江蘇德國PSP-POLOS光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

來源: 發(fā)布時間:2025-08-21

針對植入式醫(yī)療設備的長期安全性問題,某生物電子實驗室利用 Polos 光刻機在聚乳酸()基底上制備可降解電極。其無掩模技術避免了傳統(tǒng)掩模污染,使電極的金屬殘留量低于 0.01μg/mm2,生物相容性測試顯示細胞存活率達 99%。通過自定義螺旋狀天線圖案,開發(fā)出的可降解心率監(jiān)測器,在體內降解周期可控制在 3-12 個月,信號傳輸穩(wěn)定性較同類產品提升 50%,相關技術已進入臨床前生物相容性評價階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。微型傳感器量產:80 μm開環(huán)諧振器加工能力,推動工業(yè)級MEMS傳感器升級。江蘇德國PSP-POLOS光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

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植入式神經電極需要兼具生物相容性與導電性能,表面微圖案可remarkable影響細胞 - 電極界面。Polos 光刻機在鉑銥合金電極表面刻制出 10μm 間距的蜂窩狀微孔,某神經工程團隊發(fā)現(xiàn)該結構使神經元突觸密度提升 20%,信號采集噪聲降低 35%。其無掩模特性支持根據不同腦區(qū)結構定制電極陣列,在大鼠海馬區(qū)電生理實驗中,單神經元信號識別率從 60% 提升至 85%,為腦機接口技術的臨床轉化奠定了硬件基礎。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。黑龍江德國PSP-POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化生物界面創(chuàng)新:微納結構可控加工,為組織工程提供新型仿生材料解決方案。

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某生物物理實驗室利用 Polos 光刻機開發(fā)了基于壓阻效應的細胞力傳感器。其激光直寫技術在硅基底上制造出 5μm 厚的懸臂梁結構,傳感器的力分辨率達 10pN,較傳統(tǒng) AFM 提升 10 倍。通過在懸臂梁表面刻制 100nm 的微柱陣列,實現(xiàn)了單個心肌細胞收縮力的實時監(jiān)測,力信號信噪比提升 60%。該傳感器被用于心臟纖維化機制研究,成功捕捉到心肌細胞在病理狀態(tài)下的力學變化,相關數據為心肌修復藥物開發(fā)提供了關鍵依據。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。

上海有機化學研究所通過光刻技術制備多組分納米纖維,實現(xiàn)了功能材料的精確組裝。類似地,Polos系列設備可支持此類結構的可控加工,為新能源器件(如柔性電池)和智能材料提供技術基礎3。設備的高重復性(0.1 μm)確保了科研成果的可轉化性。掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術帶到了桌面上,進一步提升了其優(yōu)勢。Polos-BESM XL:大尺寸加工空間,保留緊湊設計,科研級精度實現(xiàn)復雜結構一次性成型。

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在tumor轉移機制研究中,某tumor研究中心利用 Polos 光刻機構建了仿生tumor微環(huán)境芯片。通過無掩模激光光刻技術,在 PDMS 基底上制造出三維tumor血管網絡與間質纖維化結構,其中血管直徑可精確控制在 10-50μm。實驗顯示,該芯片模擬的tumor微環(huán)境中,tumor細胞遷移速度較傳統(tǒng)二維培養(yǎng)提升 2.3 倍,且化療藥物滲透效率降低 40%,與臨床數據高度吻合。該團隊通過軟件實時調整通道曲率和細胞外基質密度,成功復現(xiàn)了tumor細胞上皮 - 間質轉化(EMT)過程,相關成果發(fā)表于《Cancer Research》,并被用于新型抗轉移藥物的篩選平臺開發(fā)。工業(yè)4.0協(xié)同創(chuàng)新:與弗勞恩霍夫ILT合作優(yōu)化激光能量分布,提升制造精度。黑龍江德國PSP-POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化

Polos-BESM XL:加大加工幅面,滿足中尺寸器件一次性成型需求。江蘇德國PSP-POLOS光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

在微流控芯片集成領域,某微機電系統(tǒng)實驗室利用 Polos 光刻機的多材料同步曝光技術,在同一塊 PDMS 芯片上直接制備出金屬電極驅動的氣動泵閥結構。其微泵通道寬度可控制在 20μm,流量調節(jié)精度達 ±1%,響應時間小于 50ms。通過軟件輸入不同圖案,可在 10 分鐘內完成從連續(xù)流到脈沖流的模式切換。該芯片被用于單細胞代謝分析,實現(xiàn)了單個tumor細胞葡萄糖攝取率的實時監(jiān)測,檢測靈敏度較傳統(tǒng)方法提升 3 倍,相關設備已進入臨床前驗證階段。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。江蘇德國PSP-POLOS光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模