因為在真空蒸鍍完之后還要噴一層UV光油面漆，這層面漆上可以做不同的顏色。蒸鍍通過鍍一些硅化物可以做成七彩色，但比較薄，近看可以，遠看不明顯，；濺射通過CSi、CO、Si等物質(zhì)進行反應(yīng)鍍可鍍出七彩色，或者通過低溫多層不同顏色的鍍膜來呈現(xiàn)多彩。而水電鍍的一般為金屬本色，要呈現(xiàn)其他顏色的需要涂UV面漆然后UV照射。為什么真空鍍膜的鍍鋁不導(dǎo)電？因為鍍膜總共有三層，外層的UV光油經(jīng)UV照射后起到固化耐磨絕緣的作用，但是一旦這層膜被破壞就導(dǎo)電了。什么是UV噴涂真空鍍膜工藝流程？江門燈飾真空鍍膜設(shè)備
UV是一種鍍膜環(huán)保油墨，UV真空鍍膜簡單理解就是產(chǎn)品要用UV油做環(huán)保鍍膜加工。像一些手機殼內(nèi)的都是采用這種鍍膜方式的。不然過不了環(huán)保。下面潤溢鍍膜為您介紹下UV真空鍍膜是什么鍍膜。UV真空鍍膜涂料主要由紫外光固化樹脂、單體、光引發(fā)劑、色料、流平劑、附著力促進劑等組成，根據(jù)應(yīng)用面分工，主要由UV真空鍍膜底漆和UV真空鍍膜面漆組成，為了匹配現(xiàn)代新的鍍膜技術(shù)，有的還加有真空鍍膜中涂層。V真空鍍膜涂料主要由紫外光固化樹脂、單體、光引發(fā)劑、色料、流平劑、附著力促進劑等組成，根據(jù)應(yīng)用面分工，主要由UV真空鍍膜底漆和UV真空鍍膜面漆組成，為了匹配現(xiàn)代新的鍍膜技術(shù)，有的還加有真空鍍膜中涂層。北京五金真空鍍膜加工廠關(guān)于塑膠真空電鍍的一些知識。
塑料真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類，即物理汽相沉積（PVD）技術(shù)和化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)。
在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀30年代，四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得的應(yīng)用。真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)，屬于物liqi相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。pvd真空鍍膜的功能原理是什么？
UV真空鍍膜技術(shù)除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下特點：(1)各種鍍膜技術(shù)都需一個特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需有一個蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進，擴大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進行比較精確的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。(4)每種薄膜都可以通過微調(diào)閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分數(shù)，從而防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質(zhì)量分數(shù)降低到小的程度，還可以充入惰性氣體等，這對于濕式鍍膜而言是無法實現(xiàn)的。(5)由于鍍膜設(shè)備的不斷改進，鍍膜過程可以實現(xiàn)連續(xù)化，從而提高產(chǎn)品的產(chǎn)量，而且在生產(chǎn)過程中對環(huán)境無污染。(6)由于在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需再加工，這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好。PVD真空鍍膜的工藝流程。湖北工藝品真空鍍膜公司
PVD真空鍍膜機鍍膜技術(shù)工藝步驟及原理。江門燈飾真空鍍膜設(shè)備
真空鍍膜與蒸發(fā)鍍膜機、濺射鍍膜機相比，明顯的特點是荷能離子一邊轟擊基體與膜層，一邊進行沉積。荷能離子的轟擊作用所產(chǎn)生一系列的效應(yīng)，主要有如下幾點：①膜/基結(jié)合力（附著力）強，膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產(chǎn)生的濺射作用，使基體受到清洗，jihuo及加熱，既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層，也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強擴散效應(yīng)。既提高了基體表面層組織結(jié)晶性能，也提供了合金相形成的條件。而且，較高能量的離子轟擊，還可以產(chǎn)生一定的離子注入和離子束混合效應(yīng)。②離子鍍膜機由于產(chǎn)生良好的繞射性。在壓力較高的情況下（≧1Pa）被電離的蒸汽的離子或分子在到達基體前的路程上將會遇到氣體分子的多次碰撞。因此，可使膜材粒子散射在基體的周圍。從而改善了膜層的覆蓋性。江門燈飾真空鍍膜設(shè)備
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