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本發(fā)明采用一種選擇性剝離制備微納結(jié)構(gòu)的新方法,可制備出任意負(fù)性光刻膠所能制備的任意圖形且加工效率比傳統(tǒng)的加工方法提高了上萬倍(以直徑為105nm的結(jié)構(gòu)為例),特別是為跨尺度結(jié)構(gòu)的加工,為光學(xué)領(lǐng)域,電學(xué)領(lǐng)域,聲學(xué)領(lǐng)域,生物領(lǐng)域,mem制造,nems制造,集成電路等領(lǐng)域提供了一種新的解決方案。本發(fā)明的技術(shù)方案如下:一種選擇性剝離光刻膠制備微納結(jié)構(gòu)的方法,包括以下步驟:步驟一、提供襯底,并清洗;步驟二、對(duì)襯底進(jìn)行修飾降低光刻膠與襯底的粘附力;步驟三、襯底上旋涂光刻膠得到薄膜;步驟四、在光刻膠上加工出所需結(jié)構(gòu)的輪廓;所述所需結(jié)構(gòu)包括若干**單元,**單元外周形成有閉合的縫隙;步驟五、在光刻膠上覆蓋一層黏貼層;步驟六、自所需結(jié)構(gòu)以外的光刻膠的邊沿處揭開黏貼層,黏貼層將所需結(jié)構(gòu)以外的光刻膠粘走,留下所需結(jié)構(gòu)即襯底上留下的微納結(jié)構(gòu);黏貼層與光刻膠的粘附力a大于光刻膠與襯底的粘附力b。進(jìn)一步的改進(jìn),在供體襯底表面修飾光刻膠抗粘層為高溫氣體修飾法或抽真空氣體修飾法;高溫氣體修飾法包括如下步驟:將襯底和光刻膠抗粘劑置于密閉空間中,其中,密閉空間的溫度控制在60℃-800℃之間,保溫1分鐘以上,直接取出襯底。剝離液分為溶劑型和水系兩種類別;蘇州格林達(dá)剝離液推薦貨源
光刻膠又稱光致抗蝕劑,主要由感光樹脂、增感劑和溶劑三種成分組成。感光樹脂經(jīng)光照后,在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng),使得這種材料的物理性能,特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)曝光、顯影、刻蝕、擴(kuò)散、離子注入、金屬沉積等工藝將所需的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移至加工的基板上、***通過去膠剝離液將未曝光部分余下的光刻膠清洗掉,從而完成整個(gè)圖形轉(zhuǎn)移過程。在液晶面板和amoled生產(chǎn)中***使用?,F(xiàn)有的剝離液主要有兩種,分別是水性剝離液和有機(jī)剝離液,由于有機(jī)剝離液只能用于具有mo/al/mo結(jié)構(gòu)的制程中,無法用于ito/ag/ito;且乙醇胺的含量高達(dá)60%以上,有很強(qiáng)的腐蝕性,因此,常用的剝離液是水性剝離液,現(xiàn)有的水性剝離液主要成分為有機(jī)胺化合物、極性有機(jī)溶劑以及水,但現(xiàn)有的水性剝離液大都存在腐蝕金屬配線、光刻膠殘留、環(huán)境污染大、影響操作人員的安全性、剝離效果差等問題。杭州ITO蝕刻液剝離液按需定制哪家公司的剝離液的是口碑推薦?
光電行業(yè)的大力發(fā)展,致使剝離液被國內(nèi)外研究人員所關(guān)注及研究,雖然在**網(wǎng)及技術(shù)網(wǎng)上對(duì)剝離液的闡述較少,但當(dāng)前國內(nèi)與國外均在剝離液廢液如何利用及處置方面有了一定的成果,。美國專利US7273560公布了包含單乙醇胺與二乙二醇單丁醚組合的光刻膠剝離液廢液中含有、77%的二乙二醇單丁醚、3%的光刻膠和?,F(xiàn)有技術(shù)***采用的光刻膠剝離液廢液回收方法通常是通過薄膜蒸發(fā)器回收大部分的有機(jī)成分,回收得到的有機(jī)組分或再經(jīng)脫色脫水等處理后可再次作為光刻膠剝離液應(yīng)用。這種方法雖然流程簡(jiǎn)便,但在使用薄膜蒸發(fā)器蒸發(fā)溶劑過程中,光刻膠濃度達(dá)到一定程度后其傳熱傳質(zhì)效率快速下降,使溶劑回收效率大為降低,處理能耗***升高。且除去溶劑后殘留的光刻膠等物質(zhì)需要定期將其***干凈,進(jìn)而影響工藝操作效率。另外,美國專利US公布了在蝕刻產(chǎn)線上設(shè)置過濾回收裝置,通過粗孔和細(xì)孔過濾器的兩步組合過濾法除去光刻膠,將光刻膠剝離液在產(chǎn)線上循環(huán)使用。
本技術(shù)通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)上述目的:一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置,包括主支撐架、橫向支架、伺服變頻電機(jī)、電機(jī)減速箱、印刷品放置箱、表面印刷結(jié)構(gòu)、膠面剝離結(jié)構(gòu),所述主支撐架上方設(shè)置有所述橫向支架,所述橫向支架上方設(shè)置有所述伺服變頻電機(jī),所述伺服變頻電機(jī)上方設(shè)置有所述電機(jī)減速箱,所述電機(jī)減速箱上方安裝有印刷品傳送帶,所述印刷品傳送帶一側(cè)安裝有所述印刷品放置箱,所述印刷品放置箱一側(cè)安裝有所述表面印刷結(jié)構(gòu),所述表面印刷結(jié)構(gòu)上方設(shè)置有油墨放置箱,所述油墨放置箱下方安裝有油墨加壓器,所述油墨加壓器下方安裝有高壓噴頭,所述高壓噴頭一側(cè)安裝有防濺射擋板。如何正確使用剝離液。
腔室10及過濾器30可以采用與現(xiàn)有技術(shù)相同的設(shè)計(jì)。處于剝離制程中的玻璃基板,按照玻璃基板傳送方向從當(dāng)前腔室101開始逐級(jí)由各腔室10向玻璃基板供給剝離液以進(jìn)行剝離制程。剝離液從當(dāng)前腔室101進(jìn)入相應(yīng)的存儲(chǔ)箱20,在剝離液的水平面超過預(yù)設(shè)高度后流入過濾器30,再經(jīng)過過濾器30的過濾將過濾后的剝離液傳送至下一級(jí)腔室102內(nèi)。其中,薄膜碎屑70一般為金屬碎屑或ito碎屑。其中,如圖2所示,圖2為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)100的第二種結(jié)構(gòu)示意圖。閥門開關(guān)60設(shè)置在***管道40及第二管道50上。在過濾器30被阻塞時(shí),關(guān)閉位于過濾器30兩側(cè)的***管道40及第二管道50上的閥門開關(guān)60,可以保證當(dāng)前級(jí)腔室101對(duì)應(yīng)的存儲(chǔ)箱20內(nèi)剝離液不會(huì)流出,同時(shí)下一級(jí)腔室102內(nèi)的剝離液也不會(huì)流出。在一些實(shí)施例中,請(qǐng)參閱圖3,圖3為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)100的第三種結(jié)構(gòu)示意圖。過濾器30包括多個(gè)并列排布的子過濾器301,所述***管道40包括多個(gè)***子管道401,每一所述***子管道401與一子過濾器301連通,且所述多個(gè)***子管道401與當(dāng)前級(jí)腔室101對(duì)應(yīng)的存儲(chǔ)箱20連通。在一些實(shí)施例中,第二管道50包括公共子管道501及多個(gè)第二子管道502,每一所述第二子管道502與一子過濾器301連通。鋁剝離液的配方是什么?南京什么剝離液報(bào)價(jià)
剝離液適用于哪些行業(yè)。蘇州格林達(dá)剝離液推薦貨源
所述硫脲類緩蝕劑包括硫脲、苯基硫脲或月桂?;螂逯械囊环N。具體的,所述聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑為聚氧乙烯聚氧丙烯單丁基醚、壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚、十二烷基聚氧乙烯醚、二壬基酚聚氧乙烯醚中的一種。采用上述技術(shù)方案,本發(fā)明技術(shù)方案的有益效果是:本用于疊層晶圓的光刻膠剝離液具有較快的剝離速度,對(duì)金屬的腐蝕率低,而且使用壽命長。具體實(shí)施方式本發(fā)明涉及一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液,配方包括10~20wt%二甲基亞砜,10~20wt%一乙醇胺,5~11wt%四甲基氫氧化銨,~1wt%硫脲類緩蝕劑和~2wt%聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑,5~15wt%n-甲基吡咯烷酮和余量的去離子水。聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑因?yàn)榉肿又械拿焰I不易被酸、堿破壞,所以穩(wěn)定性較高,水溶性較好,耐電解質(zhì),易于生物降解,泡沫小。硫脲類緩蝕劑呈現(xiàn)弱堿性,所以在酸性介質(zhì)中能夠起到緩蝕的效果,另外與聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑和n-甲基吡咯烷酮配合可以起到提高處理量的作用。下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。蘇州格林達(dá)剝離液推薦貨源