20世紀70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應(yīng)，這種鍍膜方法不只薄膜的結(jié)合強度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時還會產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱為干式鍍膜技術(shù)。真空鍍膜的工藝流程。北京電子真空鍍膜設(shè)備
真空鍍膜法在手機消費電子的表面處理中，物li氣相沉積（PVD）是主要的真空鍍膜方法。其原理為：在真空條件下，將金屬氣化成原子或分子，或者使其離子化成離子，直接沉積到工件表面，形成涂層，其沉積粒子束來源于非化學因素，如蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍等。真空不導電電鍍，稱NCVM，是一種真空電鍍的高新技術(shù)。也是目前塑膠件外殼普遍采用的物理法表面處理工藝之一。采用新的鍍膜技術(shù)、新的材料，做出普通真空電鍍的不同顏色的金屬外觀效果，起到美化工件表面之功用。浙江玻璃真空鍍膜加工真空鍍膜機工作原理及結(jié)構(gòu)介紹。
除化學氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點：(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進，擴大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進行比較精確的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。(4)每種薄膜都可以通過微調(diào)閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分數(shù)，防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質(zhì)量分數(shù)降低到小的程度，還可以充入惰性氣體等，這對于濕式鍍膜而言是無法實現(xiàn)的。(5)由于鍍膜設(shè)備的不斷改進，鍍膜過程可以實現(xiàn)連續(xù)化，從而地提高產(chǎn)品的產(chǎn)量，而且在生產(chǎn)過程中對環(huán)境無污染。(6)在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需要再加工，這就使得薄膜的力學性能和化學性能比電鍍膜和化學膜好。
一般來說，塑料表面本身具有0.51nn左右的粗糙度，真空鍍膜的厚度不超過0.2μm，無法填平基材表面的凹凸不平，得不到理想的鏡面效果，UV涂層厚度達到10-20μm，表面平整度在0.1μm以下，可填平基材缺陷并得到理想的鍍膜效果。獲得更厚的真空電鍍層用底漆過渡,有利于獲得更厚獲得更厚的鍍層,使產(chǎn)品得到更高的反射效果和力學性能。真空鍍膜的附著性.對于一些極性較差的塑膠,通過底漆過渡,可以獲得較強的鍍層附著性。真空鍍膜的耐熱性.塑膠熱變形溫度一般較低,通過底漆過渡,可以起到一定的熱緩沖作用,保護塑膠免遭熱變形。在ABS真空電鍍中,底漆或面漆經(jīng)常會選擇UV漆,因為UV在ABS底材的附著力大多比較好。
提高離化碰撞的方法要么靠額外的電子源來提供，而不是靠陰極發(fā)射出來的二次電子;要么就是利用高頻放電裝置或者施加磁場的方式提高已有電子的離化效率。事實上，真空鍍膜中二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，該電子的運動路徑很長，在運動過程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材，經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠離靶材，終沉積在基片上。真空鍍膜設(shè)備這些知識，你都了解嗎？上海樹脂真空鍍膜工藝流程
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UV真空鍍膜技術(shù)除化學氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下特點：(1)各種鍍膜技術(shù)都需一個特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需有一個蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進，擴大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進行比較精確的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。(4)每種薄膜都可以通過微調(diào)閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分數(shù)，從而防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質(zhì)量分數(shù)降低到小的程度，還可以充入惰性氣體等，這對于濕式鍍膜而言是無法實現(xiàn)的。(5)由于鍍膜設(shè)備的不斷改進，鍍膜過程可以實現(xiàn)連續(xù)化，從而提高產(chǎn)品的產(chǎn)量，而且在生產(chǎn)過程中對環(huán)境無污染。(6)由于在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需再加工，這就使得薄膜的力學性能和化學性能比電鍍膜和化學膜好。北京電子真空鍍膜設(shè)備
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