天津單極型集成電路工藝

    圖a至圖b示出了包括存儲(chǔ)器電路的集成芯片的一些額外實(shí)施例，該存儲(chǔ)器電路具有被配置為選擇性地對(duì)工作mtj器件提供訪問(wèn)的調(diào)節(jié)訪問(wèn)裝置。圖a示出了具有調(diào)節(jié)訪問(wèn)裝置的存儲(chǔ)器電路的一些額外實(shí)施例的示意圖，調(diào)節(jié)訪問(wèn)裝置包括調(diào)節(jié)mtj器件、調(diào)節(jié)mtj器件和第三調(diào)節(jié)mtj器件。調(diào)節(jié)mtj器件連接在字線(例如，wl)和偏置電壓線(例如，bvl)之間，調(diào)節(jié)mtj器件連接在字線(例如，wl)和偏置電壓線(例如，bvl)之間，第三調(diào)節(jié)mtj器件連接在偏置電壓線(例如，bvl)和工作mtj器件之間。工作mtj器件連接在第三調(diào)節(jié)mtj器件和位線(例如，bl)之間。包含第三調(diào)節(jié)mtj器件在產(chǎn)生不同的電阻來(lái)控制相關(guān)的工作mtj器件內(nèi)的電流方面賦予調(diào)節(jié)訪問(wèn)裝置更大的靈活性。圖b示出了對(duì)應(yīng)于圖a的存儲(chǔ)器電路的集成電路的一些實(shí)施例的截面圖。雖然關(guān)于具有調(diào)節(jié)mtj器件的調(diào)節(jié)訪問(wèn)裝置描述了圖至圖b中示出的操作和/或裝置，但是應(yīng)該理解，公開(kāi)的存儲(chǔ)單元不限于這樣的實(shí)施例。而且，在可選實(shí)施例中，圖至圖b的操作和/或裝置可以實(shí)施和/或包括具有調(diào)節(jié)薄膜電阻器(例如，包括鉭、氮化鉭、鈦、鎢等)的調(diào)節(jié)訪問(wèn)裝置。圖至出了形成具有存儲(chǔ)器電路的集成芯片的方法的一些實(shí)施例的截面圖至，該存儲(chǔ)器電路包括存儲(chǔ)單元(例如。集成電路哪家服務(wù)好？認(rèn)準(zhǔn)深圳市美信美科技有限公司。天津單極型集成電路工藝

    深圳市美信美科技有限公司于年月日成立。公司經(jīng)營(yíng)范圍包括：一般經(jīng)營(yíng)項(xiàng)目是：電子產(chǎn)品及其配件的技術(shù)開(kāi)發(fā)與銷(xiāo)售；國(guó)內(nèi)貿(mào)易等。本公司主營(yíng)推廣銷(xiāo)售AD（亞德諾）,LINEAR（凌特）以及TI、MAXIM、NXP等國(guó)際有名品牌集成電路。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于：汽車(chē)、通信、消費(fèi)電子、工業(yè)控制、醫(yī)療器械、儀器儀表、安防監(jiān)控等領(lǐng)域。本申請(qǐng)涉及一種集成電路封裝結(jié)構(gòu)，尤其是集成電路的小型化與高功率密度化的封裝結(jié)構(gòu)。背景技術(shù)：集成電路在滿(mǎn)足摩爾定律的基礎(chǔ)上尺寸越做越小。尺寸越小，技術(shù)進(jìn)步越困難。而設(shè)備的智能化，小型化，功率密度的程度越來(lái)越高，為解決設(shè)備小型化，智能化，超高功率密度這些問(wèn)題，不但需要提升各種功能的管芯的功能，效率，縮小其面積，體積；還需要在封裝技術(shù)層面上完成小型化，集成化，高功率密度化等技術(shù)要求，并解決由此帶來(lái)的集成電路的散熱問(wèn)題，生產(chǎn)工藝復(fù)雜，生產(chǎn)周期長(zhǎng)，生產(chǎn)成本高等問(wèn)題。現(xiàn)有很多集成電路封裝結(jié)構(gòu)，有沿用常規(guī)的封裝方式，采用框架安裝各種管芯，采用線材鍵合作電氣聯(lián)結(jié)，在功率較大時(shí)，常常采用較粗的鍵合線和較多的鍵合線。此類(lèi)封裝方式有比如ipm模組的dip封裝，單顆mosfet的to封裝等，此類(lèi)封裝體積通常都比較大。不適宜小型化應(yīng)用。惠州半導(dǎo)體集成電路芯片穩(wěn)定靠譜的集成電路供應(yīng)，認(rèn)準(zhǔn)深圳美信美科技現(xiàn)貨商。

    介電結(jié)構(gòu)還圍繞多個(gè)導(dǎo)電互連層a至c。在一些實(shí)施例中，介電結(jié)構(gòu)可以包括多個(gè)堆疊的ild層。在各個(gè)實(shí)施例中，多個(gè)堆疊的ild層可以包括氧化硅、氟摻雜的氧化硅、碳摻雜的氧化硅等的一種或多種。在各個(gè)實(shí)施例中，多個(gè)導(dǎo)電互連層a至c可以包括銅、鋁、鎢、碳納米管等。存儲(chǔ)單元a,和存儲(chǔ)單元b,分別包括調(diào)節(jié)訪問(wèn)裝置和工作mtj器件。調(diào)節(jié)訪問(wèn)裝置連接至限定多條字線wl至wl的互連層a。多條字線wl至wl中的兩個(gè)連接至圖的存儲(chǔ)器陣列的一行內(nèi)的相應(yīng)存儲(chǔ)單元。例如，字線wl至wl可以連接至行中的存儲(chǔ)單元a,，并且字線wl至wl可以連接至行中的存儲(chǔ)單元b,。在一些實(shí)施例中，多條字線wl至wl可以與襯底分隔開(kāi)非零距離d?；ミB層b布置在調(diào)節(jié)訪問(wèn)裝置和工作mtj器件之間。工作mtj器件進(jìn)一步連接至限定位線bl的第三互連層c。位線bl連接至布置在存儲(chǔ)器陣列的一列內(nèi)的存儲(chǔ)單元內(nèi)的工作mtj器件。例如，位線bl連接至圖的存儲(chǔ)器陣列的列內(nèi)的工作mtj器件。在一些實(shí)施例中，工作mtj器件通過(guò)包括多個(gè)導(dǎo)電互連層a至c并且不延伸穿過(guò)襯底的連續(xù)導(dǎo)電路徑連接在位線blz(z＝,)和字線wlx(x＝,)之間。在一些實(shí)施例中，工作mtj器件不位于被配置為控制對(duì)工作mtj器件的訪問(wèn)的存取晶體管器件正上方。在一些實(shí)施例中。

    連接至字線wl和wl的工作mtj器件也不受寫(xiě)入操作的步驟的影響。b的示意圖所示，通過(guò)將數(shù)據(jù)狀態(tài)寫(xiě)入存儲(chǔ)器陣列的行中的存儲(chǔ)單元a,內(nèi)的工作mtj器件來(lái)實(shí)施寫(xiě)入操作的步驟。通過(guò)將非零偏置電壓v(例如，v)施加至字線wl和wl，將非零偏置電壓v(例如，v)施加至位線bl和bl并且將第三偏置電壓v(例如，v)施加至位線bl來(lái)實(shí)施寫(xiě)入操作的步驟。非零偏置電壓v(例如，v)和第三偏置電壓v(例如，v)之間的差異使得電流i流過(guò)存儲(chǔ)單元a,內(nèi)的調(diào)節(jié)mtj器件。電流i小于切換電流isw，使得存儲(chǔ)單元a,內(nèi)的調(diào)節(jié)mtj器件的狀態(tài)不變。然而，電流i(其流過(guò)存儲(chǔ)單元a。內(nèi)的工作mtj器件)的兩倍大于切換電流isw，以將數(shù)據(jù)狀態(tài)寫(xiě)入存儲(chǔ)單元a,內(nèi)的工作mtj器件。存儲(chǔ)單元a,和第三存儲(chǔ)單元a,內(nèi)的工作mtj器件不受寫(xiě)入操作的步驟的影響，因?yàn)榉橇闫秒妷簐(例如，v)和非零偏置電壓v。例如，v)之間的差異使得小于切換電流的電流i流過(guò)存儲(chǔ)單元a,和第三存儲(chǔ)單元a。內(nèi)的調(diào)節(jié)mtj器件。然而，電流i的兩倍小于切換電流isw，使得沒(méi)有將數(shù)據(jù)狀態(tài)寫(xiě)入至存儲(chǔ)單元a,和第三存儲(chǔ)單元a,內(nèi)的工作mtj器件。圖c示出了示出從工作mtj器件讀取數(shù)據(jù)狀態(tài)的讀取操作的示意圖的一些實(shí)施例。如示意圖所示，通過(guò)將非零偏置電壓v(例如。隨機(jī)存取存儲(chǔ)器是常見(jiàn)類(lèi)型的集成電路，所以密度高的設(shè)備是存儲(chǔ)器，但即使是微處理器上也有存儲(chǔ)器。

    可以對(duì)磁固定膜、介電阻擋層和磁自由膜實(shí)施一個(gè)或多個(gè)圖案化工藝以限定多個(gè)mtj器件、和。在其它實(shí)施例中，可以在不同時(shí)間形成多個(gè)mtj器件、和。的截面圖所示，在多個(gè)mtj器件、和上方形成多個(gè)頂電極通孔。多個(gè)頂電極通孔由ild層圍繞。在一些實(shí)施例中?？梢栽诙鄠€(gè)mtj器件、和上方沉積ild層，并且然后選擇性地圖案化ild層以限定頂電極通孔開(kāi)口。然后通過(guò)沉積工藝在頂電極通孔開(kāi)口內(nèi)形成多個(gè)頂電極通孔。在各個(gè)實(shí)施例中，ild層可以包括一種或多種介電材料，諸如二氧化硅(sio)、sicoh、氟硅酸鹽玻璃、磷酸鹽玻璃(例如，硼磷硅酸鹽玻璃)等。在各個(gè)實(shí)施例中，多個(gè)頂電極通孔可以包括導(dǎo)電材料，諸如鈦、氮化鈦、鉭等。在多個(gè)mtj器件、和上方的第三ild層內(nèi)形成互連層b。在一些實(shí)施例中，互連層b包括限定存儲(chǔ)單元a,的位線bl和一條或多條字線wl至wl的多個(gè)互連結(jié)構(gòu)。在一些實(shí)施例中，第三ild層可以包括通過(guò)一個(gè)或多個(gè)沉積工藝(例如，pvd、cvd、pe-cvd等)形成的電介質(zhì)(例如，氧化物、低k電介質(zhì)或k電介質(zhì))?？梢酝ㄟ^(guò)選擇性地蝕刻第三ild層以在第三ild層內(nèi)形成開(kāi)口來(lái)形成互連層b。然后在開(kāi)口內(nèi)沉積導(dǎo)電材料(例如，銅和/或鋁)，以及隨后的平坦化工藝(例如。深圳美信美集成電路質(zhì)量好。東莞特大規(guī)模集成電路企業(yè)

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    并且由此選擇性地對(duì)相關(guān)的工作mtj器件提供訪問(wèn)。例如，在寫(xiě)入操作期間，存儲(chǔ)器陣列內(nèi)的調(diào)節(jié)訪問(wèn)裝置可以對(duì)選擇的存儲(chǔ)單元內(nèi)的工作mtj器件提供大于或等于小切換電流(即，足以使存儲(chǔ)單元的數(shù)據(jù)狀態(tài)改變的電流)電流，而對(duì)未選擇的存儲(chǔ)單元內(nèi)的工作mtj器件提供小于小切換電流的電流。深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。公司經(jīng)營(yíng)范圍包括：一般經(jīng)營(yíng)項(xiàng)目是：電子產(chǎn)品及其配件的技術(shù)開(kāi)發(fā)與銷(xiāo)售；國(guó)內(nèi)貿(mào)易等。本公司主營(yíng)推廣銷(xiāo)售AD（亞德諾）,LINEAR（凌特）以及TI、MAXIM、NXP等國(guó)際品牌集成電路。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于：汽車(chē)、通信、消費(fèi)電子、工業(yè)控制、醫(yī)療器械、儀器儀表、安防監(jiān)控等領(lǐng)域。本公司一直秉承優(yōu)勢(shì)服務(wù)，誠(chéng)信合作的原則，以現(xiàn)代化管理以及優(yōu)勢(shì)的渠道價(jià)格、良好的信譽(yù)與廣大客戶(hù)建立了長(zhǎng)期友好的合作關(guān)系，為廣大廠商和市場(chǎng)客戶(hù)提供優(yōu)勢(shì)的產(chǎn)品服務(wù)。使用調(diào)節(jié)訪問(wèn)裝置來(lái)選擇性地對(duì)工作mtj器件提供訪問(wèn)提供了沒(méi)有驅(qū)動(dòng)晶體管的存儲(chǔ)單元。沒(méi)有驅(qū)動(dòng)晶體管的存儲(chǔ)單元允許存儲(chǔ)器陣列的尺寸減小，從而改進(jìn)存儲(chǔ)器電路的性能并且減小成本。出了具有調(diào)節(jié)訪問(wèn)裝置的存儲(chǔ)器電路的一些額外實(shí)施例的示意圖。天津單極型集成電路工藝