在半導體芯片制造過程中,光刻、刻蝕等關(guān)鍵工序需要超高真空環(huán)境(真空度通常要求在10??Pa以下)。為了達到這一真空度,采用渦輪分子泵機組作為重點抽氣設(shè)備,并搭配干泵作為前級泵。在系統(tǒng)設(shè)計上,采用全金屬密封結(jié)構(gòu),減少泄漏;選用低放氣率的不銹鋼材料制作真空室和管道;在生產(chǎn)前,對系統(tǒng)進行高溫烘烤除氣(溫度約300℃,持續(xù)24小時),去除材料表面的吸附氣體。同時,通過實時監(jiān)測和控制,將真空度穩(wěn)定控制在10??Pa左右,確保芯片制造的精度和質(zhì)量。山東華中以優(yōu)良的品質(zhì)、束越的特性和完善的售后服務(wù)體系,得到客戶的認可和支持!安徽羅茨真空機組
系統(tǒng)泄漏主要來自于管道連接部位、閥門、法蘭等部件的密封不良。管道連接處的密封墊老化、損壞,會導致氣體泄漏;閥門的密封面磨損或存在雜質(zhì),也會造成漏氣。泄漏率的大小直接影響系統(tǒng)的真空性能,即使是微小的泄漏,在高真空狀態(tài)下也會明顯影響較高真空度。為了保證系統(tǒng)的密封性,在真空機組的設(shè)計、制造和安裝過程中,需要采用高質(zhì)量的密封材料(如橡膠密封圈、金屬波紋管密封等),并嚴格控制連接部位的加工精度和安裝工藝。同時,在系統(tǒng)使用過程中,還需要定期檢查和維護密封部件,及時更換老化或損壞的密封件,以確保系統(tǒng)的良好密封性。螺桿真空機組標準化和規(guī)?;g良性互動發(fā)展的生產(chǎn)優(yōu)勢,鑄就華中真空設(shè)備優(yōu)良的性價比。
前級泵的抽氣速率也需要與主泵相匹配。如果前級泵的抽氣速率過小,無法及時將主泵排出的氣體抽出,會導致主泵排氣口壓力升高,影響主泵的正常工作。因此,在選擇前級泵時,需要根據(jù)主泵的排氣量和極限真空度要求,選擇合適抽氣速率和極限真空度的前級泵,以保證兩者的良好匹配。環(huán)境因素也會對真空機組的較高真空度產(chǎn)生一定的影響,主要包括環(huán)境溫度、濕度和大氣壓力等。環(huán)境溫度的變化會影響系統(tǒng)內(nèi)氣體的壓強和材料的放氣率。溫度升高時,氣體分子的熱運動加劇,系統(tǒng)內(nèi)氣體壓強會升高。
高真空,10?1Pa-10??Pa,深度抽除殘余氣體,控制氣體分子碰撞,擴散泵機組、渦輪分子泵-旋片泵組合機組,真空鍍膜(10?3-10??Pa)、電子束焊接(10?3-10??Pa)、真空冶煉(10?2-10??Pa)。超高真空,<10??Pa,降低氣體分子密度,控制材料放氣,渦輪分子泵-離子泵組合機組、低溫泵機組,半導體光刻(10??-10?1?Pa)、航天環(huán)境模擬(10??-10?11Pa)、量子物理實驗(10?1?-10?12Pa)。這種適配關(guān)系源于機組的重點性能——水環(huán)泵在10?-103Pa區(qū)間抽速穩(wěn)定但受限于水蒸氣壓;羅茨泵在10?-10?Pa可明顯提升抽速;渦輪分子泵則在10?1Pa以下展現(xiàn)優(yōu)勢。淄博華中真空設(shè)備有限公司位于淄博市高新技術(shù)開發(fā)區(qū),占地面積10000平方米,環(huán)境優(yōu)雅,交通便利。
高真空場景的重點是深度去除殘余氣體,需應對極低壓強下的氣體分子運動特性(分子流態(tài))。選型需重點關(guān)注:極限真空度匹配:主泵極限需比目標真空度低1-2個數(shù)量級(如目標10??Pa需選極限10??Pa的泵);前級泵匹配:主泵(如擴散泵、渦輪分子泵)需前級泵將真空度抽至10?-10?1Pa才能啟動;放氣控制:機組需配合烘烤除氣(如300℃加熱去除材料表面吸附氣體)。擴散泵-旋片泵組合機組,適配真空度:10?-10??Pa(極限約10??Pa),重點優(yōu)勢:抽速大(可達10?L/s),成本只為渦輪分子機組的50%,典型應用:大面積玻璃鍍膜(需10?3-10??Pa)、真空冶煉(需10?2-10??Pa),選型注意:需配套冷卻水系統(tǒng)(流量≥2L/min),不能抽除輕氣體(如氫氣抽速只為氮氣的10%)。面對變幻莫測的市場,只有客戶的價值得到體現(xiàn),才是華中真空設(shè)備的體現(xiàn)。山東羅茨無油真空機組
華中真空設(shè)備制訂了嚴格的管理制度,并在公司內(nèi)部滲透,明確了質(zhì)量方針,進而設(shè)立品質(zhì)保證機制。安徽羅茨真空機組
離子泵無油污染、極限真空度高,可達10^-7-10^-12Pa,適用于超高真空環(huán)境,如半導體制造中的光刻、電子顯微鏡等設(shè)備,但價格較高、抽氣速率相對較小。吸附泵利用多孔吸附劑材料(如分子篩、活性炭等)吸附氣體分子來降低空間內(nèi)氣體壓強。工作時,吸附劑對不同氣體分子有選擇性吸附作用,將氣體分子捕獲在其孔隙表面。吸附泵常用于獲取中真空環(huán)境,范圍為10^3-10^-2Pa,在一些對真空度要求不高且需快速建立真空的場合應用,如實驗室小型真空系統(tǒng)。其優(yōu)點是結(jié)構(gòu)簡單、無運動部件、無油污染,但吸附容量有限,需定期再生吸附劑以維持性能。安徽羅茨真空機組