(cè)溶液ph值。攪拌釜10由釜體8、設(shè)于釜體8頂部的攪拌電機(jī)4、與攪拌電機(jī)4連接的攪拌桿11、設(shè)于攪拌桿11末端的攪拌槳12組成,所述攪拌槳12為u字形,釜體8外表面設(shè)有調(diào)溫水套9。工作過(guò)程:1、先向攪拌釜10內(nèi)投入光刻膠廢剝離液,再向釜內(nèi)輸入高純水,兩者在攪拌釜10內(nèi)攪拌均勻。友達(dá)光電用的哪家的剝離液?
能夠除去抗蝕劑。用本發(fā)明剝離液處理施加有抗蝕劑的基材的條件沒(méi)有特別限定,例如,可以舉出在設(shè)為10~80℃的本發(fā)明剝離液中浸漬基材1~60分鐘左右的條件、將設(shè)為10~80℃的本發(fā)明剝離液向基材噴霧1~60分鐘左右的條件。需要說(shuō)明的是,浸漬時(shí),可以搖動(dòng)基材,或?qū)Ρ景l(fā)明剝離液施加超聲波??刮g劑的種類沒(méi)有特別限定,可以是例如干膜抗蝕劑、液體抗蝕劑等中的任一種。干膜抗蝕劑的種類也沒(méi)有特別限定,例如推薦堿可溶型的干膜抗蝕劑。作為這樣的堿可溶型的干膜抗蝕劑,例如,可以舉出rd-1225(sap用25μm厚)(日立化成株式會(huì)社制)等。施加抗蝕劑的基材沒(méi)有特別限定,例如,可以舉出印刷布線板、半導(dǎo)體基板、平板顯示器、引線框中使用的各種金屬、合金所形成的、薄膜、基板、部件等。按照上述方式本發(fā)明剝離液能夠從施加有抗蝕劑的基材除去抗蝕劑,因此能夠在包括除去這樣的抗蝕劑的工序的印刷布線板、半導(dǎo)體基板、平板顯示器、引線框等的制造方法中使用。上述制造方法之中推薦包括從施加有抗蝕劑的基材除去抗蝕劑的工序的印刷布線板的制造方法,特別推薦基于半加成法的印刷布線板的制造方法。本發(fā)明剝離液能夠除去的線/間距(l/s)沒(méi)有特別限定。剝離液中加入特有添加劑可有效保護(hù)對(duì)應(yīng)金屬;南通格林達(dá)剝離液聯(lián)系方式
剝離液的大概費(fèi)用大概是多少?南通哪家剝離液供應(yīng)商
光電行業(yè)的大力發(fā)展,致使剝離液被國(guó)內(nèi)外研究人員所關(guān)注及研究,雖然在**網(wǎng)及技術(shù)網(wǎng)上對(duì)剝離液的闡述較少,但當(dāng)前國(guó)內(nèi)與國(guó)外均在剝離液廢液如何利用及處置方面有了一定的成果,。美國(guó)專利US7273560公布了包含單乙醇胺與二乙二醇單丁醚組合的光刻膠剝離液廢液中含有、77%的二乙二醇單丁醚、3%的光刻膠和?,F(xiàn)有技術(shù)***采用的光刻膠剝離液廢液回收方法通常是通過(guò)薄膜蒸發(fā)器回收大部分的有機(jī)成分,回收得到的有機(jī)組分或再經(jīng)脫色脫水等處理后可再次作為光刻膠剝離液應(yīng)用。這種方法雖然流程簡(jiǎn)便,但在使用薄膜蒸發(fā)器蒸發(fā)溶劑過(guò)程中,光刻膠濃度達(dá)到一定程度后其傳熱傳質(zhì)效率快速下降,使溶劑回收效率大為降低,處理能耗***升高。且除去溶劑后殘留的光刻膠等物質(zhì)需要定期將其***干凈,進(jìn)而影響工藝操作效率。另外,美國(guó)專利US公布了在蝕刻產(chǎn)線上設(shè)置過(guò)濾回收裝置,通過(guò)粗孔和細(xì)孔過(guò)濾器的兩步組合過(guò)濾法除去光刻膠,將光刻膠剝離液在產(chǎn)線上循環(huán)使用。南通哪家剝離液供應(yīng)商