蘇州鋁鉬鋁蝕刻液剝離液按需定制

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-08-26

本發(fā)明提供的光刻膠剝離去除方法第二實(shí)施例,用于半導(dǎo)體制造工藝中,可應(yīng)用于包括但不限于mos、finfet等所有現(xiàn)有技術(shù)中涉及光刻膠剝離去除的生產(chǎn)步驟,主要包括以下步驟:s1,在半導(dǎo)體襯底上淀積一層二氧化硅薄膜作為介質(zhì)層;s2,旋涂光刻膠并曝光顯影,形成光刻圖形阻擋層;s3,執(zhí)行離子注入,離子注入劑量范圍為1×1013cm-2~1×1016cm-2。s4,采用氮?dú)浠旌蠚怏w執(zhí)行等離子刻蝕,對光刻膠進(jìn)行干法剝離,氫氮混合比例范圍為4:96~30:70。s5,對襯底表面進(jìn)行清洗,清洗液采用氧化硫磺混合物溶液和過氧化氨混合物溶液。本發(fā)明提供的光刻膠剝離去除方法第三實(shí)施例,用于半導(dǎo)體制造工藝中,可應(yīng)用于包括但不限于mos、finfet等所有現(xiàn)有技術(shù)中涉及光刻膠剝離去除的生產(chǎn)步驟,主要包括以下步驟:s1,在半導(dǎo)體襯底上淀積一層二氧化硅薄膜作為介質(zhì)層;s2,旋涂光刻膠并曝光顯影,形成光刻圖形阻擋層;s3,執(zhí)行離子注入,離子注入劑量范圍為1×1013cm-2~1×1016cm-2。s4,采用氮?dú)浠旌蠚怏w執(zhí)行等離子刻蝕,對光刻膠進(jìn)行干法剝離,氫氮混合比例范圍為4:96~30:70。s5,對硅片執(zhí)行單片排序清洗,清洗液采用h2so4:h2o2配比范圍為6:1~4:1且溫度范圍為110℃~140℃的過氧化硫磺混合物溶液。剝離液的使用效果有哪些;蘇州鋁鉬鋁蝕刻液剝離液按需定制

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,特別是涉及一種用于包括但不限于半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中光刻膠去除步驟的光刻膠剝離去除方法。背景技術(shù):光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料,是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的也稱為光致抗蝕劑、光阻等,其作用是作為抗刻蝕層保護(hù)襯底表面。光刻膠廣泛應(yīng)用于集成電路(ic)、封裝(packaging)、微機(jī)電系統(tǒng)(mems)、光電子器件光子器件(optoelectronics/photonics)、平板顯示其(led、lcd、oled)和太陽能光伏(solarpv)等領(lǐng)域。在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,離子注入層光刻膠(參考圖2)在經(jīng)過高劑量或大分子量的源種注入后(參考圖3),會(huì)在光刻膠的外層形成一層硬殼(參考圖4)本發(fā)明命名為主要光刻膠層?,F(xiàn)有的離子注入層光刻膠在經(jīng)過氧氣灰化干法剝離時(shí),由于等離子氧與光刻膠反應(yīng)速率很高,會(huì)有一部分等離子氧先穿透主要光刻膠層到達(dá)第二光刻膠層,在與第二光刻膠層反應(yīng)后在內(nèi)部產(chǎn)生大量氣體,第二層光刻膠膨脹(參考圖5),主要光刻膠層終因承受不住內(nèi)層巨大的氣壓而爆裂,爆裂的光刻膠有一定的概率掉落在臨近的光刻膠上(參考圖6),導(dǎo)致此交疊的光刻膠不能法剝離干凈。在經(jīng)過后續(xù)批作業(yè)的濕法剝離后會(huì)產(chǎn)生殘余物。廣東中芯國際用剝離液報(bào)價(jià)剝離液的發(fā)展趨勢如何。

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本發(fā)明涉及能夠從施加有抗蝕劑的基材剝離抗蝕劑的抗蝕劑的剝離液。背景技術(shù)::印刷布線板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蝕劑等抗蝕劑的剝離液中,伴隨微細(xì)布線化而使用胺系的剝離液。然而,以往的胺系的抗蝕劑的剝離液有廢液處理性難、海外的法規(guī)制度的問題,而避免其使用。近年來,為了避免胺系的抗蝕劑的剝離液的問題點(diǎn),還報(bào)道了一種含有氫氧化鈉和溶纖劑的剝離液(專利文獻(xiàn)1),由于剝離時(shí)的抗蝕劑沒有微細(xì)地粉碎,因此存在近年的微細(xì)的布線間的抗蝕劑難以除去的問題點(diǎn)。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1:日本特開2002-323776號公報(bào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:發(fā)明要解決的問題因此,本發(fā)明的課題在于,提供容易除去微細(xì)的布線間的抗蝕劑的技術(shù)。用于解決問題的手段本發(fā)明人等為了解決上述課題而深入研究的結(jié)果發(fā)現(xiàn),含有鉀鹽和溶纖劑的溶液與專利文獻(xiàn)1那樣的含有氫氧化鈉和溶纖劑的溶液相比,即使是非常微細(xì)的布線間的抗蝕劑也能細(xì)小地粉碎,從而完成本發(fā)明。即,本發(fā)明涉及一種抗蝕劑的剝離液,其特征在于,含有鉀鹽和溶纖劑。另外,本發(fā)明涉及一種抗蝕劑的除去方法,其特征在于,用上述抗蝕劑的剝離液處理施加有抗蝕劑的基材。

本申請涉及半導(dǎo)體工藝技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種剝離液機(jī)臺(tái)及其工作方法。背景技術(shù):剝離(lift-off)工藝通常用于薄膜晶體管(thinfilmtransistor)制程中的光罩縮減,lift-off先形成光阻并圖案化,再在光阻上成膜,移除光阻的同時(shí),沉積在光阻上的膜層也被剝離,從而完成膜層的圖形化,通過該制程可以實(shí)現(xiàn)兩次光刻合并為一次以達(dá)到光罩縮減的目的?,F(xiàn)有技術(shù)中,由于光阻上沉積了薄膜(該薄膜材料可以為金屬,ito(氧化銦錫)等用于制備tft的膜層),在剝離光阻的同時(shí)薄膜碎屑被帶入剝離液(stripper)中,大量的薄膜碎屑將會(huì)導(dǎo)致剝離液機(jī)臺(tái)中的過濾器(filter)堵塞,從而導(dǎo)致機(jī)臺(tái)無法使用,并且需要停止所有剝離液機(jī)臺(tái)的工作,待將filter清理后再次啟動(dòng),降低了生產(chǎn)效率。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本申請實(shí)施例提供一種剝離液機(jī)臺(tái)及其工作方法,可以提高生產(chǎn)效率。本申請實(shí)施例提供一種剝離液機(jī)臺(tái),包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應(yīng)連接一存儲(chǔ)箱;過濾器,所述過濾器的一端設(shè)置通過管道與當(dāng)前級腔室對應(yīng)的存儲(chǔ)箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級腔室連接;其中,至少在所述管道或所述第二管道上設(shè)置有閥門開關(guān)。在一些實(shí)施例中。剝離液是一種用去去除光刻膠的化學(xué)品。

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以往的光刻膠剝離液對金屬的腐蝕較大,可能進(jìn)入疊層內(nèi)部造成線路減薄,藥液殘留,影響產(chǎn)品的質(zhì)量。因此有必要開發(fā)一種不會(huì)對疊層晶圓產(chǎn)生過腐蝕的光刻膠剝離液。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本發(fā)明的主要目的在于提供一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液,既具有較高的光刻膠剝離效率,又不會(huì)對晶圓內(nèi)層有很大的腐蝕。本發(fā)明通過如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)上述目的:一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液,配方包括10~20wt%二甲基亞砜,10~20wt%一乙醇胺,5~11wt%四甲基氫氧化銨,~1wt%硫脲類緩蝕劑和~2wt%聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑,5~15wt%n-甲基吡咯烷酮和余量的去離子水。具體的。剝離液的類別一般有哪些。合肥哪家剝離液訂做價(jià)格

如何選擇一家好的做剝離液的公司。蘇州鋁鉬鋁蝕刻液剝離液按需定制

本發(fā)明**技術(shù)公開了一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置,包括主支撐架、橫向支架、伺服變頻電機(jī)、電機(jī)減速箱、印刷品放置箱、表面印刷結(jié)構(gòu)、膠面剝離結(jié)構(gòu),所述主支撐架上方設(shè)置有所述橫向支架,所述橫向支架上方設(shè)置有所述伺服變頻電機(jī),所述卷邊輥一側(cè)安裝有膠面收卷輥,所述膠面剝離結(jié)構(gòu)一側(cè)安裝有電加熱箱,所述電加熱箱下方安裝有熱風(fēng)噴頭,所述熱風(fēng)噴頭下方安裝有干燥度感應(yīng)器,所述干燥度感應(yīng)器下方安裝有電氣控制箱,所述電氣控制箱上方安裝有液晶操作面板。有益效果在于:采用黏合方式對印刷品膠面印刷進(jìn)行剝離,同時(shí)能夠?qū)τ∷⑵纺z面進(jìn)行回收,節(jié)約了大量材料,降低了生產(chǎn)成本。AprintedpeelingcompounddeviceforprintingsurfaceprintingTheinventiondisclosesaprintedpeelingstrippingcompounddevice,whichincludesamainsupportframe,alateralbracket,aservomotor,amotordecelerationbox,aprintingbox,【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置本**技術(shù)涉及印刷品加工設(shè)備領(lǐng)域,本**技術(shù)涉及一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置。技術(shù)介紹膠面印又稱膠上印。郵票圖案誤印在涂有背膠的一面。在郵票印刷過程中,不慎將郵票**涂膠紙放反而造成。郵票膠面印后。蘇州鋁鉬鋁蝕刻液剝離液按需定制