面漆真空鍍層通常較薄(不超過0.2μm)，耐磨性等力學(xué)性能較差。面漆不僅起到保護(hù)鍍層的作用，還可賦予真空鍍膜制品良好的硬度、耐磨性等力學(xué)性能。面漆的主要性能要求包括：（1）對鍍層有較高的附著力，這是涂層起保護(hù)作用的基礎(chǔ);（2）應(yīng)具有足夠的耐磨性，以保護(hù)極薄的真空鍍層免受機(jī)械擦傷;（3）具有較高的阻隔性，即本身要具有較好的耐水、耐腐蝕性及耐候性，阻止氧氣等對鍍膜有腐蝕性的物質(zhì)直接接觸真空鍍層，保護(hù)鍍層免受腐蝕;（4）面漆組成本身不能含有可能腐蝕鍍層的組分或雜質(zhì);（5）對于需要突出光亮度的真空鍍膜場合，面漆也應(yīng)保證有較高的透明性和表面光澤。某些真空鍍膜工藝無需面漆，如鍍膜材料為鉻、不銹鋼時，其鍍層耐腐蝕性好、硬度高且耐劃傷性強(qiáng)，因此對制品性能要求不高時，可不必涂裝面漆。一種塑料表面真空鍍膜方法與流程。中山市塑料真空鍍膜技術(shù)
UV鍍膜生產(chǎn)工藝的流程及參數(shù)：一：檢查線體，確認(rèn)各系統(tǒng)（除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化）運(yùn)轉(zhuǎn)正常；二：清洗基材表面，去除油污（用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面，并立即干燥）；三：基材靜電除塵；四：噴涂底漆，膜厚：10～30微米，可根據(jù)具體基材和要求調(diào)整；五：在30℃～70℃的紅外環(huán)境下的流平5～15分鐘；六：UV固化，曝光能量：600～1200mJ/cm2；七：下線，稍冷卻，真空鍍膜（銦、銦-錫、鋁等）；八：鍍膜完畢靜置冷卻（一般≥5分鐘，不超過4小時），再上中漆線體，或直接上面漆線體；九：噴涂中漆，膜厚：4～12微米，可根據(jù)需要添加色漿；十：在30℃～70℃的紅外環(huán)境下的流平5～15分鐘；十一：UV固化，曝光能量：300～800mJ/cm2；十二：噴涂面漆，膜厚：10～30微米，可根據(jù)需要添加色漿或啞漿；十三：在30℃～70℃的紅外環(huán)境下的流平5～15分鐘；十四：UV固化，曝光能量：800～1500mJ/cm2（顏色越深，所需能量越高）；十五：下線檢測。山西陶瓷真空鍍膜公司PVD鍍膜主要分為真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜。
真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。真空鍍膜機(jī)的真空鍍膜技術(shù)在很大程度上決定著燈的性能和使用壽命。這對于霓虹燈也不例外，在霓虹燈的制造中，真空鍍膜設(shè)備真空技術(shù)是決定霓虹燈質(zhì)量的關(guān)鍵因素之一。因此，對于霓虹燈制造來說，了解真空鍍膜機(jī)真空技術(shù)的物理內(nèi)容、熟悉真空工藝和材料、熟練掌握真空系統(tǒng)的正確操作是十分有必要的。霓虹燈制造中對于真空鍍膜機(jī)真空技術(shù)的要求與一般電光源制造中對于真空鍍膜技術(shù)的要求幾乎是相同的，即獲得真空與保持真空。
UV電鍍噴涂與塑料真空鍍膜的區(qū)別主要概括如下：一，UV電鍍噴涂工藝簡單、綠色環(huán)保、用途普遍、是一種原料可回收利用的表面處理技術(shù)。各項指標(biāo)都按照電鍍行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)做了相應(yīng)的檢測，各種檢測報告完全符合國內(nèi)外電鍍行業(yè)的要求。噴金鍍鉻機(jī)技術(shù)噴涂的制品，具有優(yōu)異的附著力、抗沖擊力、耐氣候性、耐磨性和耐擦傷性，符合國內(nèi)外大型汽車生產(chǎn)商和大型電器生產(chǎn)商等精密產(chǎn)品的要求，亦可作為其它行業(yè)的表面裝飾和保護(hù)等噴涂。該技術(shù)填補(bǔ)了目前國內(nèi)市場環(huán)保電鍍的空白二，塑料真空鍍膜塑料具有質(zhì)輕、性能優(yōu)良，易成型，易加工等特點，應(yīng)用范圍非常廣，是日常生活和國民經(jīng)濟(jì)各部門不可缺少的材料。塑料在真空鍍膜前為何要涂層?
塑料UV真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣體的形式沉積到基材（通常是非金屬材料）表面，因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化，又稱真空鍍膜（主要是取代污染嚴(yán)重的傳統(tǒng)水電鍍工藝）。真空鍍膜的主要功能是賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電性能及完美的表面裝飾效果。目前，真空鍍膜的方法有熱蒸發(fā)鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝，金屬源有鋁、錫、銦、鈷、鎳、銅、鋅、銀、金、鈦、鉻、鉬、鎢等。真空鍍膜附著力差的原因。四川大型雕塑真空鍍膜流程
pvd真空鍍膜的功能原理是什么？中山市塑料真空鍍膜技術(shù)
真空鍍膜設(shè)備主要指需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括多弧離子真空鍍膜設(shè)備，真空離子蒸發(fā)，光學(xué)鍍膜機(jī)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜的工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮，如果真空度不高結(jié)晶體就會失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射，結(jié)合差工效低光澤差。現(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。中山市塑料真空鍍膜技術(shù)
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