珠海塑膠UV固化機

來源: 發(fā)布時間:2021-12-03

真空鍍膜技術是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法,稱為真空鍍膜。眾所周知,在某些材料的表面上,只要鍍上一層薄膜,就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學性能。UV印刷需要將含有光敏劑的油墨與UV固化燈相配合。珠海塑膠UV固化機

UV樹脂光固化它必須要經(jīng)過UV機/UVLED光固化機進行固化,通過UVLED光固化機時,照射紫外光,使其“加熱”固化。UV是指紫外線(ultraviolet的英文縮寫),從高分子微觀角度來說,一些高分子材料的末端官能團有很強的紫外感光性,只有在紫外光的照射下,官能團才能有足夠的活性進行再次反應,進行交聯(lián),表現(xiàn)為固化。UV樹脂光固化特點:(1)安全環(huán)保。(2)生產(chǎn)效率高,基本不受嚴寒季節(jié)影響,室溫下可快速固化。(3)成膜性能好,UV上光不僅膜光澤高,平整光滑并具有耐熱,抗水,抗劃傷等性能。(4)可操作性強。(5)可采用刷涂.噴涂.輥涂,淋涂等工藝,涂層可厚可薄,對于要求膜厚的制品可多涂幾次。江門電子UV鍍膜廠UV真空鍍膜涂料主要由紫外光固化樹脂、單體、光引發(fā)劑、色料、流平劑、附著力促進劑等組成。

由于光固化體系的固化過程是由光引發(fā)的,因此光固化體系也有如下缺點:固化深 度受限;在有色體系和不透明材質(zhì)中難以應用;固化對象的形狀不能太復雜。為此又發(fā) 展了將光固化與其它固化方式結(jié)合起來的雙重固化體系。在此體系中,體系的交聯(lián)或聚 合反應是通過兩個的具有不同反應原理的階段來完成的。其中一個階段是通過紫外 光反應,另一階段是通過熱固化、濕氣固化、氧化固化或厭氧固化等暗反應來進行的。 這樣就可以利用紫外光使體系快速定型或達到“表干”,而利用暗反應使“陰影”部分 或內(nèi)層充分固化,達到“實干雙重固化擴展了紫外光固化膠粘劑在不透明介質(zhì)間、 形狀復雜的基材超厚膠層及有色膠層中的應用。此種體系賦予紫外光固化膠粘劑更強大 的競爭力。

真空鍍膜技術主要包含有:真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學氣相沉積等多種方法。除化學氣相沉積法外,其他幾種方法均具有以下的共同特點:(1)各種鍍膜技術都需要一個特定的真空環(huán)境,以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動,不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾,并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術都需要有一個蒸發(fā)源或靶子,以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進,擴大了制膜材料的選用范圍,無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質(zhì),都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜,而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或濺射出來的制膜材料,在與待鍍的工件生成薄膜的過程中,對其膜厚可進行比較精確的測量和控制,從而保證膜厚的均勻性。(4)每種薄膜都可以通過微調(diào)閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分數(shù),從而防止蒸鍍材料的氧化,把氧的質(zhì)量分數(shù)降低到小的程度,還可以充入惰性氣體等,這對于濕式鍍膜而言是無法實現(xiàn)的。陽離子UV光固化機理同樣可以分為鏈引發(fā)、鏈增長、鏈終止三個過程。

UV固化是輻射固化的一類,輻射固化是利用電磁輻射,如紫外線(UV)或電子束(EB)照射涂層,產(chǎn)生輻射聚合、輻射交聯(lián)和輻射接技等反應。迅速將低分子量物質(zhì)轉(zhuǎn)變成高分子量產(chǎn)物的化學過程,固化是直接在不加熱的底材上進行的,體系中不含溶劑或含極少量溶劑,輻照后液膜幾乎100%固化,因而VOC(揮發(fā)性有機化合物)排放量很低。UV光固化體系分為自由基體系和陽離子體系,兩者固化機理成分都有所不同。自由基體系是由光引發(fā)劑受UV照射激發(fā)產(chǎn)生自由基,引發(fā)單體和預聚物聚合交聯(lián);陽離子體系是由陽離子光引發(fā)劑受輻射產(chǎn)生強質(zhì)子酸,催化加成聚合。UV真空鍍膜涂料底漆是涂覆在塑料基材表面的涂料。東莞五金UV光固化

AS料通過UV真空鍍膜技術可以使得其外觀表面光滑并具有金屬光澤色彩。珠海塑膠UV固化機

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。真空鍍膜技術與濕式鍍膜技術相比較,具有下列優(yōu)點:(1)薄膜和基體選材普遍,薄膜厚度可進行控制,以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜,環(huán)境清潔,薄膜不易受到污染,因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強度好,薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液,也無環(huán)境污染。珠海塑膠UV固化機

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