廣東深圳環(huán)保型電鍍設(shè)備

半導(dǎo)體掛鍍設(shè)備

1.基本原理與結(jié)構(gòu)

掛鍍工藝：晶圓固定在掛具上，浸入電鍍液，通過精細(xì)控制電流、電壓及溶液成分，在表面沉積均勻金屬層。

組件：

電鍍槽：耐腐蝕材質(zhì)，配備溫控、循環(huán)過濾系統(tǒng)，維持鍍液均勻性

掛具與陽極：鈦或鉑金陽極，掛具設(shè)計適配晶圓尺寸，確保電場分布均勻

自動化傳輸：機(jī)械臂自動上下料，減少人工污染風(fēng)險

控制系統(tǒng)：PLC/計算機(jī)實時調(diào)控電流密度、電鍍時間、pH值等參數(shù)

2. 關(guān)鍵技術(shù)優(yōu)勢

高均勻性：通過脈沖電鍍或水平電鍍技術(shù)（如ECP），減少邊緣效應(yīng)，實現(xiàn)亞微米級鍍層均勻性

低缺陷率：鍍液雜質(zhì)控制（＜0.1ppm）與膜厚在線監(jiān)測，降低孔洞、結(jié)節(jié)等缺陷

高產(chǎn)能：支持多晶圓并行處理

3. 典型應(yīng)用場景

芯片制造：

銅互連：在邏輯芯片中沉積多層銅導(dǎo)線，替代傳統(tǒng)鋁工藝以降低電阻

TSV填充：為3D封裝提供垂直導(dǎo)電通道，實現(xiàn)芯片堆疊

先進(jìn)封裝：

凸塊電鍍：在晶圓表面形成錫、銅柱凸塊，用于Flip-Chip鍵合

RDL（重布線層）：沉積銅層實現(xiàn)芯片I/O端口的重新布局

總結(jié)

半導(dǎo)體掛鍍設(shè)備通過精密電化學(xué)控制與自動化技術(shù)，解決了納米級金屬沉積的均勻性與可靠性難題，是先進(jìn)芯片制造與封裝的裝備。其性能直接關(guān)聯(lián)芯片的導(dǎo)電性、散熱及良率 脈沖電化學(xué)拋光設(shè)備結(jié)合電鍍與拋光功能，通過瞬間高電流溶解凸起部分，實現(xiàn)鏡面級鍍層表面。廣東深圳環(huán)保型電鍍設(shè)備

全自動磷化線

一種用于金屬表面處理的自動化生產(chǎn)線，通過化學(xué)磷化工藝在金屬表面形成一層磷酸鹽轉(zhuǎn)化膜，以提升金屬的耐腐蝕性、涂裝附著力和潤滑性能

一、基本概念

1.磷化（Phosphating）是一種化學(xué)表面處理技術(shù)，利用磷酸鹽溶液與金屬（如鋼鐵、鋅、鋁等）發(fā)生反應(yīng)，生成一層致密的磷酸鹽晶體膜（如磷酸鐵、磷酸鋅）

功能：防銹、增強(qiáng)涂層附著力、減少摩擦、延長金屬壽命

2.全自動磷化線通過自動化設(shè)備實現(xiàn)磷化工藝全流程無人化操作，覆蓋預(yù)處理、磷化、后處理等環(huán)節(jié)。

二、組成

1.預(yù)處理單元

脫脂槽：去除金屬表面油污

酸洗槽：氧化皮和銹跡

水洗槽：沖洗殘留化學(xué)藥劑

2.磷化處理單元

磷化槽：主反應(yīng)區(qū)，金屬浸泡或噴淋磷化液，生成轉(zhuǎn)化膜

溫度與濃度控制：通過傳感器和自動加藥系統(tǒng)維持工藝參數(shù)穩(wěn)定

3.后處理單元

封閉/鈍化槽：增強(qiáng)磷化膜耐腐蝕性

烘干系統(tǒng)：熱風(fēng)或紅外烘干，避免水痕殘留

4.自動化系統(tǒng)

輸送裝置：傳送帶、機(jī)械臂或懸掛鏈，精細(xì)控制工件移動

PLC控制：集成溫控、液位監(jiān)測、流程時序管理

數(shù)據(jù)監(jiān)控：實時記錄工藝參數(shù)，支持遠(yuǎn)程操作與故障診斷

三、工作流程

上料 → 脫脂 → 水洗 → 酸洗 → 水洗 → 表調(diào)（調(diào)整表面活性）→ 磷化 → 水洗 → 鈍化 → 烘干 → 下料。

廣東深圳環(huán)保型電鍍設(shè)備連續(xù)鍍生產(chǎn)線的導(dǎo)電輥鍍覆耐磨碳鎢涂層，降低鋼帶傳輸摩擦，避免劃傷與鍍層缺陷。

半導(dǎo)體滾鍍與傳統(tǒng)滾鍍的區(qū)別：

 對比項                              傳統(tǒng)滾鍍                                          半導(dǎo)體滾鍍                                                對象                     小型金屬零件（螺絲、紐扣等）               晶圓、芯片、微型半導(dǎo)體元件                               精度                               微米級                                             納米級（≤100nm）                                       潔凈度                          普通工業(yè)環(huán)境                                         無塵室（Class100~1000）                         工藝控制                    電流/時間粗調(diào)                                       實時閉環(huán)控制（電流、流量、溫度）               鍍液類型                      酸性/堿性鍍液                                      高純度鍍液（低雜質(zhì)）

發(fā)展趨勢：

大尺寸晶圓兼容：適配12英寸（300mm）晶圓，向18英寸過渡。環(huán)保鍍液：無物、低毒配方，減少廢水處理壓力。智能化集成：AI工藝優(yōu)化：通過機(jī)器學(xué)習(xí)預(yù)測鍍層缺陷。與CMP（化學(xué)機(jī)械拋光）、PVD設(shè)備聯(lián)動，形成全自動金屬化產(chǎn)線

總結(jié)：

半導(dǎo)體滾鍍設(shè)備是封裝與芯片制造的關(guān)鍵裝備，通過精密旋轉(zhuǎn)與鍍液控制，實現(xiàn)納米級金屬鍍層的均勻沉積。其技術(shù)在于潔凈環(huán)境下的高精度工藝控制

半導(dǎo)體滾鍍設(shè)備

是一種于半導(dǎo)體制造中金屬化工藝的精密設(shè)備，主要用于在半導(dǎo)體晶圓、芯片或微型元件表面沉積均勻的金屬鍍層。其在于通過可控的電化學(xué)或化學(xué)鍍工藝，實現(xiàn)高精度、高一致性的金屬覆蓋，滿足集成電路封裝、先進(jìn)封裝及微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域的特定需求

與傳統(tǒng)滾鍍不同，半導(dǎo)體滾鍍更注重工藝潔凈度、鍍層精度及與半導(dǎo)體材料的兼容性。

二、功能

1.金屬互連：在晶圓上形成銅導(dǎo)線。

2.凸塊制備：沉積錫、銅、金等材料，用于芯片與基板的電氣連接。

3.阻擋層/種子層鍍覆：鍍鈦、鉭等材料，防止金屬擴(kuò)散并增強(qiáng)附著力。

三、設(shè)備組成

1.電鍍槽：

材質(zhì)：耐腐蝕材料，避免污染鍍液

鍍液循環(huán)系統(tǒng)：維持鍍液成分均勻，過濾顆粒雜質(zhì)

2.旋轉(zhuǎn)載具：

晶圓固定裝置：真空吸附或機(jī)械夾持，確保晶圓平穩(wěn)旋轉(zhuǎn)

轉(zhuǎn)速控制：通過伺服電機(jī)調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速，優(yōu)化鍍層均勻性

3.陽極系統(tǒng)：

可溶性/不溶性陽極：銅、鉑等材料，依鍍層需求選擇

陽極位置調(diào)節(jié)：控制電場分布，減少邊緣效應(yīng)

4.供液與噴淋系統(tǒng)：

多點噴淋頭：均勻分配鍍液至晶圓表面，避免氣泡滯留

流量控制：精確調(diào)節(jié)鍍液流速，匹配不同工藝需求

5.控制系統(tǒng)：

PLC/工控機(jī)：集成溫度、pH值、電流密度等參數(shù)監(jiān)測與反饋。

配方管理：存儲不同鍍層的工藝參數(shù) 環(huán)保型電鍍設(shè)備的廢氣收集系統(tǒng)采用蜂窩狀活性炭吸附塔，深度處理酸霧廢氣，確保排放達(dá)標(biāo)。

電鍍設(shè)備是通過電解反應(yīng)在物體表面沉積金屬層的裝置，用于形成保護(hù)性或功能性涂層。

其系統(tǒng)包括：

電解電源：提供0-24V直流電，電流可達(dá)數(shù)千安培，適配不同鍍種需求；

電解槽：耐腐蝕材質(zhì)（如PP/PVDF），雙層防漏設(shè)計，容積0.5-10m3；

電極系統(tǒng)：陽極采用可溶性金屬或不溶性鈦籃，陰極掛具定制設(shè)計，確保接觸電阻＜0.1Ω；

控制系統(tǒng)：精細(xì)溫控（±1℃）、pH監(jiān)測（±0.1）及鍍層厚度管理。

設(shè)備分類：

掛鍍線：精密件加工，厚度均勻性±5%；

滾鍍系統(tǒng)：小件批量處理，效率3-8㎡/h；

連續(xù)電鍍線：帶材/線材高速生產(chǎn)，產(chǎn)能達(dá)30㎡/h；選擇性電鍍：數(shù)控噴射，局部鍍層精度±3%。技術(shù)前沿：脈沖電鍍：納米晶結(jié)構(gòu)（晶粒＜50nm），孔隙率降低60%；

復(fù)合電鍍：添加納米顆粒（SiC/Al?O?），硬度達(dá)HV1200；智能化：機(jī)器視覺定位（±0.1mm），大數(shù)據(jù)實時優(yōu)化工藝。環(huán)保與應(yīng)用：閉路水循環(huán)（回用率＞90%）及重金屬回收技術(shù)；汽車（耐鹽霧＞720h）、PCB（微孔鍍銅偏差＜8%）、航空航天（耐溫800℃）等領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。設(shè)備正向高精度、低能耗、智能化發(fā)展，納米電鍍等新技術(shù)持續(xù)突破工藝極限。選型需結(jié)合基材特性、鍍層需求及成本綜合考量。 無氰電鍍設(shè)備配套活化劑與絡(luò)合劑，替代傳統(tǒng)含氰工藝，在保障鍍層質(zhì)量的同時提升安全性。環(huán)保型電鍍設(shè)備供應(yīng)商

滾鍍設(shè)備采用帶孔滾筒裝載小工件，旋轉(zhuǎn)翻滾中完成電鍍，高效處理螺絲、電子元件等批量小件。廣東深圳環(huán)保型電鍍設(shè)備

廢氣處理設(shè)備和電鍍設(shè)備的關(guān)系

廢氣處理設(shè)備是電鍍設(shè)備不可或缺的配套設(shè)施，在電鍍生產(chǎn)過程中發(fā)揮著重要作用，具體關(guān)系如下：

保障環(huán)境與人員安全：

電鍍過程中會產(chǎn)生如酸霧、堿霧、物氣體等有害廢氣。若不進(jìn)行處理，這些廢氣會彌漫在車間內(nèi)，不僅會對操作人員的身體健康造成嚴(yán)重危害。廢氣處理設(shè)備通過收集和凈化這些有害廢氣，能將車間內(nèi)的空氣質(zhì)量維持在安全標(biāo)準(zhǔn)范圍內(nèi)，同時確保排放到大氣中的廢氣符合環(huán)保要求，從而保護(hù)環(huán)境和人員健康。

保護(hù)電鍍設(shè)備：

電鍍車間內(nèi)的酸性或堿性廢氣具有腐蝕性，長期暴露在這些廢氣中，電鍍設(shè)備如鍍槽、整流器、加熱裝置等的金屬部件會被腐蝕，導(dǎo)致設(shè)備的使用壽命縮短，維修成本增加。

廢氣處理設(shè)備有效去除有害廢氣，減少對電鍍設(shè)備的腐蝕，保障電鍍生產(chǎn)的穩(wěn)定進(jìn)行。

提升電鍍產(chǎn)品質(zhì)量：

如果車間內(nèi)廢氣彌漫，空氣中的灰塵、雜質(zhì)等容易吸附在待鍍工件表面，影響鍍層與工件的結(jié)合力，導(dǎo)致鍍層出現(xiàn)麻點、、起皮等缺陷，降低電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量和良品率。廢氣處理設(shè)備有助于保持車間內(nèi)空氣的清潔，減少空氣中雜質(zhì)對鍍件的污染

滿足環(huán)保合規(guī)要求：

隨著環(huán)保法規(guī)的日益嚴(yán)格，電鍍企業(yè)必須確保其生產(chǎn)過程中的廢氣排放達(dá)到國家和地方的環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)。

廣東深圳環(huán)保型電鍍設(shè)備