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酸性蝕刻液是什么?對于蝕刻液用法的理解,我們可以用個比較通俗的說法,那就是使用具有腐蝕性的一些化學(xué)材料對某種物品進行腐蝕,將不需要的部分腐蝕掉,從而將其雕刻成所需要的目標(biāo)物品的過程。那這個具有腐蝕性的化學(xué)材料,就稱為蝕刻液了。那專業(yè)的蝕刻液解釋又是什么呢?蝕刻...
蝕刻液一般分為酸性蝕刻液和堿性蝕刻液兩種。酸性蝕刻液主要成分氯化銅、鹽酸、氯化鈉和氯化銨。它的機理是酸性蝕刻液具有蝕刻速率易控制,蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達到高的蝕刻質(zhì)量的特性;同時,它的溶銅量大;酸性蝕刻液也較容易再生與回收,從而減少污染。有研究表明,酸性氯化銅...
蘇州博洋化學(xué)股份有限公司研發(fā)中心擁有先進的科研生產(chǎn)和檢測設(shè)備,專業(yè)的研發(fā)團隊。致力于電子領(lǐng)域環(huán)保、節(jié)能、環(huán)境友好化學(xué)品的研究開發(fā);并根據(jù)客戶的個性化需求量身定做整套解決方案,力求客戶100%滿意。公司以蘇州大學(xué)、蘇州科技大學(xué)、上海交通大學(xué)等高校研發(fā)隊伍為依托,...
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蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù),蝕刻技術(shù)分為濕蝕刻和干蝕刻,其中,濕蝕刻是采用化學(xué)試劑,經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)達到蝕刻的目的,薄膜場效應(yīng)晶體管液晶顯示器(tft~lcd)、發(fā)光二極管(led)、有機發(fā)光二極管(oled)等行業(yè)用作面板過程中銦錫氧化物...
微蝕液包括過硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系,在近幾年的運用在PCB之表面處理制程,例如:沉銅(PTH)制程,電鍍制程、內(nèi)層前處理、綠油前處理、OSP處理等生產(chǎn)線。我們公司目前對過硫酸鈉/硫酸和雙氧水/硫酸兩種體系的微蝕工序研發(fā)設(shè)計了不同的循環(huán)再生設(shè)備。無論...
緩沖氧化物蝕刻劑(BOE)是一種用于微細加工的液體腐蝕劑。它的主要用途是蝕刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)的薄膜。它是氟化銨(NH4F)和氫氟酸(HF)等緩沖液的混合物。濃縮的HF蝕刻二氧化硅的速度太快,不能很好地進行工藝控制,同時也會剝落用于光刻...
蘇州博洋化學(xué)股份有限公司研發(fā)中心擁有先進的科研生產(chǎn)和檢測設(shè)備,專業(yè)的研發(fā)團隊。致力于電子領(lǐng)域環(huán)保、節(jié)能環(huán)境友好化學(xué)品的研究開發(fā);并根據(jù)客戶的個性化需求量身定做整套解決方案,力求客戶100%滿意。公司以蘇州大學(xué)、蘇州科技大學(xué)、上海交通大學(xué)等高校研發(fā)隊伍為依托,對...
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酸性蝕刻是制造印刷電路板過程中必不可少的工序,酸性蝕刻工序利用酸性蝕刻液在蝕刻機內(nèi)完成。酸性蝕刻液包括酸性蝕刻子液和酸性蝕刻母液。通過再生循環(huán)方法提取銅回收廢液繼續(xù)使用,可以明顯減少環(huán)境的污染,電解反應(yīng)是通過陽極的氧化作用使一價銅變?yōu)槎r銅,使得蝕刻液...
緩沖氧化物蝕刻液(BOE)又稱為緩沖氧化物蝕刻劑,是由氫氟酸(49%)與水或氟化銨與水混合而成。作為一種濕式蝕刻劑,緩沖氧化物蝕刻液具有速率快、蝕刻容易控制、溶解能力高等特點。緩沖氧化物蝕刻液主要用于蝕刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)的薄膜,下...
對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例,基于本實用新型中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。實施例一,請...
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蘇州博洋化學(xué)股份有限公司聯(lián)系人:丁 先 生 公司地址:蘇州市高新區(qū)滸關(guān)工業(yè)園華橋路155號分機號: 歡迎光大顧客朋友來電咨詢BOE蝕刻液,同時也歡迎各位來我司參觀交流!蘇州博洋化學(xué)股份有限公司聯(lián)系人:丁 先 生 公司地址:蘇州市高新區(qū)滸關(guān)工業(yè)園華橋路155號歡...
并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由該復(fù)數(shù)個宣泄孔121落下造成該基板20的蝕刻不均等異?,F(xiàn)象,確實達到保有原始擋液板的擋液效果,以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板而導(dǎo)致該基板20刮傷或破片風(fēng)險等主要優(yōu)勢。該蝕刻設(shè)備1可進一步設(shè)置有一噴灑裝置50,...
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酸性蝕刻液是用于印制電路板線路制作和多層板內(nèi)層制作的蝕刻液,隨著電路板行業(yè)的迅速發(fā)展,產(chǎn)生的廢液量越來越大,發(fā)掘的污染物種類也越來越多,對環(huán)境造成巨大的危害,此類問題也成為社會的重要課題。為了減少甚至杜絕此類污染的發(fā)生,我們需要對酸性蝕刻液進行回收循環(huán)利用。目...
目前的平面顯示裝置,尤其是有機電激發(fā)光顯示器,多使用鉻金屬作為導(dǎo)線的材料。但是因為鉻金屬的阻值高,因此研究者一直在尋求利用阻值較低的金屬作為導(dǎo)線的材料。以往曾經(jīng)有提議以銀作為平面顯示裝置的導(dǎo)線材料,但是因為無適當(dāng)穩(wěn)定的蝕刻液組成物,所以并未有***...
蘇州博洋化學(xué)股份有限公司聯(lián)系人:丁 先 生 公司地址:蘇州市高新區(qū)滸關(guān)工業(yè)園華橋路155號分機號: 歡迎光大顧客朋友來電咨詢異丙醇,同時也歡迎各位來我司參觀交流!蘇州博洋化學(xué)股份有限公司聯(lián)系人:丁 先 生 公司地址:蘇州市高新區(qū)滸關(guān)工業(yè)園華橋路155號歡迎光大...
微蝕液包括過硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系,在近幾年的運用在PCB之表面處理制程,例如:沉銅(PTH)制程,電鍍制程、內(nèi)層前處理、綠油前處理、OSP處理等生產(chǎn)線。我們公司目前對過硫酸鈉/硫酸和雙氧水/硫酸兩種體系的微蝕工序研發(fā)設(shè)計了不同的循環(huán)再生設(shè)備。無論...
蝕刻(etching)是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。蝕刻技術(shù)可以分為濕蝕刻(wetetching)和干蝕刻(dryetching)兩類。濕蝕刻就是利用合適的化學(xué)溶液腐蝕去除材質(zhì)上未被光阻覆蓋(感光膜)的部分,達到一定的雕刻深度。蝕刻精度...
技術(shù)實現(xiàn)要素:本實用新型的目的在于提供高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出密封性差,連接安裝步驟繁瑣的問題。為實現(xiàn)上述目的,本實用新型提供如下技術(shù)方案:高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置,包括裝置主體、支撐腿、電源線和單片機...
所述硫醚系化合物推薦為選自由甲硫氨酸、乙硫氨酸及3-(甲硫基)丙酸所組成的群組中的至少一種。本發(fā)明的蝕刻液推薦進一步含有α-羥基羧酸和/或其鹽。所述α-羥基羧酸推薦為選自由酒石酸、蘋果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸所組成的群組中的至少一種。推薦為,所述酸的濃...
鋁板面蝕刻用:酸、堿都行。(鋁板是兩性材料,既能與酸反應(yīng),又能與堿反應(yīng),所以腐蝕液有的用堿性材料腐蝕,有的用酸性材料腐蝕,一般情況下,以酸性材料腐蝕的為多,堿性材料可以洗白。下好料的鋁板用棗木碳研磨,去掉油膩、劃痕,磨出啞光表面。然后用絲網(wǎng)版印上紋樣,油墨型號...
步驟一s1:設(shè)置一擋液板結(jié)構(gòu)10,其中該擋液板結(jié)構(gòu)10設(shè)置有復(fù)數(shù)個宣泄孔121;該擋液板結(jié)構(gòu)10包括有一***擋板11、一與該***擋板11接合的第二擋板12,以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13,其中該第二擋板12具有復(fù)數(shù)個貫穿該第二擋板12且錯...
以帶動該基板20由該噴灑裝置50下端部朝向該風(fēng)刀裝置40的該***風(fēng)刀41下端部的方向移動。該風(fēng)刀裝置40設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,該風(fēng)刀裝置40包括有一設(shè)置于該基板20上方的***風(fēng)刀41,以及一設(shè)置于該基板20下方的第二風(fēng)刀42,其中該***...
本實用新型有關(guān)于一種擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備,尤其是指一種適用于濕式蝕刻機的擋液排液功能且增加其透氣性以降低產(chǎn)品損耗的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備。背景技術(shù):請參閱圖1所示,為傳統(tǒng)擋液板結(jié)構(gòu)的整體設(shè)置示意圖,其中一實心pvc板態(tài)樣的擋液板結(jié)構(gòu)a...
本實用涉及電子化學(xué)品生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體為高蝕刻速率無殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置。背景技術(shù):近年來,人們對半導(dǎo)體裝置、液晶顯示器的需求量不斷增加的同時,對于這些裝置所具有的配線、電極等的微小化、高性能化的要求也越來越嚴格,而蝕刻的效果能直接導(dǎo)致電路板制...
本發(fā)明涉及回收處理技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置。背景技術(shù):廢銅蝕刻液含有可回收的金屬,所以需要進行回收處理,目前通用的做法是,使用化學(xué)方法回收廢液內(nèi)的銅,或提煉成硫酸銅產(chǎn)品,工藝落后,銅回收不徹底,處理的經(jīng)濟效益不明顯,有二次污染污染物...