由于光固化體系的固化過程是由光引發(fā)的，因此光固化體系也有如下缺點：固化深 度受限；在有色體系和不透明材質中難以應用；固化對象的形狀不能太復雜。為此又發(fā) 展了將光固化與其它固化方式結合起來的雙重固化體系。在此體系中，體系的交聯或聚 合反應是通過兩個的具有不同反應原理的階段來完成的。其中一個階段是通過紫外 光反應，另一階段是通過熱固化、濕氣固化、氧化固化或厭氧固化等暗反應來進行的。 這樣就可以利用紫外光使體系快速定型或達到“表干”，而利用暗反應使“陰影”部分 或內層充分固化，達到“實干雙重固化擴展了紫外光固化膠粘劑在不透明介質間、 形狀復雜的基材超厚膠層及有色膠層中的應用。此種體系賦予紫外光固化膠粘劑更強大的競爭力。真空離子鍍膜的鍍層材料是在真空的環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學鍍膜中的溶液污染問題。中山玻璃真空鍍膜材料
在塑料表面進行真空噴鍍金屬 -----即在真空狀態(tài)下，將金屬融化后，以分子或原子形態(tài)沉積在塑料表面形成 5-10um 的金屬膜。真空噴鍍金屬需要與塑料表面底漆之間良好的配合， 底漆的厚度通常為 10-20um。主要作用是防止塑料中水、 有機溶劑、 增塑劑等排出影響金屬附著。要涂層硬度高、 底漆具有可以修復塑料缺陷，提供一個光滑、平整的平面以利于真空鍍的性能， 并與塑料底材和所鍍金屬附著牢固。通常選用雙組份常溫固化的聚氨酯和環(huán)氧涂料， 低溫烘烤的氨基涂料以及熱塑性丙烯酸酯涂料。金屬鍍膜在空氣中容易氧化變暗， 同時還存在細微的針型孔等缺陷， 所以要再涂上一層 5-10um 的保護面漆。對面漆的要求是：透明、優(yōu)良的耐水性、耐磨性、耐候性、不操作金屬鍍膜， 對金屬鍍膜附著牢固，通?？刹捎帽┧狨デ迤?、 聚酯清漆、 聚氨酯清漆等。廣西陶瓷真空鍍膜技術UV是一種鍍膜環(huán)保油墨。
真空鍍膜技術主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學氣相沉積等多種方法。除化學氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點：(1)各種鍍膜技術都需要一個特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質的不良影響。(2)各種鍍膜技術都需要有一個蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進，擴大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜，而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進行比較精確的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。
PVD技術具有膜/基結合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材普遍、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復性好等優(yōu)點。同時，由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為處理工藝用于高速鋼和硬質合金類的薄膜刀具上。由于采用PVD工藝可大幅度提高刀具的切削性能，人們在競相開發(fā)高性能、高可靠性設備的同時，也對其應用領域的擴展，尤其是在高速鋼、硬質合金和陶瓷類刀具中的應用進行了更加深入的研究。CVD技術是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。真空鍍膜技術從四十年代開始，發(fā)展很快。
UV電鍍噴涂與塑料真空鍍膜的區(qū)別主要概括如下：一，UV電鍍噴涂工藝簡單、綠色環(huán)保、用途普遍、是一種原料可回收利用的表面處理技術。各項指標都按照電鍍行業(yè)的標準做了相應的檢測，各種檢測報告完全符合國內外電鍍行業(yè)的要求。噴金鍍鉻機技術噴涂的制品，具有優(yōu)異的附著力、抗沖擊力、耐氣候性、耐磨性和耐擦傷性，符合國內外大型汽車生產商和大型電器生產商等精密產品的要求，亦可作為其它行業(yè)的表面裝飾和保護等噴涂。該技術填補了目前國內市場環(huán)保電鍍的空白二，塑料真空鍍膜塑料具有質輕、性能優(yōu)良，易成型，易加工等特點，應用范圍非常廣，是日常生活和國民經濟各部門不可缺少的材料。真空鍍膜掉膜是什么原因？廣西陶瓷真空鍍膜技術
PVD真空鍍膜知識簡介！中山玻璃真空鍍膜材料
真空鍍膜與蒸發(fā)鍍膜機、濺射鍍膜機相比，比較大的特點是荷能離子一邊轟擊基體與膜層，一邊進行沉積。荷能離子的轟擊作用所產生一系列的效應，主要有如下幾點：①膜/基結合力（附著力）強，膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產生的濺射作用，使基體受到清洗，jihuo及加熱，既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層，也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強擴散效應。既提高了基體表面層組織結晶性能，也提供了合金相形成的條件。而且，較高能量的離子轟擊，還可以產生一定的離子注入和離子束混合效應。②離子鍍膜機由于產生良好的繞射性。在壓力較高的情況下（≧1Pa）被電離的蒸汽的離子或分子在到達基體前的路程上將會遇到氣體分子的多次碰撞。因此，可使膜材粒子散射在基體的周圍。從而改善了膜層的覆蓋性。而且，被電離的膜材離子，還會在電廠的作用下沉積在具有負電壓基體表面的任意位置上。因此，這一點蒸發(fā)鍍是無法達到的。中山玻璃真空鍍膜材料
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