激光加工光斑分析儀性能

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-04-07

維度光電-BeamHere 光斑分析儀憑借高精度光束參數(shù)測量能力,為激光技術(shù)在各領(lǐng)域的創(chuàng)新應(yīng)用提供支持。在工業(yè)制造中,其亞微米級光斑校準(zhǔn)功能幫助優(yōu)化激光切割、焊接與打標(biāo)工藝,確保光束能量分布均勻性,提升加工一致性。醫(yī)療領(lǐng)域中,BeamHere 用于眼科準(zhǔn)分子激光設(shè)備的光束形態(tài)監(jiān)測,通過實(shí)時(shí)分析能量分布與光斑穩(wěn)定性,保障手術(shù)精度與安全性??蒲袌鼍跋?,該設(shè)備支持超短脈沖激光的時(shí)空特性,為新型激光器與光束整形技術(shù)突破提供數(shù)據(jù)支撐。光通信領(lǐng)域,BeamHere 可檢測光纖端面光斑質(zhì)量,優(yōu)化光信號(hào)耦合效率,確保通信系統(tǒng)性能穩(wěn)定。全系產(chǎn)品覆蓋 200-2600nm 寬光譜范圍,支持千萬級功率測量,結(jié)合 M2 因子分析與 AI 算法,為客戶提供從光束診斷到工藝優(yōu)化的全流程解決方案。光斑分析儀能測束腰位置嗎?激光加工光斑分析儀性能

光斑分析儀

Dimension-Labs 為激光設(shè)備與生產(chǎn)企業(yè)推出 Beamhere 光束質(zhì)量管家。該系統(tǒng)通過智能檢測模塊,可快速完成光斑能量分布測繪、發(fā)散角計(jì)算及 M2 因子分析,幫助用戶優(yōu)化光束整形效果、提升聚焦精度。所有測試參數(shù)均符合 ISO11146 國際標(biāo)準(zhǔn),包含光斑寬度、質(zhì)心位置等指標(biāo)??蛇x配的 M2 測試功能可動(dòng)態(tài)分析光束傳播特性,終由軟件自動(dòng)生成專業(yè)測試報(bào)告,將傳統(tǒng)人工檢測效率提升 80% 以上。 產(chǎn)品優(yōu)勢: 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設(shè)計(jì)的分析軟件 軟件真正做到交互友好,簡單易用,一鍵輸出測試報(bào)告。光束直徑光斑分析儀發(fā)展如何利用光斑分析儀和 M2 因子測量模塊評估激光質(zhì)量?

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相機(jī)式與狹縫式光斑分析儀對比指南 光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場景的光斑尺寸、功率、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度: 1. 光斑尺寸 相機(jī)式:受限于 sensor 尺寸(≤10mm),小光斑為 55μm(10 倍 5.5μm 像元)。 狹縫式:刀口模式可測小 2.5μm 光斑,適合亞微米級檢測。 2. 功率范圍 相機(jī)式: 6 片衰減片(BeamHere 標(biāo)配),可測 1W,需控制功率 < 10μW/cm2。 狹縫式:狹縫物理衰減機(jī)制支持近 10W 直接測量,無需外置衰減片。 3. 脈沖激光 相機(jī)式:觸發(fā)模式同步捕獲完整單脈沖光斑,兼容性強(qiáng)。 狹縫式:需匹配掃描頻率與激光重頻,易丟失脈沖信息。 4. 光斑形態(tài) 相機(jī)式:面陣傳感器保留非高斯光束(如貝塞爾光束)及高階橫模細(xì)節(jié)。 狹縫式:狹縫累加導(dǎo)致復(fù)雜光斑失真,適合高斯或規(guī)則光斑。 選擇建議 狹縫式:亞微米光斑、高功率或高斯光斑檢測。 相機(jī)式:大光斑、脈沖激光或復(fù)雜非高斯光束分析。 維度光電 BeamHere 系列提供兩種技術(shù)方案,適配實(shí)驗(yàn)室與工業(yè)場景的全場景需求。

Dimension-Labs 針對高功率激光檢測難題推出 BeamHere 大功率光束取樣系統(tǒng),突破傳統(tǒng)面陣傳感器在 10μW/cm2 飽和閾值的限制,通過創(chuàng)新狹縫物理衰減機(jī)制實(shí)現(xiàn) 10W 級激光直接測量,配合可疊加的單次(DL-LBA-1)與雙次(DL-LBA-2)取樣配件形成多級衰減方案,衰減達(dá) 10??,可測功率超 1000W。該系統(tǒng)采用 45° 傾斜設(shè)計(jì)的單次取樣配件支持 4%-5% 取樣率,雙次配件內(nèi)置雙片透鏡實(shí)現(xiàn) 0.16%-0.25% 取樣率,均配備 C 口通用接口和鎖緊環(huán)結(jié)構(gòu),支持任意角度入射光束檢測。其優(yōu)化設(shè)計(jì)的 68mm(單次)和 53mm(雙次)取樣光程確保聚焦光斑完整投射至傳感器,解決傳統(tǒng)外搭光路光程不足問題,緊湊結(jié)構(gòu)減少 70% 空間占用。系統(tǒng)覆蓋 190-2500nm 寬光譜范圍,通過 CE/FCC 認(rèn)證,可在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作,已成功應(yīng)用于工業(yè)激光加工(熱影響區(qū)≤30μm)、科研超快激光(皮秒脈沖分析)及醫(yī)療設(shè)備校準(zhǔn)(能量均勻性誤差<2%),幫助客戶提升 3 倍檢測效率并降** 30% 檢測成本。如何評判激光質(zhì)量的好壞?

激光加工光斑分析儀性能,光斑分析儀

使用 BeamHere 光斑分析儀測量光斑與光束質(zhì)量的流程 1. 成像原理 BeamHere 采用背照式 CMOS 傳感器,量子效率達(dá) 95%(500-1000nm),配合非球面透鏡組實(shí)現(xiàn)無畸變成像。 2. 信號(hào)處理 采集到的模擬信號(hào)經(jīng) 16 位 ADC 轉(zhuǎn)換,通過數(shù)字濾波算法消除噪聲,確保弱光信號(hào)(SNR>40dB)還原。 3. 參數(shù)計(jì)算 光斑尺寸:基于高斯擬合與閾值分割法 M2 因子:采用 ISO 11146-1:2005 標(biāo)準(zhǔn)的二階矩法 發(fā)散角:通過不同位置光斑尺寸計(jì)算斜率 4. 校準(zhǔn)流程 內(nèi)置波長校準(zhǔn)模塊(400-1700nm),每年需用標(biāo)準(zhǔn)光源進(jìn)行增益校準(zhǔn),確保測量精度 ±1.5%。 5. 數(shù)據(jù)安全 測量數(shù)據(jù)自動(dòng)加密存儲(chǔ)于本地?cái)?shù)據(jù)庫,支持云端備份,符合 GDPR 數(shù)據(jù)保護(hù)法規(guī)。激光發(fā)散角怎么測,維度光電M2測量系統(tǒng)。國內(nèi)光斑分析儀官網(wǎng)

Z-block 器件生產(chǎn)檢驗(yàn)中的光斑分析儀質(zhì)量檢測。激光加工光斑分析儀性能

Dimension-Labs 光斑分析儀系列采用差異化設(shè)計(jì):掃描狹縫式側(cè)重高功率場景(千萬級功率),通過物理衰減機(jī)制實(shí)現(xiàn)安全測量,衰減級數(shù)達(dá) 10?:1,無需外置衰減片;相機(jī)式則主打?qū)捁庾V(200-2600nm)與實(shí)時(shí)成像功能,支持 100fps 高速連拍。相較于傳統(tǒng)設(shè)備,其 0.1μm 分辨率提升 10 倍以上,可解析直徑小于 5μm 的亞微米級光斑;M2 測試模塊支持光束傳播特性動(dòng)態(tài)分析,通過滑軌式掃描獲取 100 + 測量點(diǎn)數(shù)據(jù)。軟件集成 AI 算法,可自動(dòng)識(shí)別光斑模式,率達(dá) 99.7%,將人工分析效率提升 90%,單組數(shù)據(jù)處理時(shí)間從 20 分鐘縮短至 2 分鐘。激光加工光斑分析儀性能

維度光電:一站式光電服務(wù)平臺(tái)Dimension-labs隸屬深圳市維度科技有限公司,以助推突破技術(shù)壁壘、打破國外壟斷、加速國產(chǎn)化替代為使命,以構(gòu)建、培育網(wǎng)狀光電生態(tài)鏈,促進(jìn)產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)化升級,提升科研效率,降低企業(yè)創(chuàng)新及研發(fā)成本為愿景建立一站式光電產(chǎn)品服務(wù)平臺(tái)(Dimension-Labs),將互聯(lián)網(wǎng)電子商務(wù)與光電行業(yè)深度融合,形成創(chuàng)新型數(shù)字化產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈,為全球的高校、科研、企業(yè)及創(chuàng)客團(tuán)體提供:

1、質(zhì)量的一站式光電產(chǎn)品現(xiàn)貨、極速供應(yīng)服務(wù),產(chǎn)品涵蓋光機(jī)械、光學(xué)元件、光電檢測儀器、激光光源、光學(xué)成像鏡頭、科研相機(jī)、光束分析等;“燈塔”光電開放研究實(shí)驗(yàn)室及光電數(shù)據(jù)庫,

2、提供技術(shù)攻關(guān)、技術(shù)開發(fā)、儀器共享、科技資源共享、科研交流、檢驗(yàn)檢測、系統(tǒng)搭建等深度技術(shù)服務(wù);

3、立足服務(wù)平臺(tái),連接線上線下、銜接供需兩端、對接國內(nèi)國外市場,賦能經(jīng)濟(jì)社會(huì)數(shù)字化轉(zhuǎn)型和后時(shí)代社會(huì)建設(shè);

4、助力提高科研效率,降低企業(yè)創(chuàng)新研發(fā)成本,助推突破技術(shù)壁壘,加速國產(chǎn)化替代,培育并構(gòu)建數(shù)字化、智能化網(wǎng)狀光電產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈。

標(biāo)簽: 光斑分析儀