天津原裝進(jìn)口干冰清洗聯(lián)系方式

應(yīng)用時(shí)的關(guān)鍵注意事項(xiàng)與挑戰(zhàn)沖擊力控制：噴射壓力、干冰顆粒大小和噴射距離需要根據(jù)PCBA的具體情況（元件密度、脆弱程度、污染物類型）進(jìn)行優(yōu)化。過高的壓力或過近的距離可能損壞非常精細(xì)的元件（如跳線、小電阻/電容）或已受損的焊點(diǎn)。低溫效應(yīng)：極低溫可能對(duì)一些特定元件產(chǎn)生影響：電解電容： 低溫可能導(dǎo)致電解質(zhì)性能暫時(shí)變化（通?？苫謴?fù)），需謹(jǐn)慎評(píng)估或局部防護(hù)。塑料連接器/外殼： 某些低溫下變脆的塑料可能因沖擊而破裂。熱敏元件/標(biāo)簽： 極低溫可能影響其性能或粘性。鋰電池： ***禁止直接清洗帶有鋰電池的PCBA，低溫會(huì)嚴(yán)重?fù)p壞電池。清洗后板卡溫度會(huì)迅速回升到室溫，熱沖擊對(duì)焊點(diǎn)本身影響通常很小，但需考慮元件內(nèi)部結(jié)構(gòu)差異。污染物收集：必須配備有效的抽吸系統(tǒng)（集成在干冰清洗設(shè)備或外接）來及時(shí)吸走剝離的污染物和升華的CO2氣體，防止污染物重新沉降或工作區(qū)域CO2濃度過高。靜電風(fēng)險(xiǎn)：高速氣流和顆粒摩擦可能產(chǎn)生靜電。對(duì)于高敏感器件（如某些MOSFET），應(yīng)評(píng)估ESD風(fēng)險(xiǎn)并采取適當(dāng)防護(hù)措施（設(shè)備接地、離子風(fēng)）。設(shè)備成本與操作：干冰清洗設(shè)備（干冰制造機(jī)或儲(chǔ)罐、噴射機(jī)）的初期投資高于一些傳統(tǒng)方法。操作需要培訓(xùn)以掌握比較好參數(shù)。酷爾森干冰清洗去除印刷機(jī)上的各種油墨，清理齒輪、導(dǎo)軌及噴嘴上的臟污，具有洗舊如新，不磨損的優(yōu)勢(shì)。天津原裝進(jìn)口干冰清洗聯(lián)系方式

酷爾森的干冰清洗技術(shù)在芯片行業(yè)應(yīng)用的**優(yōu)勢(shì)無殘留、無二次污染：干冰顆粒在撞擊瞬間升華（固態(tài)→氣態(tài)），只留下被去除的污染物需要吸走，不會(huì)引入任何新的化學(xué)殘留、水跡或介質(zhì)殘留。這對(duì)防止晶圓表面污染和設(shè)備內(nèi)部化學(xué)干擾至關(guān)重要。非研磨性、非破壞性：干冰顆粒質(zhì)地柔軟，在合理的工藝參數(shù)下（壓力、流量、距離、角度），其清潔作用主要依靠熱沖擊效應(yīng)（使污染物脆化收縮）和動(dòng)能沖擊（剝離），而非硬性摩擦。因此，對(duì)大多數(shù)金屬、陶瓷、硬質(zhì)塑料等基材表面損傷風(fēng)險(xiǎn)極低，保護(hù)昂貴的精密部件。無需拆卸設(shè)備（在線清潔）：干冰噴射可以通過設(shè)備原有的端口或開口進(jìn)行，實(shí)現(xiàn)原位清潔。這**減少了設(shè)備停機(jī)時(shí)間，提高了生產(chǎn)效率，避免了因頻繁拆卸組裝帶來的損壞風(fēng)險(xiǎn)和精度損失。干燥清潔：整個(gè)過程完全干燥，不涉及任何液體或濕氣。避免了水洗帶來的干燥時(shí)間長(zhǎng)、可能引起的腐蝕、短路（對(duì)帶電或敏感部件尤其重要）以及水痕殘留問題。環(huán)保性：干冰是食品級(jí)二氧化碳的固體形態(tài)，來源于工業(yè)副產(chǎn)品回收利用。清潔過程不產(chǎn)生額外的有害化學(xué)廢物（只需處理收集的污染物本身），符合嚴(yán)格的環(huán)保法規(guī)和Fab廠的環(huán)境要求。無VOC排放。西藏防爆干冰清洗銷售見證酷爾森干冰清洗的魔力！噴頭過一遍，多年的沉積污垢，仿佛按了一鍵還原，嶄新如初，連縫隙都干干凈凈。

封裝模具與載板清潔清潔對(duì)象：塑封模具（型腔、澆道）、晶圓載板（Wafer Carrier）。污染問題：塑封過程中，環(huán)氧樹脂（封裝材料）會(huì)在模具型腔殘留、固化，導(dǎo)致封裝體出現(xiàn)飛邊、缺膠；載板表面若有焊錫殘?jiān)?、粉塵，會(huì)影響晶圓定位精度。干冰清洗作用：干冰的低溫使殘留環(huán)氧樹脂脆化，輕松剝離模具死角（如型腔拐角、澆道狹窄處）的固化物，無需使用脫模劑（傳統(tǒng)脫模劑可能污染芯片）。清潔載板表面的微小焊錫顆粒和粉塵，保障晶圓在測(cè)試或封裝時(shí)的定位精度（誤差需控制在 ±5μm 內(nèi)）。半導(dǎo)體設(shè)備與潔凈室維護(hù)半導(dǎo)體生產(chǎn)依賴大量精密設(shè)備（如光刻機(jī)、量測(cè)儀器）和 Class 1 級(jí)潔凈室，其清潔直接影響生產(chǎn)穩(wěn)定性：1. 精密設(shè)備部件清潔光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)：清潔鏡頭表面的油污、粉塵（鏡頭精度達(dá)納米級(jí)，任何污染都會(huì)影響曝光精度），酷爾森的干冰顆粒（1μm 以下）可在不接觸鏡頭的情況下去除污染物，避免劃傷鍍膜層。自動(dòng)化機(jī)械臂：清潔機(jī)械臂抓手（End Effector）表面的晶圓殘留顆粒（如硅粉），避免對(duì)下一片晶圓造成二次污染。量測(cè)儀器探頭：如膜厚儀、橢偏儀的檢測(cè)探頭，去除表面的有機(jī)污染物，保障量測(cè)數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性（誤差需≤0.1nm）。

coulson的干冰清洗技術(shù)在芯片（半導(dǎo)體）制造行業(yè)中的應(yīng)用是一種高效、精密且環(huán)保的清潔方法，尤其適用于對(duì)污染極度敏感、不能接觸液體或化學(xué)溶劑、且需要避免物理損傷的精密設(shè)備和組件。以下是其在該行業(yè)的主要應(yīng)用場(chǎng)景、優(yōu)勢(shì)和技術(shù)要點(diǎn)：一、 **應(yīng)用場(chǎng)景晶圓制造設(shè)備維護(hù)與清潔：等離子體刻蝕/沉積設(shè)備腔室： 這些腔室（如反應(yīng)室、氣體噴淋頭、靜電卡盤邊緣、腔壁、擋板）內(nèi)部會(huì)積累聚合物、殘留光刻膠、金屬沉積物、副產(chǎn)物等頑固污染物。干冰清洗能有效去除這些沉積物，無需拆卸設(shè)備或使用腐蝕性化學(xué)品，***減少設(shè)備停機(jī)時(shí)間?；瘜W(xué)氣相沉積/物***相沉積設(shè)備： 類似刻蝕設(shè)備，腔室內(nèi)部、噴頭、加熱器等部件上的薄膜沉積殘留物需要定期去除。離子注入機(jī)部件： 清潔束流線、靶室、掃描系統(tǒng)等部件上的污染物。光刻機(jī)**部件： 清潔機(jī)臺(tái)框架、導(dǎo)軌、防護(hù)罩等非光學(xué)**部件上的微粒和有機(jī)物（如潤滑脂、指紋、環(huán)境塵埃），避免污染物遷移到**光學(xué)區(qū)域。注意：不能直接用于清潔極其精密的光學(xué)元件（如透鏡、反射鏡）。擴(kuò)散爐管及舟： 清潔爐管口、石英舟等部件上的氧化物、摻雜劑殘留等?？釥柹杀逑聪鹉z，干冰高速噴射，快速脆化污垢，在干冰升華的作用下，迅速將污垢與橡膠進(jìn)行剝離。

沉積 / 刻蝕腔體及部件清潔清潔對(duì)象：CVD（化學(xué)氣相沉積）腔體、PVD（物***相沉積）靶材、刻蝕機(jī)反應(yīng)室（內(nèi)壁、噴頭、電極）。污染問題：沉積過程中，薄膜材料（如 SiO?、SiN、金屬 Cu/Al）會(huì)在腔體壁、靶材邊緣沉積，形成 “結(jié)垢層”，積累到一定厚度會(huì)剝落并污染晶圓；刻蝕反應(yīng)室中，等離子體與晶圓反應(yīng)生成的聚合物（如 CF?刻蝕硅產(chǎn)生的 CxFy）會(huì)附著在噴頭和電極表面，導(dǎo)致刻蝕速率不均勻。干冰清洗作用：無需拆卸腔體（傳統(tǒng)清潔需拆解，耗時(shí) 4-8 小時(shí)，且可能引入外界污染），通過酷爾森icestorm干冰顆粒的沖擊和低溫脆化效應(yīng)，使結(jié)垢層（硬度較高的陶瓷或金屬薄膜）與腔體基材分離，隨氣流排出。保護(hù)腔體內(nèi)部精密部件（如石英噴頭、金屬電極）：控制干冰顆粒尺寸（3-5mm）和壓力（0.3-0.6MPa），可去除靶材邊緣的沉積殘留，同時(shí)不損傷靶材表面（靶材精度直接影響沉積薄膜的均勻性）。高效清潔餅干烤爐、輸送帶、餅?zāi)＃烤瓦x酷爾森干冰清洗，利用干冰進(jìn)行低溫干式除污，避免滋生細(xì)菌。山西進(jìn)口干冰清洗聯(lián)系方式

以干冰清洗，功能出色穩(wěn)定，清潔快速高效。流程合理科學(xué)，優(yōu)勢(shì)突出。天津原裝進(jìn)口干冰清洗聯(lián)系方式

酷爾森環(huán)?？萍迹ㄉ虾＃┯邢薰镜母杀逑醇夹g(shù)在冶金行業(yè)中扮演著越來越重要的角色，因?yàn)樗峁┝艘环N高效、環(huán)保、無損且無需拆卸設(shè)備的清潔解決方案，特別適合應(yīng)對(duì)冶金生產(chǎn)環(huán)境中的頑固污垢、油漬、積碳、殘留物、氧化物（如鐵銹）和粉塵等。以下是干冰清洗在冶金行業(yè)的主要應(yīng)用場(chǎng)景和優(yōu)勢(shì)：模具清潔：應(yīng)用對(duì)象： 壓鑄模具（鋁、鎂、鋅合金等）、鍛造模具、連鑄結(jié)晶器、軋輥孔型。問題： 模具在高溫高壓下工作，表面會(huì)積累脫模劑殘留、金屬飛邊、氧化物、積碳（來自潤滑劑或脫模劑燒焦）。干冰優(yōu)勢(shì)： 無需拆卸大型、笨重、高溫的模具即可在線清潔。干冰顆粒的沖擊力能有效去除頑固殘留物，同時(shí)低溫效應(yīng)使污垢收縮變脆，易于剝離。不損傷模具表面精度和光潔度，明顯延長(zhǎng)模具壽命，提高產(chǎn)品質(zhì)量（減少表面缺陷），縮短停機(jī)時(shí)間。冶煉設(shè)備清潔：應(yīng)用對(duì)象： 電弧爐、轉(zhuǎn)爐、鋼包、中間包、鐵水包、AOD/VOD爐的內(nèi)襯、爐口、煙罩、電極夾持器、測(cè)溫取樣探頭。問題： 爐壁和爐口積聚熔渣、噴濺金屬、耐火材料粉塵、積碳；煙罩和管道內(nèi)積累煙塵、焦油。干冰優(yōu)勢(shì)： 可在設(shè)備冷卻后或短暫停爐期間進(jìn)行清潔。天津原裝進(jìn)口干冰清洗聯(lián)系方式