本實用涉及蝕刻設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種ito蝕刻液制備裝置。背景技術(shù):蝕刻是將材料使用化學反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù),蝕刻技術(shù)分為濕蝕刻和干蝕刻,其中,濕蝕刻是采用化學試劑,經(jīng)由化學反應(yīng)達到蝕刻的目的,薄膜場效應(yīng)晶體管液晶顯示器(tft~lcd)、發(fā)光二極管(led)、有機發(fā)光二極管(oled)等行業(yè)用作面板過程中銦錫氧化物半導體透明導電膜(ito)的蝕刻通常采用鹽酸和硝酸的混合水溶液?,F(xiàn)有的制備裝置在進行制備時會發(fā)***熱反應(yīng),使得裝置外殼穩(wěn)定較高,工作人員直接接觸有燙傷風險,熱水與鹽酸接觸會產(chǎn)生較為劇烈的反應(yīng),濺出容易傷害工作人員,保護性不足,鹽酸硝酸具有較強的腐蝕性,常規(guī)的攪拌裝置容易被腐蝕,影響蝕刻液的質(zhì)量,用防腐蝕的聚四氟乙烯攪拌漿進行攪拌,成本過高,且混合的效果不好。所以,如何設(shè)計一種ito蝕刻液制備裝置,成為當前要解決的問題。技術(shù)實現(xiàn)要素:本實用新型的目的在于提供一種ito蝕刻液制備裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出的ito蝕刻液制備裝置保護性不足、不具備很好的防腐蝕性和混合的效果不好的問題。為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提供如下技術(shù)方案:一種ito蝕刻液制備裝置,包括制備裝置主體、高效攪拌裝置和過濾除雜裝置。蝕刻液使用時要注意什么?南京鋁鉬鋁蝕刻液蝕刻液銷售價格
技術(shù)實現(xiàn)要素:本實用新型所解決的技術(shù)問題即在于提供一種擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備,尤其是指一種適用于濕式蝕刻機的擋液排液功能且增加其透氣性以降低產(chǎn)品損耗的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備,主要借由具有復數(shù)個宣泄孔的擋液板結(jié)構(gòu)搭配風刀裝置的硬體設(shè)計,有效使風刀裝置吹出的氣體得以經(jīng)由宣泄孔宣泄,并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由宣泄孔落下造成基板顯影不均等異?,F(xiàn)象,確實達到保有原始擋液板的擋液效果,以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板導致的基板刮傷或破片風險等主要優(yōu)勢。本實用新型所采用的技術(shù)手段如下所述。為了達到上述的實施目的,本實用新型提出一種擋液板結(jié)構(gòu),適用于一濕式蝕刻機,擋液板結(jié)構(gòu)包括有一***擋板、一與***擋板接合的第二擋板,以及一與第二擋板接合的第三擋板,其主要特征在于:第二擋板具有復數(shù)個貫穿第二擋板且錯位設(shè)置的宣泄孔。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),其中***擋板與第二擋板呈正交設(shè)置,且第二擋板與第三擋板呈正交設(shè)置。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),其中***擋板、第二擋板與第三擋板圍設(shè)成一凹槽的態(tài)樣。如上所述的擋液板結(jié)構(gòu),其中第二擋板的長度介于10厘米(centimeter,cm)至15厘米(cm)之間。廣州蝕刻液溶劑蝕刻液 [博洋化學] 新工藝,實現(xiàn)循環(huán)使用!
且過濾部件能將內(nèi)部的過濾板進行拆卸更換,有效的提高了裝置連接安裝的便利性。2.高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,連接構(gòu)件,連接構(gòu)件設(shè)置在攪拌倉的底部,連接構(gòu)件與攪拌倉固定連接,連接構(gòu)件能將裝置主體內(nèi)部的兩個構(gòu)件進行連接并固定,且在將兩構(gòu)件進行連接或拆卸的時候,不需要使用任何工具就能完成安裝和拆卸工作,有效的提高了裝置連接的實用性。附圖說明圖1為本實用新型的整體結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本實用新型的過濾部件剖視圖;圖3為本實用新型的連接構(gòu)件剖視圖;圖4為本實用新型的內(nèi)部構(gòu)件連接框架圖。圖中:1、裝置主體,2、支撐腿,3、電源線,4、單片機,5、控制器,6、防滑紋,7、密封閥門(z45x-16),8、收集倉,9、過濾部件,10、常閉式密封電磁閥(zca-15biii02-10),11、連接構(gòu)件,12、海綿層,13、攪拌電機(5ik),14、去離子水儲罐,15、磷酸儲罐,16、醋酸儲罐,17、硝酸儲罐,18、陰離子表面活性劑儲罐,19、聚氧乙烯型非離子表面活性劑儲罐,20、氯化鉀儲罐,21、硝酸鉀儲罐,22、密封環(huán),23、攪拌倉,24、滑動蓋,25、收縮彈簧管,26、過濾板,27、螺紋管,28、活動軸,29、密封軟膠層。具體實施方式下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖。
etchingamount)的相互關(guān)系的圖表。具體實施方式本發(fā)明人確認了用于氮化物膜去除工序用蝕刻液組合物的具有防蝕能力的添加劑在滿足特定參數(shù)值時能夠使在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性去除氮化物膜且不損傷氧化物膜的效果極大化,從而完成了本發(fā)明。本發(fā)明包括選擇在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*將氮化物膜選擇性去除的能力優(yōu)異的添加劑的方法、由此選擇的添加劑、包含上述添加劑的蝕刻液組合物以及利用上述蝕刻液組合物的蝕刻方法。本發(fā)明中,蝕刻對象膜可以為氮化物膜,保護對象膜可以為氧化物膜。此外,本發(fā)明的上述添加劑可以為硅烷(silane)系偶聯(lián)劑。<蝕刻液組合物>具體而言,本發(fā)明可以包含磷酸、添加劑和水,上述添加劑可以為硅烷(silane)系偶聯(lián)劑。本發(fā)明的上述添加劑的特征在于,使上述添加劑的反應(yīng)位點(activesite)的數(shù)量除以上述添加劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量之后乘以(參照以下數(shù)學式)滿足。本發(fā)明中,各添加劑的反應(yīng)位點(activesite)的數(shù)量和添加劑的水解(hydrolysis)了的形態(tài)的分子量的例子示于表3中。此外,由此計算的各添加劑的aeff值和與此有關(guān)的蝕刻程度的例示示于表2中。參照上述結(jié)果,可以確認到上述添加劑的aeff值推薦滿足。蝕刻液的時刻速率是多少;
所述硫醚系化合物推薦為選自由甲硫氨酸、乙硫氨酸及3-(甲硫基)丙酸所組成的群組中的至少一種。本發(fā)明的蝕刻液推薦進一步含有α-羥基羧酸和/或其鹽。所述α-羥基羧酸推薦為選自由酒石酸、蘋果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸所組成的群組中的至少一種。推薦為,所述酸的濃度為20重量%至70重量%,所述有機硫化合物的濃度為%至10重量%。另外,所述α-羥基羧酸和/或其鹽的濃度推薦為%至5重量%。另外,本發(fā)明涉及一種使用所述蝕刻液在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦的蝕刻方法。發(fā)明的效果本發(fā)明的蝕刻液可在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦。另外,本發(fā)明的蝕刻液實質(zhì)上不含氫氟酸及過氧化氫,因此毒性低,保存穩(wěn)定性優(yōu)異。具體實施方式本發(fā)明的蝕刻液為含有選自由硫酸、鹽酸及三氯乙酸所組成的群組中的至少一種酸與選自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所組成的群組中的至少一種有機硫化合物的水溶液。所述酸中,從蝕刻速度的穩(wěn)定性及酸的低揮發(fā)性的觀點來看,推薦為硫酸。酸的濃度并無特別限制,推薦為20重量%至70重量%,更推薦為30重量%至60重量%。在酸的濃度小于20重量%的情況下,有無法獲得充分的鈦蝕刻速度的傾向,在超過70重量%的情況下,有蝕刻液的安全性成問題的傾向。蘇州博洋化學股份專業(yè)生產(chǎn)BOE蝕刻液。安慶天馬用的蝕刻液蝕刻液推薦貨源
剝離液是用于光刻膠剝離用的化學品。南京鋁鉬鋁蝕刻液蝕刻液銷售價格
并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由該復數(shù)個宣泄孔121落下造成該基板20的蝕刻不均等異?,F(xiàn)象,確實達到保有原始擋液板的擋液效果,以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板而導致該基板20刮傷或破片風險等主要優(yōu)勢。該蝕刻設(shè)備1可進一步設(shè)置有一噴灑裝置50,該噴灑裝置50設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,且該基板20設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的下方約8毫米至15毫米之間,其中該噴灑裝置50用以噴灑一藥液51至該基板20上,以對該基板20進行一濕式蝕刻制程;由上述的說明,擋液板結(jié)構(gòu)10的設(shè)置即是為了避免噴灑裝置50的藥液51繼續(xù)對已經(jīng)完成蝕刻步驟的基板20再進行蝕刻制程,故仍舊會有少量的藥液51噴灑在擋液板結(jié)構(gòu)10上而留下該藥液51的水滴,而該藥液51的水滴亦不能落入該基板20上,以避免該基板20的蝕刻不均的現(xiàn)象產(chǎn)生。該輸送裝置30設(shè)置于該基板20的下方,該輸送裝置30包括有至少一滾輪31,其中該滾輪31與該基板20接觸以運行該基板20;在本實用新型其一較佳實施例中,該輸送裝置30用以承載并運送至少一該基板20于該濕式蝕刻機內(nèi)運行,并接受濕式蝕刻的噴灑裝置50的制程運作,故該輸送裝置30具有一驅(qū)動機構(gòu)(圖式未標示)以驅(qū)動該滾輪31轉(zhuǎn)動,例如:順時針旋轉(zhuǎn)。南京鋁鉬鋁蝕刻液蝕刻液銷售價格