資料顯示，異丙醇可代替乙醇用于復(fù)方消毒劑，受到了多國(guó)青睞，國(guó)內(nèi)異丙醇工廠訂單增加，推高了異丙醇報(bào)價(jià)。據(jù)生意社數(shù)據(jù)顯示，異丙醇產(chǎn)業(yè)鏈上游BT市場(chǎng)弱勢(shì)運(yùn)行，近期出現(xiàn)上漲，丙烯市場(chǎng)價(jià)格飆升，受?chē)?guó)際形勢(shì)影響，國(guó)際原YH情屢報(bào)新低。（△異丙醇產(chǎn)業(yè)鏈）分析師認(rèn)為，從目前歐...

以及脂肪酸異丙酯和氯代脂肪酸異丙酯等。在精細(xì)化工方面，可用于生產(chǎn)硝酸異丙酯，黃原酸異丙酯、亞磷酸三異丙酯、三異丙醇鋁以及醫(yī)藥和農(nóng)藥等。作為溶劑，可用于生產(chǎn)涂料、油墨、萃取劑、氣溶膠劑等。還可用作防凍劑、清潔劑、調(diào)和汽油的添加劑、顏料生產(chǎn)的分散劑、印染工...

但2017年由于環(huán)保嚴(yán)查，異丙醇下游裝置被動(dòng)停車(chē)，需求不佳的情況下，異丙醇價(jià)格不斷下滑，因此丙烯法異丙醇利潤(rùn)收到嚴(yán)重?cái)D壓繼而開(kāi)始倒掛。在2011年之前，丙同法異丙醇的利潤(rùn)整體高于丙烯法異丙醇，但同期裝置擴(kuò)能迅速，導(dǎo)致丙同法異丙醇利潤(rùn)虧損時(shí)間較長(zhǎng)，目前國(guó)內(nèi)丙同法...

蘇州博洋化學(xué)股份有限公司公司地址：蘇州市高新區(qū)滸關(guān)工業(yè)園華橋路155號(hào)分機(jī)號(hào)： 歡迎光大顧客朋友來(lái)電咨詢異丙醇，同時(shí)也歡迎各位來(lái)我司參觀交流！蘇州博洋化學(xué)股份有限公司聯(lián)系人：丁 先 生 公司地址：蘇州市高新區(qū)滸關(guān)工業(yè)園華橋路155號(hào)歡迎光大顧客朋友來(lái)電咨詢，同...

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本發(fā)明涉及蝕刻液組合物及選擇添加于該蝕刻液組合物的硅烷系偶聯(lián)劑的方法。背景技術(shù)：參照?qǐng)D1，可以確認(rèn)3dnand閃存(flashmemory)制造工序中的一部分。3dnand閃存可以通過(guò)在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性去除氮化物膜的工序(wetre...

可用于銀鎳合金、銀銅合金以及純銀的蝕刻，蝕刻后板面平整光滑。劑對(duì)油墨沒(méi)有影響，可用于花紋蝕刻處理。三、使用方法：1、原液使用，不須加水，操作溫度可以是25℃-60℃，溫度越高，速度越快。2、將銀板浸泡在銀蝕刻劑中。用軟毛刷來(lái)回輕輕刷動(dòng)，使藥水與銀充分均勻反應(yīng)；...

更推薦滿足。參照?qǐng)D4，在添加劑(硅烷系偶聯(lián)劑)的aeff處于，能夠使因副反應(yīng)氧化物的殘留時(shí)間變長(zhǎng)而氮化物膜未被完全去除的不良**少化，在硅烷系偶聯(lián)劑的aeff處于，能夠使氧化物膜損傷不良**少。因此，在利用上述范圍所重疊范圍(規(guī)格(spec)滿足區(qū)間)...

所述液體入口1處設(shè)有減壓閥12，所述蒸汽出口5處設(shè)有真空泵13、除霧組件3及除沫組件4，所述除霧組件3用于過(guò)濾分離器中閃蒸的蒸汽中的含銅液體，所述除沫組件4用于將經(jīng)除霧組件3除霧的氣體進(jìn)行除沫。含銅蝕刻液在加熱器11中進(jìn)行加熱，達(dá)到閃蒸要求的溫度，輸送...

當(dāng)該風(fēng)刀裝置40的***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42為了減少該基板20上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時(shí)，該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會(huì)往該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121流動(dòng)，并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出，除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴...

其中輸送裝置借由至少一呈順時(shí)針?lè)较蜣D(zhuǎn)動(dòng)的滾輪帶動(dòng)基板由噴灑裝置的下端部朝向風(fēng)刀裝置的***風(fēng)刀的下端部的方向移動(dòng)。如上所述的蝕刻方法，其中風(fēng)刀裝置分別借由一設(shè)置于該輸送裝置的上端部的***風(fēng)刀與一設(shè)置于該輸送裝置的下端部的第二風(fēng)刀朝向基板的上表面與下表...

并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121落下造成該基板20的蝕刻不均等異?，F(xiàn)象，確實(shí)達(dá)到保有原始擋液板的擋液效果，以及增加透氣性以破除真空以減少因真空吸板而導(dǎo)致該基板20刮傷或破片風(fēng)險(xiǎn)等主要優(yōu)勢(shì)。該蝕刻設(shè)備1可進(jìn)一步設(shè)置有一噴灑裝置50，...

本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝。背景技術(shù)：高精細(xì)芯片和顯示集成電路主要采用銅制程，其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過(guò)氧化氫系銅刻蝕液。過(guò)氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系，過(guò)硫酸銨體系...

微蝕液包括過(guò)硫酸鈉/硫酸體系和雙氧水/硫酸體系，在近幾年的運(yùn)用在PCB之表面處理制程，例如：沉銅（PTH)制程，電鍍制程、內(nèi)層前處理、綠油前處理、OSP處理等生產(chǎn)線。我們公司目前對(duì)過(guò)硫酸鈉/硫酸和雙氧水/硫酸兩種體系的微蝕工序研發(fā)設(shè)計(jì)了不同的循環(huán)再生設(shè)備。無(wú)論...

蝕刻液再生循環(huán)系統(tǒng)在電子線路版（PCB）蝕刻過(guò)程中，蝕刻液中的銅含量漸漸增加。蝕刻液要達(dá)到的蝕刻效果，每公升蝕刻液需含120至180克銅及相應(yīng)分量的蝕刻鹽（NH4CI）及氨水（NH3）。要持續(xù)蝕刻液中上述各種成份的濃度水平，蝕刻用過(guò)后的（以下稱[用后蝕刻液]）...

本實(shí)用涉及電子化學(xué)品生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體為高蝕刻速率無(wú)殘留酸性鋁蝕刻液生產(chǎn)裝置。背景技術(shù)：近年來(lái)，人們對(duì)半導(dǎo)體裝置、液晶顯示器的需求量不斷增加的同時(shí)，對(duì)于這些裝置所具有的配線、電極等的微小化、高性能化的要求也越來(lái)越嚴(yán)格，而蝕刻的效果能直接導(dǎo)致電路板制...

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