P 溝道 MOS 管的工作原理:空穴載流子的運(yùn)動(dòng)特性 P 溝道 MOS 管的工作原理與 N 溝道類(lèi)似,但載流子類(lèi)型和電壓極性相反,其**是通過(guò)柵極電壓控制空穴的聚集與消散。P 溝道 MOS 管的襯底為 N 型半導(dǎo)體,源極和漏極由 P 型半導(dǎo)體構(gòu)成。當(dāng)柵極電壓(Vgs)為零時(shí),源漏之間無(wú)導(dǎo)電溝道;當(dāng)施加負(fù)向柵壓(Vgs < Vth,閾值電壓為負(fù)值)時(shí),柵極負(fù)電荷產(chǎn)生的電場(chǎng)會(huì)排斥 N 型襯底表面的電子,吸引空穴聚集到氧化層界面,形成 P 型反型層(導(dǎo)電溝道)。此時(shí)漏極施加負(fù)電壓(Vds),空穴從源極經(jīng)溝道流向漏極形成電流(Id)。由于空穴的遷移率約為電子的 1/3,相同結(jié)構(gòu)的 P 溝道 ...