江蘇進(jìn)口灰度光刻無掩膜激光直寫

德國Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)，該系統(tǒng)是first基于雙光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的精密加工微納米打印系統(tǒng)，可應(yīng)用于折射和衍射微光學(xué)。Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印的面世**著Nanoscribe已進(jìn)軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領(lǐng)域。具有全自動(dòng)化系統(tǒng)的QuantumX無論從外形或者使用體驗(yàn)上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求。下面講講在衍射微光學(xué)中的應(yīng)用：多級衍射光學(xué)元件雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學(xué)元件(DOE)，并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級。如需詳細(xì)了解雙光子聚合（2PP）和雙光子灰度光刻（2GL ?）的內(nèi)容請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。江蘇進(jìn)口灰度光刻無掩膜激光直寫

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨(dú)有專項(xiàng)的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時(shí)具備高速打印，完全設(shè)計(jì)自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計(jì)迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗(yàn)證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)要點(diǎn)在于：這項(xiàng)技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動(dòng)態(tài)聚焦定位達(dá)到精細(xì)同步，這種智能方法能夠輕松控制每個(gè)掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。上海工業(yè)級灰度光刻3D光刻由于灰度光刻的高精度特性，它可以有效地解決傳統(tǒng)光刻技術(shù)中存在的誤差和缺陷問題。

傳統(tǒng)3D打印難以實(shí)現(xiàn)對于復(fù)雜設(shè)計(jì)或曲線形狀的高分辨率3D打印，必須切片并分為大量水平和垂直層。這會(huì)明顯增加對于平滑、曲線或精細(xì)結(jié)構(gòu)的打印時(shí)間。雙光子聚合技術(shù)（2PP）則可以解決這個(gè)難題。Nanosribe于2019年推出的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）可實(shí)現(xiàn)體素調(diào)節(jié)，從而明顯減少打印層數(shù)。這是通過掃描過程中的快速激光調(diào)制來實(shí)現(xiàn)的。并且，這項(xiàng)技術(shù)已從原先適用于。Nanoscribe于2023年推出雙光子灰度光刻3D打印技術(shù)3Dprintingby2GL®，該技術(shù)具備實(shí)現(xiàn)出色形狀精度的優(yōu)越打印品質(zhì)，并將Nanoscribe的灰度技術(shù)拓展到三維層面。整個(gè)打印過程在保持高速掃描的同時(shí)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)調(diào)整激光功率。這使得聚合體素得到精確尺寸調(diào)整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟，不產(chǎn)生形狀失真的要求下，您將獲得具有無瑕疵光學(xué)級表面的任意3D打印設(shè)計(jì)的真實(shí)完美形狀。

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個(gè)不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學(xué)和工業(yè)項(xiàng)目中備受青睞。這種可快速打印的微結(jié)構(gòu)在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應(yīng)用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結(jié)構(gòu)上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計(jì)自由度和高精度特點(diǎn)，您可以制作具有微米級高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。灰度光刻技術(shù)的精度受到灰度值的影響。

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn)，同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時(shí)間。另外，QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）。湖南灰度光刻3D打印

，灰度光刻可以明顯縮短制造時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。江蘇進(jìn)口灰度光刻無掩膜激光直寫

近年來，利用雙光子聚合對聚合物類傳統(tǒng)光刻膠的3D飛秒激光打印技術(shù)已日臻成熟，其高精度、高度可設(shè)計(jì)性和維度可控性已經(jīng)在平行技術(shù)中排名在前。與此同時(shí)，如何更有效地將微納結(jié)構(gòu)功能化，也逐漸成為各種微納加工技術(shù)的研究重點(diǎn)。在現(xiàn)階段，對于3D飛秒激光打印技術(shù)而言，具體來說就是利用其加工的高度可設(shè)計(jì)性來實(shí)現(xiàn)微納結(jié)構(gòu)的功能化和芯片化，并使這些結(jié)構(gòu)能夠更好地集成器件，從而達(dá)到理想的應(yīng)用目的。微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學(xué)器件中的一種常見組件，具有較強(qiáng)的聚焦和成像能力。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個(gè)平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu)，這樣的1組微透鏡陣列無法將1個(gè)平面物體聚焦至1個(gè)像平面上，會(huì)產(chǎn)生場曲。在商業(yè)生產(chǎn)中，為了消除場曲這種光學(xué)像差，只能在后續(xù)光路中引入場鏡組來進(jìn)行校正，從而增加了器件復(fù)雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設(shè)計(jì)一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場曲。江蘇進(jìn)口灰度光刻無掩膜激光直寫