清遠(yuǎn)晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂聯(lián)系人

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-08-21

使用匯編語(yǔ)言編寫計(jì)算機(jī)程序,程序員仍然需要十分熟悉計(jì)算機(jī)系統(tǒng)的硬件結(jié)構(gòu),所以從程序設(shè)計(jì)本身上來(lái)看仍然是低效率的、煩瑣的。但正是由于匯編語(yǔ)言與計(jì)算機(jī)硬件系統(tǒng)關(guān)系密切,在某些特定的場(chǎng)合,如對(duì)時(shí)空效率要求很高的系統(tǒng)**程序以及實(shí)時(shí)控制程序等,迄今為止匯編語(yǔ)言仍然是十分有效的程序設(shè)計(jì)工具。工業(yè)機(jī)械臂目前還沒有統(tǒng)一的分類標(biāo)準(zhǔn)。根據(jù)不同的要求可進(jìn)行不同的分類。一、按驅(qū)動(dòng)方式分1.液壓式 液壓驅(qū)動(dòng)機(jī)械臂通常由液動(dòng)機(jī)(各種油缸、油馬達(dá))、伺服閥、油泵、油箱等組成驅(qū)動(dòng)系統(tǒng),由驅(qū)動(dòng)機(jī)械臂的執(zhí)行機(jī)構(gòu)進(jìn)行工作。通常它具有很大的抓舉能力(高達(dá)幾百公斤以上),其特點(diǎn)是結(jié)構(gòu)緊湊,動(dòng) 作平穩(wěn),耐沖擊,耐振動(dòng),防爆性好,但液壓元件要求有較高的制造精度和密封性能,否則漏油將污染環(huán)境。2.氣動(dòng)式 其驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)通常由氣缸、氣閥、氣罐和空壓機(jī)組成,其特點(diǎn)是氣源方便,動(dòng)作迅速、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、造價(jià)較低、維修方便。但難以進(jìn)行速度控制,氣壓不可太高,故抓舉能力較低。手臂回轉(zhuǎn)升降機(jī)構(gòu)就是機(jī)械臂在升降的同時(shí)也可以旋轉(zhuǎn)的。清遠(yuǎn)晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂聯(lián)系人

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半導(dǎo)體晶圓有時(shí)在處理室內(nèi)暴露在高溫中。因此,機(jī)械手有時(shí)輸送高溫的半導(dǎo)體晶圓。若高溫的半導(dǎo)體晶圓與手部接觸,則手部的溫度上升,并且配置在前臂連桿與手部之間的關(guān)節(jié)的溫度也上升。由此,安裝于關(guān)節(jié)的軸承的溫度上升。軸承的溫度上升促進(jìn)該軸承內(nèi)的潤(rùn)滑劑的劣化。因此,與配置在上臂連桿與前臂連桿之間的關(guān)節(jié)的軸承相比,配置在前臂連桿和手部之間的關(guān)節(jié)的軸承的維護(hù)頻率較高。

晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓;在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能的集成電路產(chǎn)品。

晶圓的原始材料是硅,而地殼表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅礦石經(jīng)由電弧爐提煉,**化,并經(jīng)蒸餾后,制成了高純度的多晶硅,其純度高達(dá)99.9%。

晶圓是制造半導(dǎo)體芯片的基本材料,半導(dǎo)體集成電路**主要的原料是硅,因此對(duì)應(yīng)的就是硅晶圓。 清遠(yuǎn)晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂聯(lián)系人盡管它們的形態(tài)各有不同,但它們都有一個(gè)共同的特點(diǎn),就是能夠接受指令.

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晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂的應(yīng)用非常廣,主要包括以下幾個(gè)方面:晶圓生產(chǎn)線:在晶圓生產(chǎn)線上,晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂被廣泛應(yīng)用于晶圓的裝載和卸載過(guò)程。它能夠?qū)⒕A從載體上吸附起來(lái),并將其準(zhǔn)確地運(yùn)送到目標(biāo)位置,以完成各種工序,如清洗、切割、涂覆等。晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂的高精度和穩(wěn)定性能,能夠確保晶圓在整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中的安全和穩(wěn)定運(yùn)輸。半導(dǎo)體封裝和測(cè)試:在半導(dǎo)體封裝和測(cè)試過(guò)程中,晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂被用于將封裝好的芯片從一個(gè)工序轉(zhuǎn)移到另一個(gè)工序。它能夠?qū)⑿酒瑴?zhǔn)確地吸附在機(jī)械臂上,并將其運(yùn)送到封裝或測(cè)試設(shè)備上,以完成后續(xù)的封裝和測(cè)試工作。

可用于300mm半導(dǎo)體晶圓搬送的5軸水平多關(guān)節(jié)潔凈機(jī)械手臂GTCR5000系列。

單臂雙手指結(jié)構(gòu)能夠?qū)崿F(xiàn)和雙臂結(jié)構(gòu)同樣的功能。

適用于300mm半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備內(nèi)部,檢測(cè)設(shè)備等的晶圓搬運(yùn)。

機(jī)械手臂標(biāo)準(zhǔn)臂長(zhǎng): 210mm, 280mm機(jī)械手臂可以單獨(dú)對(duì)應(yīng)2個(gè)FOUP(210mm臂長(zhǎng))

或者3個(gè)FOUP(280mm臂長(zhǎng))雙手指結(jié)構(gòu)能夠縮短更換晶圓時(shí)的手臂動(dòng)作時(shí)間適應(yīng)設(shè)備需求可以選擇底座固定方式,或者法蘭固定方式配備動(dòng)作監(jiān)視器控制通訊方式:RS232C及并口I/O方式全軸采用絕對(duì)值編碼器規(guī)格的AC伺服電機(jī)通過(guò)S曲線加減速控制方式以及對(duì)運(yùn)動(dòng)軌跡的優(yōu)化

能夠高速,高精度地搬運(yùn)半導(dǎo)體晶圓晶圓固定方式:真空吸附式,下托式,邊緣夾持式,伯努利非接觸式手指材質(zhì):CFRP(碳纖維),鋁合金,高純度陶瓷等多種可選材質(zhì) 機(jī)械手的剛度、偏重力矩、慣性力及緩沖效果都直接影響手臂的位置精度。

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割拋光:

單晶棒將按適當(dāng)?shù)某叽邕M(jìn)行切割,然后進(jìn)行研磨,將凹凸的切痕磨掉,再用化學(xué)機(jī)械拋光工藝使其至少一面光滑如鏡,晶圓片制造就完成了。

二,晶圓制造步驟

晶圓鍍膜:

通過(guò)物理或其他方式(如高溫等)使晶圓上產(chǎn)生一層二氧化硅。二氧化硅為絕緣材料,但有雜質(zhì)和特殊處理的二氧化硅有一定的導(dǎo)電性。二氧化硅在這里的作用是為了傳導(dǎo)光。像是用二氧化硅做光導(dǎo)纖維是同一個(gè)道理。完成這步后就為后面光刻做好了準(zhǔn)備。

光刻膠涂抹:

顧名思義,就是在晶圓表面覆蓋上一層光刻膠,而對(duì)其技術(shù)要求是要做到平整和薄。 對(duì)于半導(dǎo)體制造應(yīng)用來(lái)說(shuō),常用的機(jī)械手臂是用來(lái)搬送晶片.清遠(yuǎn)晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂聯(lián)系人

實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn)、升降運(yùn)動(dòng)是由橫臂和產(chǎn)柱去完成。清遠(yuǎn)晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂聯(lián)系人

晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中的各個(gè)環(huán)節(jié),如薄膜沉積、光刻、蝕刻、清洗、檢測(cè)等。具體應(yīng)用舉例如下:

薄膜沉積:在薄膜沉積設(shè)備中,晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂負(fù)責(zé)將晶圓從裝載室傳送至沉積室,以及在沉積完成后將晶圓送回裝載室。

光刻:在光刻設(shè)備中,吸臂需將晶圓精確傳送至光刻機(jī)工作臺(tái),確保晶圓在曝光過(guò)程中的穩(wěn)定性和精度。

蝕刻:在蝕刻設(shè)備中,晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂需將晶圓傳送至蝕刻室,并在蝕刻完成后將其送回清洗設(shè)備。

清洗和干燥:在清洗和干燥設(shè)備中,吸臂負(fù)責(zé)將晶圓傳送至清洗槽,以及在清洗和干燥完成后將其送回下一工藝環(huán)節(jié)。

檢測(cè):在檢測(cè)設(shè)備中,晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂需將晶圓傳送至檢測(cè)臺(tái),確保檢測(cè)過(guò)程中的穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。 清遠(yuǎn)晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂聯(lián)系人

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