功率電子清洗劑能否去除銅基板表面的有機(jī)硅殘留,取決于清洗劑的成分與有機(jī)硅的固化狀態(tài)。有機(jī)硅殘留多為硅氧烷聚合物,未完全固化時(shí)呈黏流態(tài),含氟表面活性劑或特定溶劑的水基清洗劑可通過(guò)乳化、滲透作用將其剝離;若經(jīng)高溫固化形成交聯(lián)結(jié)構(gòu),普通清洗劑難以溶解,需選用含極性溶劑(如醇醚類)的復(fù)配型清洗劑,利用相似相溶原理破壞硅氧鍵,配合超聲波清洗的機(jī)械力增強(qiáng)去除效果。銅基板表面的有機(jī)硅殘留若長(zhǎng)期附著,會(huì)影響散熱與焊接性能,質(zhì)量功率電子清洗劑通過(guò)表面活性劑、螯合劑與助溶劑的協(xié)同作用,可有效分解有機(jī)硅聚合物,同時(shí)添加緩蝕劑保護(hù)銅基板不被腐蝕。實(shí)際應(yīng)用中,需根據(jù)有機(jī)硅殘留的厚度與固化程度調(diào)整清洗參數(shù),確保在去除殘留的同時(shí),不損傷銅基板的導(dǎo)電與散熱特性。專為新能源汽車 IGBT 模塊打造,清洗后大幅提升電能轉(zhuǎn)化效率。江西中性功率電子清洗劑技術(shù)指導(dǎo)
高可靠性車載IGBT模塊的清洗劑需滿足多項(xiàng)車規(guī)級(jí)認(rèn)證與測(cè)試標(biāo)準(zhǔn),以確保在嚴(yán)苛環(huán)境下的長(zhǎng)期可靠性:清潔度認(rèn)證需符合ISO16232-5(顆粒計(jì)數(shù)≤5顆/cm2,μm級(jí)檢測(cè))和(通過(guò)壓力流體沖洗或超聲波萃取顆粒,顆粒尺寸分析精度達(dá)5μm),確保清洗劑殘留不會(huì)導(dǎo)致電路短路或機(jī)械磨損67。例如,清洗劑需通過(guò)真空干燥和納米過(guò)濾技術(shù),將殘留量控制在<10ppm,滿足8級(jí)潔凈度要求3。環(huán)保與化學(xué)兼容性需通過(guò)REACH法規(guī)(注冊(cè)、評(píng)估和限制有害物質(zhì))和RoHS指令(限制鉛、汞等重金屬),確保清洗劑不含鹵素、苯系物等有害成分510。同時(shí),需通過(guò)UL94阻燃等級(jí)認(rèn)證,避免清洗劑在高溫環(huán)境下引發(fā)火災(zāi)風(fēng)險(xiǎn)3。材料兼容性測(cè)試需通過(guò)銅腐蝕測(cè)試(GB/T5096)和橡膠/塑料溶脹測(cè)試(GB/T23436),確保清洗劑對(duì)IGBT模塊的陶瓷基板、金屬引腳及封裝膠無(wú)腐蝕或溶脹風(fēng)險(xiǎn)。例如,含苯并三氮唑(BTA)的緩蝕劑可將銅腐蝕率控制在<μm/h10。長(zhǎng)期可靠性驗(yàn)證需模擬車載環(huán)境進(jìn)行高溫高濕偏置測(cè)試(THB)和溫度循環(huán)測(cè)試(TC),驗(yàn)證清洗劑在-40℃~150℃極端條件下的穩(wěn)定性。例如,溶劑型清洗劑需通過(guò)AEC-Q100類似的應(yīng)力測(cè)試,確保其揮發(fā)特性和化學(xué)穩(wěn)定性符合車規(guī)要求12。 湖南有哪些類型功率電子清洗劑銷售高性價(jià)比 Micro LED 清洗劑,以更低成本實(shí)現(xiàn)更好品質(zhì)清潔。
清洗IGBT模塊的高鉛錫膏殘留,溶劑型清洗劑更適合。高鉛錫膏含鉛錫合金粉末(熔點(diǎn)約183℃)和助焊劑(以松香、有機(jī)酸為主),其殘留具有脂溶性強(qiáng)、易附著于陶瓷基板與金屬引腳縫隙的特點(diǎn)。溶劑型清洗劑(如改性醇醚或碳?xì)淙軇?duì)松香類有機(jī)物溶解力強(qiáng),能快速滲透至IGBT模塊的柵極、源極引腳間隙,瓦解錫膏殘留的黏性結(jié)構(gòu)。且溶劑表面張力低(通常<25mN/m),可深入0.1mm以下的細(xì)微縫隙,配合超聲波清洗(30-40kHz)能徹底剝離殘留,避免因清洗不凈導(dǎo)致的電路短路風(fēng)險(xiǎn)。水基清洗劑雖環(huán)保,但對(duì)脂溶性助焊劑的溶解力較弱,且高鉛錫膏中的鉛氧化物遇水可能形成氫氧化物沉淀,反而造成二次污染。此外,IGBT模塊的PCB板若防水性不足,水基清洗后易殘留水分,影響電氣性能。因此,針對(duì)高鉛錫膏殘留,溶劑型清洗劑更能滿足IGBT模塊的精密清洗需求。編輯分享
清洗 SiC 芯片時(shí),清洗劑 pH 值超過(guò) 9 可能損傷表面金屬化層,具體取決于金屬化材料及暴露時(shí)間。SiC 芯片常用金屬化層為鈦(Ti)、鎳(Ni)、金(Au)等多層結(jié)構(gòu),其中鈦和鎳在堿性條件下穩(wěn)定性較差:pH>9 時(shí),OH?會(huì)與鈦反應(yīng)生成可溶性鈦酸鹽(如 Na?TiO?),導(dǎo)致鈦層溶解(腐蝕速率隨 pH 升高而加快,pH=10 時(shí)溶解率是 pH=8 時(shí)的 5 倍以上);鎳則會(huì)發(fā)生氧化反應(yīng)(Ni + 2OH? → Ni (OH)? + 2e?),形成疏松的氫氧化鎳膜,破壞金屬化層連續(xù)性。金雖耐堿性較強(qiáng),但高 pH 值(>11)會(huì)加速其底層鈦 / 鎳的腐蝕,導(dǎo)致金層剝離。實(shí)驗(yàn)顯示:pH=9.5 的清洗劑處理 SiC 芯片 3 分鐘后,鈦層厚度減少 10%-15%,金屬化層導(dǎo)電性下降 8%-12%;若延長(zhǎng)至 10 分鐘,可能出現(xiàn)局部露底(SiC 基底暴露)。因此,清洗 SiC 芯片的清洗劑 pH 值建議控制在 6.5-8.5,若需堿性條件,應(yīng)限制 pH≤9 并縮短清洗時(shí)間(<2 分鐘),同時(shí)添加金屬緩蝕劑(如苯并三氮唑)降低腐蝕風(fēng)險(xiǎn)。推出定制化包裝,方便不同規(guī)模企業(yè)取用,減少浪費(fèi)。
普通電子清洗劑不能隨意替代功率電子清洗劑,兩者在配方和適用范圍上存在本質(zhì)區(qū)別。配方上,普通電子清洗劑多以單一溶劑(如異丙醇、酒精)或低濃度表面活性劑為主,側(cè)重去除輕度灰塵、指紋等污染物,對(duì)高溫氧化層、焊錫膏殘留的溶解力弱;功率電子清洗劑則采用復(fù)配體系,含高效溶劑(如乙二醇丁醚)、螯合劑(如EDTA衍生物)和緩蝕劑,能針對(duì)性分解功率器件特有的高溫碳化助焊劑、硅脂油污,且對(duì)銅、鋁等金屬材質(zhì)無(wú)腐蝕。適用范圍上,普通清洗劑適合清洗PCB板表面、連接器等低功率器件,而功率電子清洗劑專為IGBT、MOSFET等大功率器件設(shè)計(jì),可應(yīng)對(duì)其高密度引腳縫隙、散熱片凹槽內(nèi)的頑固污染物,且能耐受功率器件清洗時(shí)的高溫(40-55℃)環(huán)境,避免因配方不穩(wěn)定導(dǎo)致清洗失效。若用普通清洗劑替代,易出現(xiàn)殘留去除不徹底、器件腐蝕等問(wèn)題,影響功率電子設(shè)備的可靠性。同等清潔效果下,我們的清洗劑價(jià)格更優(yōu),為您帶來(lái)超值體驗(yàn)。湖南有哪些類型功率電子清洗劑銷售
泡沫少,減少水漬殘留,避免電路短路風(fēng)險(xiǎn),清潔更安全。江西中性功率電子清洗劑技術(shù)指導(dǎo)
清洗 IGBT 模塊的銅基層出現(xiàn)彩虹紋,可能是清洗劑酸性過(guò)強(qiáng)導(dǎo)致,但并非只是這個(gè)原因。酸性過(guò)強(qiáng)時(shí),銅表面會(huì)發(fā)生局部腐蝕,形成氧化亞銅(Cu?O)或氧化銅(CuO)薄膜,不同厚度的氧化層對(duì)光的干涉作用會(huì)呈現(xiàn)彩虹色紋路,尤其當(dāng) pH 值低于 4 時(shí),氫離子濃度過(guò)高易引發(fā)此類現(xiàn)象。但其他因素也可能導(dǎo)致該問(wèn)題:如清洗劑含過(guò)量氧化劑(如過(guò)硫酸鹽),會(huì)加速銅的氧化;清洗后干燥不徹底,殘留水分與銅表面反應(yīng)形成氧化膜;或清洗劑中緩蝕劑失效,無(wú)法抑制銅的電化學(xué)腐蝕。此外,若清洗劑為堿性但含螯合劑(如 EDTA),可能溶解部分氧化層,導(dǎo)致表面粗糙度不均,光線反射差異形成類似紋路。判斷是否為酸性過(guò)強(qiáng),可檢測(cè)清洗劑 pH 值(酸性條件下 pH<7),并觀察紋路是否隨清洗時(shí)間延長(zhǎng)而加深,同時(shí)結(jié)合銅表面是否有局部溶解痕跡(如微小凹坑)綜合判斷。江西中性功率電子清洗劑技術(shù)指導(dǎo)