世界領(lǐng) 先的衍射波導設計商和制造商WaveOptics今 天宣布與EV Group（EVG）進行合作，EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設備的領(lǐng) 先供應商，以帶來高性能增強現(xiàn)實（ AR）波導以當今業(yè)界zui低的成本進入大眾市場。波導是可穿戴AR的關(guān)鍵光學組件。
WaveOptics首席執(zhí)行官David Hayes評論：“這一合作伙伴關(guān)系標志著增強現(xiàn)實行業(yè)的轉(zhuǎn)折點，是大規(guī)模生產(chǎn)高質(zhì)量增強現(xiàn)實解決方案的關(guān)鍵步驟，這是迄今為止尚無法實現(xiàn)的能力。” EVG的專業(yè)知識與我們可擴展的通用技術(shù)的結(jié)合將使到明年年底，AR終端用戶產(chǎn)品的市場價格將低于600美元?！斑@項合作是釋放AR可穿戴設備發(fā)展的關(guān)鍵；我們共同處于有利位置，可以在AR中引入大眾市場創(chuàng)新，以比以往更低的成本開辟了可擴展性的新途徑?！?最小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度，這對于實現(xiàn)衍射光學元件（DOE）至關(guān)重要。內(nèi)蒙古納米壓印美元價格
EVG ® 520 HE熱壓印系統(tǒng)
特色：經(jīng)通用生產(chǎn)驗證的熱壓印系統(tǒng)，可滿足最 高要求
EVG520 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設計用于對熱塑性基材進行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過生產(chǎn)驗證的系統(tǒng)可以接受直徑最 大為200 mm的基板，并且與標準的半導體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能，并管理適用于熱壓印的整個聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項，提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。
如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務有限公司。 EV Group納米壓印三維芯片應用EVG系統(tǒng)是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制（制造）的第 一選擇。
納米壓印光刻設備-處理結(jié)果：
新應用程序的開發(fā)通常與設備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術(shù)和光子應用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRI SmartNIL®壓印上的單個像素的1.AFM圖像壓印全息結(jié)構(gòu)的AFM圖像
資料來源：EVG與SwissLitho
AG合作（歐盟項目SNM）
2.通過熱壓花在PMMA中復制微流控芯片
資料來源：EVG
3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列
由加拿大國家研究委 員會提供
4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層，厚度約為10 nm
資料來源：EVG
5.紫外線成型鏡片300 μm
資料來源：EVG
6.光子晶體用于LED的光提取
多晶硅的蜂窩織構(gòu)化（mc-Si）
由Fraunhofer ISE提供
7.金字塔形結(jié)構(gòu)50 μm
資料來源：EVG
8.最小尺寸的光模塊晶圓級封裝
資料來源：EVG
9.光子帶隙傳感器光柵
資料來源：EVG（歐盟Saphely項目）
10.在強光照射下對HRISmartNIL®烙印進行完整的晶圓照相
資料來源：EVG
為了優(yōu)化工藝鏈，HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造，這是大批量生產(chǎn)的基石，不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能，該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境，以確保最 低的缺 陷率和最 高質(zhì)量的原版復制。
通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決方案，HERCULES NIL增強了EVG在全 面積NIL設備解決方案中的領(lǐng)導地位。
*根據(jù)ISO 14644
HERCULES ® NIL特征：
批量生產(chǎn)最小40 nm *或更小的結(jié)構(gòu)
聯(lián)合預處理（清潔/涂層/烘烤/寒意）和SmartNIL ®
體積驗證的壓印技術(shù)，具有出色的復制保真度
全自動壓印和受控的低力分離，可最 大程度地重復使用工作印章
包括工作印章制造能力
高功率光源，固化時間最快
優(yōu)化的模塊化平臺可實現(xiàn)高吞吐量
*分辨率取決于過程和模板 EVG先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求，因此使其成為大學和研發(fā)應用程序的理想選擇。
HERCULES®NIL：完全集成的納米壓印光刻解決方案，可實現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)
■批量生產(chǎn)低至40 nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸（分辨率取決于過程和模板）
■結(jié)合了預處理（清潔/涂布/烘烤/冷卻）和SmartNIL®技術(shù)
■全自動壓印和受控的低力分離，可最 大程 度地重復使用工作印章
■具備工作印章制造能力
EVG®770：連續(xù)重復的納米壓印光刻技術(shù)，可進行有效的母版制作
■用于晶圓級光學器件的微透鏡的高 效母模制造，直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)
■不同類型的母版的簡單實現(xiàn)
■可變的光刻膠分配模式
■分配，壓印和脫模過程中的實時圖像
■用于壓印和脫模的原位力控制
納米壓印設備可用來進行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。光刻納米壓印售后服務
EVG?770可用于連續(xù)重復的納米壓印光刻技術(shù)，可進行有效的母版制作。內(nèi)蒙古納米壓印美元價格
對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到最 大直徑150 mm。納米技術(shù)應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括用于印章的釋放機構(gòu)。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤支持軟性和硬性印模。
EVG610特征：
頂部和底部對準能力
高精度對準臺
自動楔形誤差補償機制
電動和程序控制的曝光間隙
支持最 新的UV-LED技術(shù)
最小化系統(tǒng)占地面積和設施要求
分步流程指導
遠程技術(shù)支持
多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）
敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換
臺式或帶防震花崗巖臺的單機版
附加功能：
鍵對準
紅外對準
納米壓印光刻
μ接觸印刷
內(nèi)蒙古納米壓印美元價格
岱美儀器技術(shù)服務（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型公司。公司自成立以來，以質(zhì)量為發(fā)展，讓匠心彌散在每個細節(jié)，公司旗下磁記錄，半導體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)深受客戶的喜愛。公司從事儀器儀表多年，有著創(chuàng)新的設計、強大的技術(shù)，還有一批獨立的專業(yè)化的隊伍，確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務。岱美儀器技術(shù)服務立足于全國市場，依托強大的研發(fā)實力，融合前沿的技術(shù)理念，飛快響應客戶的變化需求。