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電鍍:
到這一步,晶圓基本上就完成了,現(xiàn)在要在晶圓上鍍一層硫酸銅,銅離子會(huì)從正極走向負(fù)極。
拋光:
然后將Wafer進(jìn)行打磨,到這一步晶圓就真正的完成了。
切割:
對(duì)晶圓進(jìn)行切割,值得一提的是晶圓十分易碎,因此對(duì)切割的工藝要求也是非常高的。
測(cè)試:
測(cè)試分為三大類:功能測(cè)試、性能測(cè)試、抗老化測(cè)試。大致測(cè)試模式如下:接觸測(cè)試、功耗測(cè)試、輸入漏電測(cè)試、輸出電平測(cè)試、動(dòng)態(tài)參數(shù)測(cè)試、模擬信號(hào)參數(shù)測(cè)試等等。全部測(cè)試都通過的,就是正片;部分測(cè)試未通過,但正常使用無礙,這是白片;未開始測(cè)試,就發(fā)現(xiàn)晶圓具有瑕疵的,這是黑片。
合理選擇機(jī)械手的坐標(biāo)形式。直角坐標(biāo)式機(jī)械手的位置精度較高,其結(jié)構(gòu)和運(yùn)動(dòng)都比較簡(jiǎn)單、誤差也小。陽江官方晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂價(jià)格信息
隨著半導(dǎo)體制造工藝向更小尺寸、更高集成度的方向發(fā)展,對(duì)機(jī)械吸臂的精度和穩(wěn)定性要求越來越高。在納米級(jí)的制造工藝中,吸臂的微小振動(dòng)、位置偏差或吸附力不均勻都可能對(duì)晶圓造成嚴(yán)重影響。因此,如何進(jìn)一步提高吸臂的運(yùn)動(dòng)精度和穩(wěn)定性,減少各種誤差因素的影響,是當(dāng)前面臨的一個(gè)重要挑戰(zhàn)。半導(dǎo)體制造車間的環(huán)境要求極為嚴(yán)格,需要在超凈、恒溫、恒濕的條件下進(jìn)行生產(chǎn)。機(jī)械吸臂在這樣的環(huán)境中運(yùn)行,需要具備良好的防塵、防靜電、耐腐蝕等性能。同時(shí),為了滿足不同工藝設(shè)備的接口要求和工作空間限制,吸臂的設(shè)計(jì)還需要具備更高的靈活性和兼容性。如何在滿足這些復(fù)雜環(huán)境和工藝要求的前提下,保證吸臂的可靠性和使用壽命,也是需要解決的關(guān)鍵問題。蘇州新款晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂企業(yè)有X移動(dòng),Y移動(dòng),Z移動(dòng),X轉(zhuǎn)動(dòng),Y轉(zhuǎn)動(dòng),Z轉(zhuǎn)動(dòng)六個(gè)自由度組成。
半導(dǎo)體行業(yè),尤其是集成電路領(lǐng)域,晶圓的身影隨處可見。
晶圓就是一塊薄薄的、圓形的高純硅晶片,而在這種高純硅晶片上可以加工制作出各種電路元件結(jié)構(gòu),使之成為有特定電性功能的集成電路產(chǎn)品。
眼前這密密麻麻的元器件,被整整齊齊的安放在一塊單晶硅材料之上,都是規(guī)規(guī)矩矩、方方正正的??梢姡A在實(shí)際應(yīng)用之中還是要被切割成方形的。
所以疑問?來了——硅片為什么要做成圓的?為什么是“晶圓”,而不做成“晶方”?
要解釋這個(gè)問題,有兩方面的原因:一方面似乎是由“基因決定的”;另一方面是“環(huán)境造成的”。
晶圓是半導(dǎo)體行業(yè)的關(guān)鍵元件,隨著半導(dǎo)體行業(yè)的迅速發(fā)展,晶圓的搬運(yùn)技術(shù)逐漸成為制約行業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵因素。晶圓搬運(yùn)機(jī)械手是IC裝備的**之一,其性能的優(yōu)劣直接影響晶圓的生產(chǎn)效率和制造質(zhì)量,體現(xiàn)著整個(gè)加工系統(tǒng)的自動(dòng)化程度和可靠性。在晶圓加工系統(tǒng)中包含兩類晶圓搬運(yùn)機(jī)械手:大氣機(jī)械手(FI robot) 和真空機(jī)械手(Vacuum robot)。前者將晶圓從晶圓盒中取出并放到預(yù)對(duì)準(zhǔn)設(shè)備上,工作環(huán)境滿足一定的大氣潔凈度要求,控制精度要求相對(duì)較低。后者將晶圓從預(yù)對(duì)準(zhǔn)設(shè)備上取下,搬運(yùn)到各個(gè)工位進(jìn)行刻蝕等工藝流程加工,并將加工完的晶圓搬運(yùn)到接口位置,等待大氣機(jī)械手放回晶圓盒。這些工藝流程需要在真空環(huán)境下進(jìn)行,機(jī)械手必須要完全滿足真空潔凈度要求,控制精度和可靠性要求極高。手端的定位由各部關(guān)節(jié)相互轉(zhuǎn)角來確定,其誤差是積累誤差,因而精度較差,其位置精度也更難保證。
隨著機(jī)器人技術(shù)的發(fā)展,應(yīng)用高速度、高精度、高負(fù)載自重比的機(jī)器人結(jié)構(gòu)受到工業(yè)和航空航天領(lǐng)域的關(guān)注。由于運(yùn)動(dòng)過程中關(guān)節(jié)和連桿的柔性效應(yīng)的增加,使結(jié)構(gòu)發(fā)生變形從而使任務(wù)執(zhí)行的精度降低。所以,機(jī)器人機(jī)械臂結(jié)構(gòu)柔性特征必須予以考慮,實(shí)現(xiàn)柔性機(jī)械臂高精度有效控制也必須考慮系統(tǒng)動(dòng)力學(xué)特性。柔性機(jī)械臂是一個(gè)非常復(fù)雜的動(dòng)力學(xué)系統(tǒng),其動(dòng)力學(xué)方程具有非線性、強(qiáng)耦合、實(shí)變等特點(diǎn)。而進(jìn)行柔性臂動(dòng)力學(xué)問題的研究,其模型的建立是極其重要的。柔性機(jī)械臂不僅是一個(gè)剛?cè)狁詈系姆蔷€性系統(tǒng),而且也是系統(tǒng)動(dòng)力學(xué)特性與控制特性相互耦合即機(jī)電耦合的非線性系統(tǒng)。動(dòng)力學(xué)建模的目的是為控制系統(tǒng)描述及控制器設(shè)計(jì)提供依據(jù)。一般控制系統(tǒng)的描述(包括時(shí)域的狀態(tài)空間描述和頻域的傳遞函數(shù)描述)與傳感器/執(zhí)行器的定位,從執(zhí)行器到傳感器的信息傳遞以及機(jī)械臂的動(dòng)力學(xué)特性密切相關(guān)。 晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光電子等領(lǐng)域。陽江官方晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂價(jià)格信息
單軸機(jī)械手臂作為一個(gè)組件在工業(yè)中應(yīng)用***。陽江官方晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂價(jià)格信息
6)自適應(yīng)控制。采用組合自適應(yīng)控制將系統(tǒng)劃分成關(guān)節(jié)子系統(tǒng)和柔性子系統(tǒng)。利用參數(shù)線性化的方法設(shè)計(jì)自適應(yīng)控制規(guī)則來辨識(shí)柔性機(jī)械臂的不確定性參數(shù)。對(duì)具有非線性和參數(shù)不確定性的柔性機(jī)械臂進(jìn)行了**控制器的設(shè)計(jì)。控制器的設(shè)計(jì)是依據(jù)Lyapunov方法的魯棒和自適應(yīng)控制設(shè)計(jì)。通過狀態(tài)轉(zhuǎn)換將系統(tǒng)分成兩個(gè)子系統(tǒng)。用自適應(yīng)控制和魯棒控制分別對(duì)兩個(gè)子系統(tǒng)進(jìn)行控制。7)PID控制。PID控制器作為很受歡迎和最廣泛應(yīng)用的控制器,由于其簡(jiǎn)單、有效、實(shí)用,被普遍地用于剛性機(jī)械臂控制,常通過調(diào)整控制器增益構(gòu)成自校正PID控制器或與其它控制方法結(jié)合構(gòu)成復(fù)合控制系統(tǒng)以改善PID控制器性能。8)變結(jié)構(gòu)控制。變結(jié)構(gòu)控制系統(tǒng)是一種不連續(xù)的反饋控制系統(tǒng),其中滑??刂剖亲钇毡榈淖兘Y(jié)構(gòu)控制。其特點(diǎn);在切換面上,具有所謂的滑動(dòng)方式,在滑動(dòng)方式中系統(tǒng)對(duì)參數(shù)變化和擾動(dòng)保持不敏感,同時(shí),它的軌跡位于切換面上,滑動(dòng)現(xiàn)象并不依賴于系統(tǒng)參數(shù),具有穩(wěn)定的性質(zhì)。變結(jié)構(gòu)控制器的設(shè)計(jì),不需要機(jī)械臂精確的動(dòng)態(tài)模型,模型參數(shù)的邊界就足以構(gòu)造一個(gè)控制器。 陽江官方晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂價(jià)格信息
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