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**簡單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)薄層。在這種情況下，可以用光的干涉理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色平面波入射到光學(xué)薄膜上時，在它的兩個表面上發(fā)生多次反射和折射，反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出，反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確定（見光在分界面上的折射和反射）。光學(xué)薄膜的特點(diǎn)是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割；膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變，但在膜層內(nèi)是連續(xù)的；可以是透明介質(zhì)，也可以是吸收介質(zhì)；可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因?yàn)椋褐苽鋾r，薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料，其表面和界面是粗糙的，從而導(dǎo)致光束的漫散射；膜層之間的相互滲透形成擴(kuò)散界面；由于膜層的生長、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因，形成了薄膜的各向異性；膜層具有復(fù)雜的時間效應(yīng)。一般高反射膜，隨著入射角的增大，垂直分量的反射帶寬逐漸增大，而平行分量的帶寬逐漸減少。江蘇本地光學(xué)膜服務(wù)電話

◆ 迄今為止（2013年）常用的光學(xué)薄膜有：高反射膜；減反射膜；濾光膜；濾色膜；增透膜；聚光膜；擴(kuò)散膜；偏光膜等等。Veitch Tech的液晶顯示光學(xué)薄膜是一種通過微結(jié)構(gòu)產(chǎn)生光線多次折射及聚焦原理形成的光學(xué)膜，其獨(dú)特的技術(shù)和工藝而減少光 線吸收，保證了光線穿透而亮度更高。除可以提高亮度收益之外， 還可以通過光的折射及散射而起到光擴(kuò)散，霧化功能效果。增光膜增光膜（BEF）是在透明性非常好的PET表面，使用丙烯酸樹脂，精密成型一層分散一致的棱鏡結(jié)構(gòu)及背面光擴(kuò)散層組合的光學(xué)薄膜，運(yùn)用在液晶顯示的上層增光,使光線經(jīng)由增光之微結(jié)構(gòu)進(jìn)行光的回收與聚光，產(chǎn)生增亮的效果，高亮度設(shè)計(jì)，帶擴(kuò)散功能, 由於擴(kuò)散層的基理,從而消除光耦合（Wet out） 現(xiàn)象，光顯示更加均勻，柔和。南通品牌光學(xué)膜服務(wù)電話圖4和圖5分別給出中性光強(qiáng)分光膜和平板型偏振分光膜的反射光譜曲線。

2.利用光波干涉原理，在鏡片的表面鍍上一層薄膜，厚度為1/4 波長的光學(xué)厚度，使光線不再只被玻璃—空氣界面反射，而是空氣—薄膜、薄膜—玻璃二個界面反射，因此產(chǎn)生干涉現(xiàn)象，可使反射光減少。若鍍二層的抗反射膜，使反射率更低，但是鍍一層或二層都有缺點(diǎn)：低反射率的波帶不移寬，不能在可見光范圍都達(dá)到低反射率。1961年Cox、Hass和 Thelen三位首先發(fā)表以1/4一1/2一1/4波長光學(xué)厚度作三層抗反射膜可以得到寬波帶低反射率的抗反射膜。多層抗反射膜除了寬波帶的，也可做到窄波帶的。也就是針對其一波長如氨氟雷射632.8nm波長，要求極高的透射，可使63Z.8nm這一波長透射率高達(dá)99.8%以上，用之於雷射儀器。但若需要對某一波長的光線有看極高的反射率需要用高低不同折射系數(shù)的材料反覆蒸鍍數(shù)十層才可達(dá)到此效果

減反射膜，又稱增透膜，它的主要功能是減少或消除透鏡、棱鏡、平面鏡等光學(xué)表面的反射光，從而增加這些元件的透光量，減少或消除系統(tǒng)的雜散光。減反射膜是應(yīng)用**廣、產(chǎn)量比較大的一種光學(xué)薄膜，因此，它仍是光學(xué)薄膜技術(shù)中重要的研究課題，研究的重點(diǎn)是尋找新材料，設(shè)計(jì)新膜系,改進(jìn)淀積工藝,使之用**少的層數(shù)，**簡單、**穩(wěn)定的工藝，獲得盡可能高的成品率，達(dá)到**理想的效果。減反射膜是一種應(yīng)用范圍很廣的光學(xué)鍍層，廣泛應(yīng)用于日常生活、工業(yè)、天文學(xué)、***學(xué)、電子等領(lǐng)域。隨著電子工業(yè)和計(jì)算機(jī)的發(fā)展，顯示器防眩防靜電膜和電腦視保屏成為減反射膜新的應(yīng)用領(lǐng)域，具有廣闊的市場前景，它不僅能夠有效提高電池的轉(zhuǎn)化效率，而且能改善基體的力學(xué)性能、電學(xué)性能、光學(xué)性能及其他物理化學(xué)性能。 [1]常用的保護(hù)膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。

填充密度定義為薄膜固體部分的體積與薄膜的總體積(包括空隙和微孔)之比。對于光學(xué)薄膜，填充密度通常為0.75～**部分為0.85～0.95，很少達(dá)到1.0。小于l的填充密度使所蒸發(fā)材料的折射率低于其塊料的折射率。在沉積過程中，每一層的厚度均由光學(xué)或石英晶體監(jiān)控。這兩種技術(shù)各有優(yōu)缺點(diǎn)，這里不作討論。其共同點(diǎn)是材料蒸發(fā)時它們均在真空中使用，因而，折射率是蒸發(fā)材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮濕空氣中的材料折射率。薄膜吸收的潮氣取代微孔和空隙，造成薄膜的折射率升高。由于薄膜的物理厚度保持不變，這種折射率升高伴有相應(yīng)的光學(xué)厚度的增加，反過來造成薄膜光譜特性向長波方向的漂移。為了減小由膜層內(nèi)微孔的體積和數(shù)量所引起的這種光譜漂移，采用高能離子以將其動量傳遞給正在蒸發(fā)的材料原子，從而**增加材料原子在基底表面處凝結(jié)期間的遷移率。 [3]薄膜的生長、薄膜的結(jié)構(gòu)以及它們對薄膜性質(zhì)的影響；通州區(qū)挑選光學(xué)膜均價

光學(xué)保護(hù)膜沉積在金屬或其他軟性易侵蝕材料或薄膜表面，用以增加其強(qiáng)度或穩(wěn)定性，改進(jìn)光學(xué)性質(zhì)。江蘇本地光學(xué)膜服務(wù)電話

光學(xué)功能膜是現(xiàn)代光學(xué)儀器和光電子器件的**組件，其通過薄層介質(zhì)實(shí)現(xiàn)光束調(diào)控 [1]。主要類型包括偏振片和相位差補(bǔ)償膜，其中偏振片作為液晶顯示器中**昂貴的化學(xué)材料之一 [2]。該類產(chǎn)品采用聚酯切片為基材，需滿足高透光率、低霧度等性能要求 [1]，生產(chǎn)涉及高分子材料、膜加工、染料、膠粘劑、光學(xué)、機(jī)械設(shè)備和計(jì)算機(jī)自動控制等復(fù)合技術(shù)領(lǐng)域 [2]。自20世紀(jì)30年代應(yīng)用以來，該技術(shù)歷經(jīng)真空鍍膜設(shè)備革新與光電產(chǎn)業(yè)升級，逐步形成由日本東麗、三菱樹脂、東洋紡，韓國SKC，美國3M等公司主導(dǎo)的高度壟斷市場格局 [1]。江蘇本地光學(xué)膜服務(wù)電話

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