水基清洗劑清洗功率模塊時,若操作不當(dāng)可能導(dǎo)致鋁鍵合線氧化,但若工藝規(guī)范則可有效避免。鋁鍵合線表面存在一層天然氧化膜(Al?O?),這層薄膜能保護內(nèi)部鋁不被進一步氧化。水基清洗劑若pH值控制不當(dāng)(如堿性過強,pH>9),會破壞這層氧化膜,使新鮮鋁表面暴露在水中,與氧氣、水分發(fā)生反應(yīng)生成疏松的氧化層,導(dǎo)致鍵合強度下降甚至斷裂。此外,若清洗后干燥不徹底,殘留水分會加速鋁的電化學(xué)腐蝕,尤其在高溫高濕環(huán)境下,氧化風(fēng)險更高。反之,選用pH值6.5-8.5的中性水基清洗劑,搭配添加鋁緩蝕劑的配方,可減少對氧化膜的侵蝕。同時,控制清洗溫度(通常40-60℃)、縮短浸泡時間,并采用熱風(fēng)烘干(溫度≤80℃)確保水分完全蒸發(fā),就能在有效去除污染物的同時,保護鋁鍵合線不受氧化影響。編輯分享功率模塊清洗后如何檢測鋁鍵合線是否氧化?鋁緩蝕劑是如何保護鋁鍵合線的?不同類型的功率模塊對清洗劑的離子殘留量要求有何差異?獨特溫和配方,對電子元件無腐蝕,安全可靠,質(zhì)量過硬有保障。佛山功率電子清洗劑行業(yè)報價
清洗 IGBT 模塊的銅基層出現(xiàn)彩虹紋,可能是清洗劑酸性過強導(dǎo)致,但并非只是這個原因。酸性過強時,銅表面會發(fā)生局部腐蝕,形成氧化亞銅(Cu?O)或氧化銅(CuO)薄膜,不同厚度的氧化層對光的干涉作用會呈現(xiàn)彩虹色紋路,尤其當(dāng) pH 值低于 4 時,氫離子濃度過高易引發(fā)此類現(xiàn)象。但其他因素也可能導(dǎo)致該問題:如清洗劑含過量氧化劑(如過硫酸鹽),會加速銅的氧化;清洗后干燥不徹底,殘留水分與銅表面反應(yīng)形成氧化膜;或清洗劑中緩蝕劑失效,無法抑制銅的電化學(xué)腐蝕。此外,若清洗劑為堿性但含螯合劑(如 EDTA),可能溶解部分氧化層,導(dǎo)致表面粗糙度不均,光線反射差異形成類似紋路。判斷是否為酸性過強,可檢測清洗劑 pH 值(酸性條件下 pH<7),并觀察紋路是否隨清洗時間延長而加深,同時結(jié)合銅表面是否有局部溶解痕跡(如微小凹坑)綜合判斷。江門超聲波功率電子清洗劑技術(shù)創(chuàng)新溫和配方,在高效清潔的同時,對 IGBT 模塊無腐蝕,安全可靠。
清洗 IGBT 模塊時,清洗劑殘留會明顯影響導(dǎo)熱性能。殘留的清洗劑(尤其是含油脂、硅類成分的物質(zhì))會在芯片與散熱器接觸面形成隔熱層,降低熱傳導(dǎo)效率,導(dǎo)致模塊工作時溫度升高,長期可能引發(fā)過熱失效。若殘留為離子型物質(zhì),還可能因高溫分解產(chǎn)生雜質(zhì),進一步阻礙熱量傳遞。檢測清洗劑殘留的方法主要有:一是采用離子色譜法,精確測定殘留離子濃度(如 NaCl 當(dāng)量),判斷是否超出 0.75μg/cm2 的安全閾值;二是通過傅里葉變換紅外光譜(FTIR)分析表面有機物殘留;三是熱阻測試,對比清洗前后模塊的導(dǎo)熱系數(shù)變化,若熱阻上升超過 5%,則提示存在不良殘留。此外,肉眼觀察結(jié)合白光干涉儀可檢測表面薄膜狀殘留,確保清洗后的 IGBT 模塊導(dǎo)熱路徑暢通。
功率電子清洗劑的閃點需≥60℃才符合安全生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn),這是避免在電子車間高溫環(huán)境(如靠近焊接設(shè)備、加熱模塊)中引發(fā)火災(zāi)的關(guān)鍵指標(biāo)。根據(jù)《危險化學(xué)品安全管理條例》,閃點<60℃的清洗劑屬于易燃液體,需嚴(yán)格防爆儲存與操作;而閃點≥60℃的產(chǎn)品(如多數(shù)水基清洗劑、高沸點溶劑型清洗劑),在常態(tài)下?lián)]發(fā)性低,火災(zāi)風(fēng)險明顯降低。操作過程中,需從多環(huán)節(jié)防控隱患:儲存時遠離明火與熱源(保持3米以上距離),使用防爆型容器分裝;手工清洗時避免在密閉空間大量噴灑,確保車間通風(fēng)量≥10次/小時;機械清洗(如超聲波清洗)需加裝溫度傳感器,防止清洗劑因設(shè)備過熱(超過閃點溫度)揮發(fā)形成可燃蒸汽;此外,操作人員需配備防靜電手套與棉質(zhì)工作服,避免摩擦產(chǎn)生靜電火花。若使用低閃點清洗劑(如部分溶劑型產(chǎn)品),必須配備防爆排風(fēng)系統(tǒng)與滅火器材,且單次使用量不超過5L,從源頭切斷火災(zāi)觸發(fā)條件。優(yōu)化配方,減少清洗劑揮發(fā)損耗,降低使用成本。
清洗 SiC 芯片時,清洗劑 pH 值超過 9 可能損傷表面金屬化層,具體取決于金屬化材料及暴露時間。SiC 芯片常用金屬化層為鈦(Ti)、鎳(Ni)、金(Au)等多層結(jié)構(gòu),其中鈦和鎳在堿性條件下穩(wěn)定性較差:pH>9 時,OH?會與鈦反應(yīng)生成可溶性鈦酸鹽(如 Na?TiO?),導(dǎo)致鈦層溶解(腐蝕速率隨 pH 升高而加快,pH=10 時溶解率是 pH=8 時的 5 倍以上);鎳則會發(fā)生氧化反應(yīng)(Ni + 2OH? → Ni (OH)? + 2e?),形成疏松的氫氧化鎳膜,破壞金屬化層連續(xù)性。金雖耐堿性較強,但高 pH 值(>11)會加速其底層鈦 / 鎳的腐蝕,導(dǎo)致金層剝離。實驗顯示:pH=9.5 的清洗劑處理 SiC 芯片 3 分鐘后,鈦層厚度減少 10%-15%,金屬化層導(dǎo)電性下降 8%-12%;若延長至 10 分鐘,可能出現(xiàn)局部露底(SiC 基底暴露)。因此,清洗 SiC 芯片的清洗劑 pH 值建議控制在 6.5-8.5,若需堿性條件,應(yīng)限制 pH≤9 并縮短清洗時間(<2 分鐘),同時添加金屬緩蝕劑(如苯并三氮唑)降低腐蝕風(fēng)險??焖贊B透,迅速瓦解油污,清洗效率同行。佛山功率電子清洗劑行業(yè)報價
對 Micro LED 焊點無損傷,保障電氣連接穩(wěn)定性。佛山功率電子清洗劑行業(yè)報價
超聲波清洗功率模塊時間超過 10 分鐘,是否導(dǎo)致焊點松動需結(jié)合功率密度、焊點狀態(tài)及清洗參數(shù)綜合判斷,并非肯定,但風(fēng)險會明顯升高。超聲波清洗通過高頻振動(20-40kHz)產(chǎn)生空化效應(yīng)去污,若功率密度過高(超過 0.1W/cm2),長時間振動會對焊點產(chǎn)生持續(xù)機械沖擊:對于虛焊、焊錫量不足或焊膏未完全固化的焊點,10 分鐘以上的振動易破壞焊錫與引腳 / 焊盤的結(jié)合界面,導(dǎo)致焊點開裂、引腳松動;即使是合格焊點,若清洗槽內(nèi)工件擺放不當(dāng)(如模塊與槽壁碰撞),或清洗劑液位過低(振動能量集中),也可能因局部振動強度過大引發(fā)焊點位移。此外,若清洗溫度超過 60℃,高溫會降低焊錫強度(如無鉛焊錫熔點約 217℃,60℃以上韌性下降),疊加長時間振動會進一步增加松動風(fēng)險。正常工況下,功率模塊超聲波清洗建議控制在 3-8 分鐘,功率密度 0.05-0.08W/cm2,溫度 45-55℃,且清洗后需通過外觀檢查(放大鏡觀察焊點是否開裂)、導(dǎo)通測試(驗證引腳接觸電阻是否正常)排查隱患,若超過 10 分鐘,需逐點檢測焊點可靠性,避免后期模塊工作時出現(xiàn)接觸不良、發(fā)熱等問題。佛山功率電子清洗劑行業(yè)報價