中山陶瓷真空鍍膜設(shè)備

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-11-02

提高離化碰撞的方法要么靠額外的電子源來提供,而不是靠陰極發(fā)射出來的二次電子;要么就是利用高頻放電裝置或者施加磁場的方式提高已有電子的離化效率。事實(shí)上,真空鍍膜中二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi),該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動,該電子的運(yùn)動路徑很長,在運(yùn)動過程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材,經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,遠(yuǎn)離靶材,終沉積在基片上。真空鍍膜加工產(chǎn)品時(shí)為什么會發(fā)生掉膜的現(xiàn)象?中山陶瓷真空鍍膜設(shè)備

在某些材料的表面上只要鍍上一層薄膜,就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀(jì)70年代,在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過通電,使電解液電解,被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上,因此這種鍍膜的條件,基體必須是電的良導(dǎo)體,而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法,必須把膜材配制成溶液,并能迅速參加還原反應(yīng),這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差,而且鍍膜既不均勻也不易控制,同時(shí)還會產(chǎn)生大量的廢液,造成嚴(yán)重的污染。因此,這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術(shù),通常稱為干式鍍膜技術(shù)。中山陶瓷真空鍍膜設(shè)備UV真空鍍膜項(xiàng)目利潤如何?

真空鍍膜機(jī)操作程序具體操作時(shí)請參照該設(shè)備說明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。①檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。②打開總電源開關(guān),設(shè)備送電。③低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動升鐘罩閥,鐘罩升起。④安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位,保證無任何雜質(zhì)污物。⑤落下鐘罩。⑥啟動抽真空機(jī)械泵。⑦開復(fù)合真空計(jì)電源(復(fù)合真空計(jì)型號:Fzh-1A)。a.左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。b.低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動,當(dāng)指針移動至110mA時(shí),左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。⑧當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動至6.7Pa時(shí),低壓閥推入。這時(shí)左旋鈕“1”旋轉(zhuǎn)至指向1區(qū)段測量位置。⑨真空鍍膜機(jī)開通冷卻水,啟動擴(kuò)散泵,加熱40min。⑩低壓閥拉出。重復(fù)一次⑦動作程序:左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動,當(dāng)指針移動至6.7Pa時(shí),開高壓閥(閥桿順時(shí)針旋轉(zhuǎn))。?等低真空表“2”內(nèi)指針右移動至0.1Pa時(shí),開規(guī)管燈絲開關(guān)。

UV真空鍍膜的操作規(guī)程:1.在真空鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下,開動真空鍍膜機(jī)時(shí),必須先開水管,工作中應(yīng)隨時(shí)注意水壓。2.在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí),應(yīng)特別注意高壓電線接頭,不得觸動,以防觸電。3.在用電子qiang鍍膜時(shí),應(yīng)在鐘罩外面周圍上鋁板。觀察窗的玻璃比較好用鉛玻璃,觀察時(shí)應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡,以防X射線侵害人體。4.鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間,應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置,及時(shí)排除有害粉塵。5.易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。6.酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行,并要戴橡皮手套。7.把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí),應(yīng)輕拿輕放,不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應(yīng)加蓋。8.工作完畢應(yīng)斷電、斷水。真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代,四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用。

真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個(gè)重要分支,它已普遍地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā),理化儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法。如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質(zhì)表面的物理、化學(xué)性能的話,這一技術(shù)又是真空表面處理技術(shù)中的重要組成部分。在光學(xué)方面,一塊光學(xué)玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質(zhì)的薄膜后,即可成為高反射或無反射(即增透膜)或者作任何預(yù)期比例的反射或透射材料,也可以作成對某種波長的吸收,而對另一種波長的透射的濾色的片。高反射膜從大口徑的天文望遠(yuǎn)鏡和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜,都很需要。真空鍍膜面漆掉落怎么解決?四川玻璃真空鍍膜廠家

納米鍍膜和真空鍍膜的區(qū)別。中山陶瓷真空鍍膜設(shè)備

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標(biāo)簽: 真空鍍膜 UV