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封裝選擇關(guān)鍵因素
功率需求高功率(>100W):TO-247、TO-220、D2PAK。
中低功率(<100W):DPAK、SO-8、QFN。
**功率(信號(hào)級(jí)):SOT-23、SC-70。
散熱條件
需要強(qiáng)制散熱或大面積PCB銅箔散熱時(shí),優(yōu)先選帶散熱片的封裝(如TO-247、D2PAK)。
自然散熱場景可選SO-8或QFN(需優(yōu)化PCB散熱設(shè)計(jì))。
空間限制
緊湊型設(shè)備(如手機(jī)、穿戴設(shè)備):QFN、SOT-23。
工業(yè)設(shè)備或電源模塊:TO系列或D2PAK。
高頻性能
高頻應(yīng)用(>1MHz):QFN、DirectFET、SO-8(低寄生電感/電容)。
低頻應(yīng)用(如開關(guān)電源):TO系列或DPAK。
安裝方式
插件焊接(THT):TO-220、TO-247。
貼片焊接(SMT):DPAK、SO-8、QFN(適合自動(dòng)化生產(chǎn))。
成本與量產(chǎn)
低成本需求:TO-220、SOT-23。
高性能需求:DirectFET、QFN(成本較高,但性能優(yōu))。 功率器件廣泛應(yīng)用于需高效電能轉(zhuǎn)換的場景。嘉興制造功率器件MOS產(chǎn)品選型產(chǎn)品介紹
超結(jié)MOS的特點(diǎn):
1、低導(dǎo)通電阻通過在縱向結(jié)構(gòu)中引入多個(gè)P型和N型層的超結(jié)設(shè)計(jì),極大地降低了功率器件的導(dǎo)通電阻,在高電壓應(yīng)用中尤為明顯。
2、高耐壓性傳統(tǒng)MOSFET在提高耐壓的同時(shí)會(huì)增加導(dǎo)通電阻,而超結(jié)結(jié)構(gòu)通過優(yōu)化電場分布,使其在保持高耐壓的同時(shí)仍能保持較低的導(dǎo)通電阻。
3、高效率超結(jié)MOS具有較快的開關(guān)速度和低損耗特性,適用于高頻率、高效率的電力轉(zhuǎn)換應(yīng)用。
4、較低的功耗由于導(dǎo)通電阻和開關(guān)損耗的降低,超結(jié)MOS在工作時(shí)的能量損耗也明顯減少,有助于提高系統(tǒng)的整體能效。 中國臺(tái)灣代理功率器件MOS產(chǎn)品選型規(guī)格書QFN是一種四邊配置有電極接點(diǎn)的封裝方式,其特點(diǎn)是無引線和具備優(yōu)異的熱性能,提供更優(yōu)的散熱能力。
晶體管外形封裝(TO)
TO封裝作為早期的封裝規(guī)格,涵蓋諸如TO-3P、TO-247等多種設(shè)計(jì)。這種封裝形式以其高耐壓和強(qiáng)抗擊穿能力著稱,適用于中高壓、大電流的MOS管。在現(xiàn)代應(yīng)用中,TO封裝逐漸向表面貼裝式發(fā)展。
雙列直插式封裝(DIP)
DIP封裝以其兩排引腳設(shè)計(jì)而聞名,被設(shè)計(jì)為插入到具有相應(yīng)DIP結(jié)構(gòu)的芯片插座中。DIP封裝還有其緊縮版——SDIP(Shrink DIP)。DIP封裝類型多樣,包括多層陶瓷雙列直插式DIP等,其優(yōu)勢在于與主板的兼容性較好。然而,DIP封裝由于其較大的封裝面積和厚度,可靠性相對較低。
外形晶體管封裝(SOT)
SOT是一種貼片型小功率晶體管封裝,其常見類型包括SOT23、SOT89等。這種封裝以小巧體積和良好可焊性見稱,廣泛應(yīng)用于低功率場效應(yīng)管中。
小外形封裝(SOP)
SOP(Small Out-Line Package)是一種表面貼裝型封裝方式,其引腳以L字形從封裝兩側(cè)引出。SOP封裝常用于MOSFET的封裝,其以塑料材質(zhì)輕便簡潔的封裝形式贏得廣泛應(yīng)用。為了適應(yīng)更高性能要求,又發(fā)展了諸如TSOP等新型封裝。
四邊無引線扁平封裝(QFN)
QFN是一種四邊配置有電極接點(diǎn)的封裝方式,其特點(diǎn)是無引線和具備優(yōu)異的熱性能。其應(yīng)用主要集中在微處理器等領(lǐng)域,提供更優(yōu)的散熱能力。
超結(jié)MOS的工藝原理在傳統(tǒng)的高壓MOSFET中,導(dǎo)通電阻隨著器件耐壓的增加呈現(xiàn)出立方關(guān)系增長,這意味著在高壓下,器件的導(dǎo)通電阻非常高,影響效率。而超結(jié)MOS通過在漂移區(qū)內(nèi)構(gòu)建縱向的P型和N型層,使得電場在縱向方向上得到優(yōu)化。這種結(jié)構(gòu)可以在保持高耐壓的同時(shí),大幅降低導(dǎo)通電阻。具體的工藝流程可分為以下幾個(gè)步驟:
1、摻雜與離子注入在超結(jié)MOS的漂移區(qū),**重要的部分是形成交替的P型和N型摻雜區(qū)。這個(gè)過程需要精細(xì)的摻雜控制:
(1)離子注入通過離子注入工藝,分別在器件的漂移區(qū)進(jìn)行P型和N型雜質(zhì)的注入。離子注入的深度和濃度需要非常精確的控制,確保后續(xù)的超結(jié)結(jié)構(gòu)能夠均勻分布。
(2)多次摻雜與注入通常需要多次重復(fù)摻雜和注入過程,以在漂移區(qū)形成多個(gè)交替的P型和N型區(qū)域。 功率場效應(yīng)晶體管(Power MOSFET)?是一種電壓控制型半導(dǎo)體器件,主要用于功率放大和開關(guān)應(yīng)用。
無錫商甲半導(dǎo)體有限公司有下列封裝產(chǎn)品
TO-220與TO-220FTO-220與TO-220F這兩種封裝的MOS管在外觀上相似,可以相互替代。然而,TO-220背部配備了散熱片,因此其散熱效果相較于TO-220F更為出色。同時(shí),由于成本因素,TO-220的價(jià)格也相對較高。這兩種封裝的產(chǎn)品都適用于中壓大電流場合,其電流范圍在120A以下,同時(shí)也可用于高壓大電流場合,但電流需控制在20A以內(nèi)。
TO-251封裝TO-251封裝的產(chǎn)品旨在降低生產(chǎn)成本并減小產(chǎn)品尺寸,特別適用于中壓大電流環(huán)境,電流范圍控制在60A以下,同時(shí)也可用于高壓環(huán)境,但需確保電流在7N以下。 自上世紀(jì)80年代起,MOSFET、IGBT和功率集成電路已成為主流應(yīng)用類型。南通500至1200V FRD功率器件MOS產(chǎn)品選型聯(lián)系方式
O-220/F 帶散熱片的塑料封裝,支持外接散熱,用于中等功率場景(如家電)。嘉興制造功率器件MOS產(chǎn)品選型產(chǎn)品介紹
平面結(jié)構(gòu)晶體管的缺點(diǎn)是如果提高額定電壓,漂移層會(huì)變厚,因此導(dǎo)通電阻會(huì)增加。MOSFET的額定電壓取決于垂直方向的漂移區(qū)的寬度和摻雜參數(shù)。為了提高額定電壓等級(jí),通常增加漂移區(qū)的寬度同時(shí)降低摻雜的濃度,但會(huì)造成MOSFET的導(dǎo)通電阻大幅增加。同時(shí),也是為了克服平面MOSFET的局限性,超結(jié)MOSFET應(yīng)運(yùn)而生。超結(jié)MOSFET利用了一種創(chuàng)新的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),明顯降低了導(dǎo)通電阻,同時(shí)維持了高擊穿電壓。那么,接下來要重點(diǎn)討論超結(jié)MOSFET(super junction mosfet)。
超結(jié)MOS(Super Junction Metal-Oxide-Semiconductor,簡稱SJ-MOS)是電力電子領(lǐng)域中廣泛應(yīng)用的一類功率器件,其主要特征是在傳統(tǒng)MOSFET基礎(chǔ)上引入了超結(jié)結(jié)構(gòu),使其在高電壓、大電流條件下具備更優(yōu)越的性能。超結(jié)MOS器件相較于傳統(tǒng)的MOSFET有著更低的導(dǎo)通電阻和更高的耐壓性能,廣泛應(yīng)用于高效能電力轉(zhuǎn)換領(lǐng)域,如開關(guān)電源、逆變器、電動(dòng)汽車、光伏發(fā)電等。 嘉興制造功率器件MOS產(chǎn)品選型產(chǎn)品介紹