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事實(shí)表明,無(wú)論是電力、機(jī)械、礦冶、交通、石油、能源、化工、輕紡等傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè),還是通信、激光、機(jī)器人、環(huán)保、原子能、航天等高技術(shù)產(chǎn)業(yè),都迫切需要高質(zhì)量、高效率的電能。而電力電子正是將各種一次能源高效率地變?yōu)槿藗兯璧碾娔埽瑢?shí)現(xiàn)節(jié)能環(huán)保和提高人民生活質(zhì)量的重要手段,它已經(jīng)成為弱電控制與強(qiáng)電運(yùn)行之間、信息技術(shù)與先進(jìn)制造技術(shù)之間、傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化、智能化改造和興建高科技產(chǎn)業(yè)之間不可缺少的重要橋梁。而新型電力電子器件的出現(xiàn),總是帶來(lái)一場(chǎng)電力電子技術(shù)的**。電力電子器件就好像現(xiàn)代電力電子裝置的心臟,它對(duì)裝置的總價(jià)值,尺寸、重量、動(dòng)態(tài)性能,過(guò)載能力,耐用性及可靠性等,起著十分重要的作用 [3]。自上世紀(jì)80年代起,MOSFET、IGBT和功率集成電路已成為主流應(yīng)用類型。南通代理功率器件MOS產(chǎn)品選型怎么樣
超結(jié)MOS的特點(diǎn):
1、低導(dǎo)通電阻通過(guò)在縱向結(jié)構(gòu)中引入多個(gè)P型和N型層的超結(jié)設(shè)計(jì),極大地降低了功率器件的導(dǎo)通電阻,在高電壓應(yīng)用中尤為明顯。
2、高耐壓性傳統(tǒng)MOSFET在提高耐壓的同時(shí)會(huì)增加導(dǎo)通電阻,而超結(jié)結(jié)構(gòu)通過(guò)優(yōu)化電場(chǎng)分布,使其在保持高耐壓的同時(shí)仍能保持較低的導(dǎo)通電阻。
3、高效率超結(jié)MOS具有較快的開(kāi)關(guān)速度和低損耗特性,適用于高頻率、高效率的電力轉(zhuǎn)換應(yīng)用。
4、較低的功耗由于導(dǎo)通電阻和開(kāi)關(guān)損耗的降低,超結(jié)MOS在工作時(shí)的能量損耗也明顯減少,有助于提高系統(tǒng)的整體能效。 南通代理功率器件MOS產(chǎn)品選型怎么樣功率半導(dǎo)體器件,它們能夠處理大功率電子信號(hào),電流可達(dá)數(shù)十至數(shù)千安培,電壓則高達(dá)數(shù)百伏以上。
無(wú)錫商甲半導(dǎo)體有想公司的MOS管封裝可按其在PCB板上的安裝方式分為兩大類:插入式和表面貼裝式。插入式封裝中,MOSFET的管腳會(huì)穿過(guò)PCB板的安裝孔并與板上的焊點(diǎn)焊接,實(shí)現(xiàn)芯片與電路的連接。常見(jiàn)的插入式封裝類型包括雙列直插式封裝(DIP)、晶體管外形封裝(TO)以及插針網(wǎng)格陣列封裝(PGA)等。
插入式封裝插入式封裝中,MOSFET的管腳通過(guò)PCB板的安裝孔實(shí)現(xiàn)連接,常見(jiàn)的形式包括DIP、TO等。這種封裝方式常見(jiàn)于傳統(tǒng)設(shè)計(jì),與表面貼裝式相對(duì)。其以可靠性見(jiàn)長(zhǎng),并允許不同的安裝方式,但因插入式封裝需要在PCB板上鉆孔,增加了制造成本。
表面貼裝式封裝在表面貼裝技術(shù)中,MOSFET的管腳及散熱法蘭直接焊接在PCB板表面的特定焊盤上,從而實(shí)現(xiàn)了芯片與電路的緊密連接。這種封裝形式包括D-PAK、SOT等,正成為主流,支持小型化和高散熱性能。隨著科技的進(jìn)步,表面貼裝式封裝以其優(yōu)勢(shì)逐漸取代傳統(tǒng)的插入式封裝。
超結(jié)MOS的工藝原理在傳統(tǒng)的高壓MOSFET中,導(dǎo)通電阻隨著器件耐壓的增加呈現(xiàn)出立方關(guān)系增長(zhǎng),這意味著在高壓下,器件的導(dǎo)通電阻非常高,影響效率。而超結(jié)MOS通過(guò)在漂移區(qū)內(nèi)構(gòu)建縱向的P型和N型層,使得電場(chǎng)在縱向方向上得到優(yōu)化。這種結(jié)構(gòu)可以在保持高耐壓的同時(shí),大幅降低導(dǎo)通電阻。具體的工藝流程可分為以下幾個(gè)步驟:
1、摻雜與離子注入在超結(jié)MOS的漂移區(qū),**重要的部分是形成交替的P型和N型摻雜區(qū)。這個(gè)過(guò)程需要精細(xì)的摻雜控制:
(1)離子注入通過(guò)離子注入工藝,分別在器件的漂移區(qū)進(jìn)行P型和N型雜質(zhì)的注入。離子注入的深度和濃度需要非常精確的控制,確保后續(xù)的超結(jié)結(jié)構(gòu)能夠均勻分布。
(2)多次摻雜與注入通常需要多次重復(fù)摻雜和注入過(guò)程,以在漂移區(qū)形成多個(gè)交替的P型和N型區(qū)域。 工業(yè)控制?:變頻器、伺服驅(qū)動(dòng)器、電源管理模塊; ?軌道交通?:牽引變流器、輔助供電系統(tǒng)。
功率MOSFET的基本特性
動(dòng)態(tài)特性MOSFET其測(cè)試電路和開(kāi)關(guān)過(guò)程。開(kāi)通過(guò)程;開(kāi)通延遲時(shí)間td(on)—Up前沿時(shí)刻到UGS=UT并開(kāi)始出現(xiàn)iD的時(shí)刻間的時(shí)間段;上升時(shí)間tr—UGS從UT上升到MOSFET進(jìn)入非飽和區(qū)的柵壓UGSP的時(shí)間段;iD穩(wěn)態(tài)值由漏極電源電壓UE和漏極負(fù)載電阻決定。UGSP的大小和iD的穩(wěn)態(tài)值有關(guān),UGS達(dá)到UGSP后,在up作用下繼續(xù)升高直至達(dá)到穩(wěn)態(tài),但iD已不變。開(kāi)通時(shí)間ton—開(kāi)通延遲時(shí)間與上升時(shí)間之和。
關(guān)斷延遲時(shí)間td(off)—Up下降到零起,Cin通過(guò)RS和RG放電,UGS按指數(shù)曲線下降到UGSP時(shí),iD開(kāi)始減小為零的時(shí)間段。下降時(shí)間tf—UGS從UGS
P繼續(xù)下降起,iD減小,到UGS
MOSFET的開(kāi)關(guān)速度MOSFET的開(kāi)關(guān)速度和Cin充放電有很大關(guān)系,使用者無(wú)法降低Cin,但可降低驅(qū)動(dòng)電路內(nèi)阻Rs減小時(shí)間常數(shù),加快開(kāi)關(guān)速度,MOSFET只靠多子導(dǎo)電,不存在少子儲(chǔ)存效應(yīng),因而關(guān)斷過(guò)程非常迅速,開(kāi)關(guān)時(shí)間在10~100ns之間,工作頻率可達(dá)100kHz以上,是主要電力電子器件中比較高的。場(chǎng)控器件靜態(tài)時(shí)幾乎不需輸入電流。但在開(kāi)關(guān)過(guò)程中需對(duì)輸入電容充放電,仍需一定的驅(qū)動(dòng)功率。開(kāi)關(guān)頻率越高,所需要的驅(qū)動(dòng)功率越大。 TO-Leadless(如TOLL) 無(wú)引腳封裝,減少電遷移,占用空間較D2PAK減少30%(如電動(dòng)工具)。中國(guó)臺(tái)灣電池管理系統(tǒng)功率器件MOS產(chǎn)品選型中低壓MOS產(chǎn)品
高頻場(chǎng)景側(cè)重低寄生參數(shù)的QFN或SO-8;南通代理功率器件MOS產(chǎn)品選型怎么樣
無(wú)錫商甲半導(dǎo)體MOS 管封裝形式及散熱性能分析
TO-247 封裝
TO-247 封裝與 TO-220 封裝類似,同樣屬于直插式封裝,但體積更大,引腳更粗。其散熱片面積也相應(yīng)增大,散熱能力更強(qiáng),在自然對(duì)流條件下,熱阻約為 40 - 60℃/W 。TO-247 封裝能夠承受更高的功率,常用于功率在 50 - 150W 的大功率電路中,如工業(yè)電源、電動(dòng)汽車的電機(jī)驅(qū)動(dòng)電路等。不過(guò),由于其體積較大,在一些對(duì)空間要求嚴(yán)格的電路板上使用會(huì)受到限制。
SOT-23 封裝
SOT-23 封裝是一種表面貼裝封裝(SMT),具有體積小、占用電路板面積少的優(yōu)勢(shì)。它的引腳數(shù)量較少,一般為 3 - 5 個(gè),采用塑料材質(zhì)封裝。但受限于較小的體積,SOT-23 封裝的散熱能力相對(duì)較弱,熱阻通常在 150 - 200℃/W 左右,適用于小功率電路,如消費(fèi)電子產(chǎn)品中的電源管理芯片、信號(hào)放大電路等。在這些場(chǎng)景中,MOS 管的功率消耗較小,產(chǎn)生的熱量有限,SOT-23 封裝能夠滿足基本的散熱需求。 南通代理功率器件MOS產(chǎn)品選型怎么樣