真空鍍膜法是在真空的條件下，將金屬和非金屬材料加熱，當溫度超過其沸點時，被加熱物以氣態(tài)急劇蒸發(fā)，以直線向四周噴射；當遇到障礙物時即附著積淀于物體表面，形成一層薄膜。由于手印與周圍物體表面的物理屬性不同，附著積淀的物質(zhì)程度不同，薄膜的薄厚不同，導致色調(diào)差別從而顯出手印。真空鍍膜法適用于金屬制品、皮革、玻璃、瓷器、本色木、人民幣等物面上油脂、汗液或汗垢混合的無色手印。真空鍍膜法的具體操作方法，應按照真空鍍膜儀的使用說明書來進行。真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面。深圳uv真空鍍膜材料
真空鍍膜就是將塑膠，薄膜等制品置于高真空爐內(nèi)。對鋁，錫，銦等金屬加熱，使之蒸發(fā)形成金屬氣體，金屬氣體在高真空條件下自由散發(fā)，冷卻后附著于被蒸鍍物表面上，形成金屬薄膜。 真空鍍膜為什么要噴底漆和面漆?真空鍍膜前噴底漆能增加金屬層和塑材之間的附著度，使塑材表面平坦光滑。電鍍后光澤度好。-真空鍍膜后噴面漆起保護鍍層，防止氧化，污染。增強表面耐磨。耐刮性能。通過增加染料等物質(zhì)達到表面美觀多樣化的目的。-真空不導電電鍍和普通真空電鍍有何區(qū)別?真空不導電電鍍，又稱NCVM。普通真空電鍍習慣稱PVD。真空不導電電鍍的加工工藝緣于普通真空電鍍，卻比其制程復雜的多，主要區(qū)別是其電鍍區(qū)域不導電，從而不影響手機等通訊公具的收訊效果(如無雜音，對人產(chǎn)生影響等。)現(xiàn)在3G產(chǎn)業(yè)中，廣為流傳推廣的表面處理就是NCVM。-順德塑膠真空鍍膜材料什么是UV噴涂真空鍍膜工藝流程？
因為在真空蒸鍍完之后還要噴一層UV光油面漆，這層面漆上可以做不同的顏色。蒸鍍通過鍍一些硅化物可以做成七彩色，但比較薄，近看可以，遠看不明顯，；濺射通過CSi、CO、Si等物質(zhì)進行反應鍍可鍍出七彩色，或者通過低溫多層不同顏色的鍍膜來呈現(xiàn)多彩。而水電鍍的一般為金屬本色，要呈現(xiàn)其他顏色的需要涂UV面漆然后UV照射。為什么真空鍍膜的鍍鋁不導電？因為鍍膜總共有三層，外層的UV光油經(jīng)UV照射后起到固化耐磨絕緣的作用，但是一旦這層膜被破壞就導電了。
一般來說塑料表面本身具有0.51nn左右的粗糙度，真空鍍膜的厚度不超過0.2μm，無法填平基材表面的凹凸不平，得不到理想的鏡面效果，UV涂層厚度達到10-20μm，表面平整度在0.1μm以下，可填平基材缺陷并得到理想的鍍膜效果。三，獲得更厚的真空電鍍層.用底漆過渡,有利于獲得更厚獲得更厚的鍍層,使產(chǎn)品得到更高的反射效果和力學性能。四，附著性.對于一些極性較差的塑膠,通過底漆過渡,可以獲得較強的鍍層附著性。五，耐熱性.塑膠熱變形溫度一般較低,通過底漆過渡,可以起到一定的熱緩沖作用,保護塑膠免遭熱變形。真空鍍膜主要分蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍膜和化學氣相沉積幾種。
塑料電鍍的鍍件容易漂浮，在和掛具接觸的地方容易被燒焦，因為塑料的比重小，所以在溶液中易浮起。燈罩外形就象一個小盤一樣，內(nèi)表面凹進去，邊上有兩個小孔，開始只用一根銅絲卡著兩個小孔進行電鍍。塑料電鍍的過程分為：清潔、溶劑處理、調(diào)節(jié)處理、敏感化、成核這五個步驟。(1)清潔：去除塑料成型過程中留下的污物及指紋，可用堿劑洗凈再用酸浸中和及水洗干凈。(2)溶劑處理：使塑料表面能濕潤(wetting)以便與下一步驟的調(diào)節(jié)劑(conditioner)作用。(3)調(diào)節(jié)處理：將塑料表面粗化成內(nèi)鎖的凹洞以使鍍層密著住不易剝離，也稱為化學粗化。(4)敏感化：將還原劑吸附在表面，常用(stannouschloride)或其它錫化合物，就是sn^++離子吸附于塑料表面具有還原性表面。(5)成核：將具有催化性物質(zhì)如金、吸附于敏感化(還原性)的表面，經(jīng)還原作用結(jié)核成具有催化性的金屬種子(seed)然后可以用無電鍍上金屬。真空鍍膜的UV代表什么材料？上海塑膠真空鍍膜系統(tǒng)
真空鍍膜的原理是什么？深圳uv真空鍍膜材料
由于底漆位于基材和鍍膜的中間，其性能應當滿足基材和真空鍍層兩方面的要求，具體包括以下幾個方面：（1）與塑料基材、真空鍍層均有較好的粘附性，這是作為真空鍍膜底漆應具備的Z基本性能;（2）應具有良好的流平性，這是決定真空鍍層是否具有高光澤和鏡面效果的關(guān)鍵;（3）不應含有揮發(fā)性小分子，主要是指殘留單體、揮發(fā)性添加劑、揮發(fā)性雜質(zhì)和高沸點溶劑等，其在真空升溫環(huán)境下會逐漸逸出，從多方面破壞鍍膜質(zhì)量和性能;（4）應具有一定的耐熱性，其熱膨脹性要和真空鍍層的熱脹冷縮性能相適應，抗熱形變和熱分解性能應滿足真空鍍膜工藝的要求;（5）對于柔性基材，底涂應具有足夠的柔韌性，否則易造成鍍層連帶開裂，甚至崩脫深圳uv真空鍍膜材料
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