北京玻璃真空鍍膜系統(tǒng)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-11-17

UV鍍膜生產(chǎn)工藝流程及參數(shù):一:檢查線體,確認(rèn)各系統(tǒng)(除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化)運(yùn)轉(zhuǎn)正常;二:清洗基材表面,去除油污(用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面,并立即干燥);三:基材靜電除塵;四:噴涂底漆,膜厚:10~30微米,可根據(jù)具體基材和要求調(diào)整;五:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;六:UV固化,曝光能量:600~1200mJ/cm2;七:下線,稍冷卻,真空鍍膜(銦、銦-錫、鋁等);八:鍍膜完畢靜置冷卻(一般≥5分鐘,不超過4小時(shí)),再上中漆線體,或直接上面漆線體;九:噴涂中漆,膜厚:4~12微米,可根據(jù)需要添加色漿;十:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;十一:UV固化,曝光能量:300~800mJ/cm2;十二:噴涂面漆,膜厚:10~30微米,可根據(jù)需要添加色漿或啞漿;十三:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;十四:UV固化,曝光能量:800~1500mJ/cm2(顏色越深,所需能量越高);十五:下線檢測(cè)。關(guān)于真空鍍膜,你知道多少?北京玻璃真空鍍膜系統(tǒng)

真空鍍膜底漆底涂處于基材和真空鍍層之間,其作用主要有:(1)通過底涂封閉基材,防止真空鍍膜時(shí)基材中的揮發(fā)性雜質(zhì)逸出,影響鍍膜質(zhì)量;(2)塑料表面較粗糙,底涂預(yù)處理后,可通過涂層獲得光滑平整的鏡面效果;(3)在薄膜材料上預(yù)涂底漆可進(jìn)一步加強(qiáng)薄膜的阻隔性;(4)預(yù)涂底漆有利于獲得更厚的真空鍍層,展現(xiàn)出更高的反射效果和力學(xué)性能;(5)某些表面極性較低的基材如PP等與鍍層的附著力較差,通過底漆可獲得較好的鍍層附著性;(6)對(duì)某些耐熱性較差的塑料基材,底涂可以起到一定的熱緩沖作用,保護(hù)基材免遭熱致形變。廣州真空鍍膜加工真空鍍膜是相對(duì)于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術(shù)。

真空鍍膜法在手機(jī)消費(fèi)電子的表面處理中,物li氣相沉積(PVD)是主要的真空鍍膜方法。其原理為:在真空條件下,將金屬氣化成原子或分子,或者使其離子化成離子,直接沉積到工件表面,形成涂層,其沉積粒子束來源于非化學(xué)因素,如蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍等。真空不導(dǎo)電電鍍,稱NCVM,是一種真空電鍍的高新技術(shù)。也是目前塑膠件外殼普遍采用的物理法表面處理工藝之一。采用新的鍍膜技術(shù)、新的材料,做出普通真空電鍍的不同顏色的金屬外觀效果,起到美化工件表面之功用。

真空鍍膜機(jī)操作方法。①檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。②打開總電源開關(guān),設(shè)備送電。③低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動(dòng)升鐘罩閥,鐘罩升起。④安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位,保證無任何雜質(zhì)污物。⑤落下鐘罩。⑥啟動(dòng)抽真空機(jī)械泵。⑦開復(fù)合真空計(jì)電源(復(fù)合真空計(jì)型號(hào):Fzh-1A)。a.左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。b.低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng),當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí),左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。⑧當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí),低壓閥推入。這時(shí)左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測(cè)量位置。⑨真空鍍膜機(jī)開通冷卻水,啟動(dòng)擴(kuò)散泵,加熱40min。⑩低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動(dòng)作程序:左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng),當(dāng)指針移動(dòng)至6.7Pa時(shí),開高壓閥(閥桿順時(shí)針旋轉(zhuǎn))。?等低真空表“2”內(nèi)指針右移動(dòng)至0.1Pa時(shí),開規(guī)管燈絲開關(guān)。真空鍍膜設(shè)備是鍍膜工業(yè)上的一個(gè)重要部分。

UV鍍膜生產(chǎn)工藝的流程及參數(shù):一:檢查線體,確認(rèn)各系統(tǒng)(除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化)運(yùn)轉(zhuǎn)正常;二:清洗基材表面,去除油污(用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面,并立即干燥);三:基材靜電除塵;四:噴涂底漆,膜厚:10~30微米,可根據(jù)具體基材和要求調(diào)整;五:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;六:UV固化,曝光能量:600~1200mJ/cm2;七:下線,稍冷卻,真空鍍膜(銦、銦-錫、鋁等);八:鍍膜完畢靜置冷卻(一般≥5分鐘,不超過4小時(shí)),再上中漆線體,或直接上面漆線體;九:噴涂中漆,膜厚:4~12微米,可根據(jù)需要添加色漿;十:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;十一:UV固化,曝光能量:300~800mJ/cm2;十二:噴涂面漆,膜厚:10~30微米,可根據(jù)需要添加色漿或啞漿;十三:在30℃~70℃的紅外環(huán)境下的流平5~15分鐘;十四:UV固化,曝光能量:800~1500mJ/cm2(顏色越深,所需能量越高);十五:下線檢測(cè)。真空電鍍可以改善產(chǎn)品質(zhì)量,延長(zhǎng)產(chǎn)品壽命,節(jié)省能源并獲得經(jīng)濟(jì)收益,并提高產(chǎn)品利用率。廣州真空鍍膜加工

PVD鍍膜主要分為真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜。北京玻璃真空鍍膜系統(tǒng)

真空鍍膜的方法主要有:(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面,凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi),保持壓強(qiáng)約1.33~13.3Pa,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積:通過熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物,獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍:實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合,兼有兩者的工藝特點(diǎn)。北京玻璃真空鍍膜系統(tǒng)

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