玩具真空鍍膜材料

來源: 發(fā)布時間:2021-10-28

在塑料表面進行真空噴鍍金屬 -----即在真空狀態(tài)下,將金屬融化后,以分子或原子形態(tài)沉積在塑料表面形成 5-10um 的金屬膜。真空噴鍍金屬需要與塑料表面底漆之間良好的配合, 底漆的厚度通常為 10-20um。主要作用是防止塑料中水、 有機溶劑、 增塑劑等排出影響金屬附著。要涂層硬度高、 底漆具有可以修復塑料缺陷,提供一個光滑、平整的平面以利于真空鍍的性能, 并與塑料底材和所鍍金屬附著牢固。通常選用雙組份常溫固化的聚氨酯和環(huán)氧涂料, 低溫烘烤的氨基涂料以及熱塑性丙烯酸酯涂料。金屬鍍膜在空氣中容易氧化變暗, 同時還存在細微的針型孔等缺陷, 所以要再涂上一層 5-10um 的保護面漆。對面漆的要求是:透明、優(yōu)良的耐水性、耐磨性、耐候性、不操作金屬鍍膜, 對金屬鍍膜附著牢固,通??刹捎帽┧狨デ迤?、 聚酯清漆、 聚氨酯清漆等。塑料真空鍍膜機已經普遍應用于生活中。玩具真空鍍膜材料

真空鍍膜與蒸發(fā)鍍膜機、濺射鍍膜機相比,明顯的特點是荷能離子一邊轟擊基體與膜層,一邊進行沉積。荷能離子的轟擊作用所產生一系列的效應,主要有如下幾點:①膜/基結合力(附著力)強,膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產生的濺射作用,使基體受到清洗,jihuo及加熱,既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層,也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強擴散效應。既提高了基體表面層組織結晶性能,也提供了合金相形成的條件。而且,較高能量的離子轟擊,還可以產生一定的離子注入和離子束混合效應。②離子鍍膜機由于產生良好的繞射性。在壓力較高的情況下(≧1Pa)被電離的蒸汽的離子或分子在到達基體前的路程上將會遇到氣體分子的多次碰撞。因此,可使膜材粒子散射在基體的周圍。從而改善了膜層的覆蓋性。湖南五金真空鍍膜機中國塑料件真空鍍膜市場研究及發(fā)展趨勢預測。

真空鍍膜應用屬于一種干式鍍膜,它的主要方法包括以下幾種:真空蒸鍍其原理是在真空條件下,用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質,使其氣化或升華,蒸發(fā)離子流直接射向基片,并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術。濺射鍍膜濺射鍍膜是真空條件下,在陰極接上2000V高壓電,激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。離子鍍膜真空離子鍍膜,它是在上面兩種真空鍍膜技術基礎上發(fā)展而來的,因此兼有兩者的工藝特點。在真空條件下,利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(膜材)部分離化,并在離子轟擊下,將蒸發(fā)物或其反應物沉積在基片表面。在膜的形成過程中,基片始終受到高能粒子的轟擊,十分清潔。真空卷繞鍍膜真空卷繞鍍膜是一種利用物相沉積的方法在柔性基體上連續(xù)鍍膜的技術,以實現(xiàn)柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。

真空鍍膜時,蒸發(fā)料粒子大約只以一個電子伏特的能量向工件表面蒸鍍,在工件表面與鍍層之間,形成的界面擴散深度通常只為幾百個埃(10000埃=1微米=0.0001厘米)。也就是說比一根頭發(fā)絲的百分之一還要小。兩者間可以說幾乎沒有連接的過渡層,好似截然分開。而離子鍍時,蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動能。如果說普通真空鍍膜的粒子相當于一個氣喘吁吁的長跑運動員,那么離子鍍的粒子則好似乘坐了高速火箭的乘客,當其高速轟擊工件時,不但沉積速度快,而且能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴散層,離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米,也就是說比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍,甚至上百倍,因而彼此粘附得特別牢。在ABS真空電鍍中,底漆或面漆經常會選擇UV漆,因為UV在ABS底材的附著力大多比較好。

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術為基礎,利用物理或化學方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術,為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法,稱為真空鍍膜。真空鍍膜技術與濕式鍍膜技術相比較,具有下列優(yōu)點:(1)薄膜和基體選材,薄膜厚度可進行控制,以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜,環(huán)境清潔,薄膜不易受到污染,因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結合強度好,薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產生廢液,也無環(huán)境污染。真空鍍膜的工藝流程。塑膠真空鍍膜材料

淺談真空鍍膜技術的優(yōu)點。玩具真空鍍膜材料

20世紀70年代,在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學鍍法。前者是通過通電,使電解液電解,被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上,因此這種鍍膜的條件,基體必須是電的良導體,而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學還原法,必須把膜材配制成溶液,并能迅速參加還原反應,這種鍍膜方法不只薄膜的結合強度差,而且鍍膜既不均勻也不易控制,同時還會產生大量的廢液,造成嚴重的污染。因此,這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術,通常稱為干式鍍膜技術。玩具真空鍍膜材料

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