四川全國(guó)發(fā)貨美國(guó)IONPURE EDI模塊種類(lèi)

美國(guó)ionpureLXM45Z EDI模塊裝置將給水分成三股獨(dú)立的水流:純水、濃水、和極水。純水(90%-95%)為最終得到水,濃水(5%-10%)可以再循環(huán)處理,極水(1%)排放掉。

   美國(guó)ionpureLXM45Z EDI模塊裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透(ＲＯ)配合使用,組成預(yù)處理、反滲透、ＥＤＩ裝置的超純水處理系統(tǒng),取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備。ＥＤＩ裝置進(jìn)水要求為電阻率為0.025-0.5ＭΩ·ｃｍ,反滲透裝置完全可以滿(mǎn)足要求。ＥＤＩ裝置可生產(chǎn)電阻率高達(dá)15ＭΩ·ｃｍ以上的超純水。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保購(gòu)買(mǎi)品質(zhì)有保證。四川全國(guó)發(fā)貨美國(guó)IONPURE EDI模塊種類(lèi)

美國(guó)Ionpure EDI模塊工作主要有三個(gè)過(guò)程：

a.  淡水進(jìn)入淡水室后，淡水中的離子與混床樹(shù)脂發(fā)生交換，從而從水中脫離；

b.  被交換的離子受電性吸引作用，陽(yáng)離子穿過(guò)陽(yáng)離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過(guò)陰離子交換膜向陽(yáng)極遷移，并進(jìn)入濃水室從而從淡水中去除。

離子進(jìn)入濃水室后，由于陽(yáng)離子無(wú)法穿過(guò)陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無(wú)法穿過(guò)陽(yáng)離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽(yáng)離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進(jìn)水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來(lái)的時(shí)候，其純度可以達(dá)到接近理論純水的水平。 四川全國(guó)發(fā)貨美國(guó)IONPURE EDI模塊種類(lèi)美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質(zhì)量材質(zhì)上乘。

美國(guó)ionpureEDI模塊的進(jìn)水指標(biāo)：

◎通常為單級(jí)反滲透或二級(jí)反滲透的滲透水

◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計(jì)）：<25ppm。

◎電導(dǎo)率：<40μS/cm

◎PH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí)，EDI最 佳工作的pH范圍為8.0～9.0。

◎溫度：5～35℃。

◎進(jìn)水壓力：<4bar（60psi）。

◎硬度：（以CaCO3計(jì)）：<1.0ppm。

◎有機(jī)物（TOC）：<0.5ppm。

◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。

◎變價(jià)金屬：Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。

◎H2S：<0.01ppm。

◎二氧化硅：<0.5ppm。

◎色度：<5APHA。

◎二氧化碳的總量：<10ppm。

◎ SDI15min：<1.0。

清洗

隨著工作時(shí)間的累積，需要對(duì)美國(guó)IonpureEDI模塊進(jìn)行清洗及消毒，這是因?yàn)椋?

-硬度或金屬結(jié)垢，主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)；

-在離子交換樹(shù)脂或膜形成無(wú)機(jī)物污垢（例如，硅）；

-在離子交換樹(shù)脂或膜形成有機(jī)物污垢；

- EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢；

-以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下，需要使用一種以上的清洗方法。

高溫消毒

  美國(guó)IonpureEDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進(jìn)行消毒，消毒說(shuō)明將同時(shí)提供給用戶(hù)。

例行的消毒最 好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒，只適用于嚴(yán)重的生物污堵的消毒,消毒時(shí)先進(jìn)行低濃度氧化劑消毒，再用高PH清洗。 上海純超環(huán)保出售原裝進(jìn)口美國(guó)IONPURE EDI模塊。

    根據(jù)美國(guó)IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊系統(tǒng)的運(yùn)行狀態(tài)，EDI系統(tǒng)的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來(lái)清洗EDI模塊。

1．

  清洗時(shí)，EDI系統(tǒng)的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進(jìn)”和”濃水進(jìn)”清洗口進(jìn)入EDI，從“產(chǎn)水”、“濃水出”、“極水出”回到清洗水箱。（正洗）

2．

第 一步 酸洗：清洗水箱中配制2.0%鹽酸溶液，循環(huán)30分鐘。

      沖洗：清洗水箱中酸洗液放掉后，將水箱中水沖洗至中性，然后將清洗進(jìn)和回流管清洗到回流水至中性。

第二步 消毒：清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液（約用25% H2O2的濃10kg）循環(huán)50分鐘。

      沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。

第三步：堿洗：水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液，循環(huán)50分鐘。

      沖洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。

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如果電壓降低或是進(jìn)水的總離子水平提高的話(huà),那么系統(tǒng)中的樹(shù)脂會(huì)更多的和離子發(fā)生交換,相應(yīng)的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動(dòng),直至達(dá)到新的平衡,或是穿透,這一過(guò)程中,出水電導(dǎo)會(huì)發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是最明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進(jìn)水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會(huì)向進(jìn)水側(cè)發(fā)生移動(dòng),表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過(guò)出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來(lái)實(shí)現(xiàn),并可以通過(guò)工作區(qū)間的移動(dòng)來(lái)解釋。

     濃水流量的變化是另一個(gè)調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對(duì)于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對(duì)去除弱電離子Ｓｉ也有一定關(guān)系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的溶解度是１２０ｍｇ／Ｌ。所以進(jìn)水的濃縮倍率達(dá)到一定程度后,Ｓｉ在濃水中就會(huì)飽和,導(dǎo)致不能進(jìn)行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 四川全國(guó)發(fā)貨美國(guó)IONPURE EDI模塊種類(lèi)

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