除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點：(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進，擴大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進行比較精確的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。(4)每種薄膜都可以通過微調(diào)閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分數(shù)，防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質(zhì)量分數(shù)降低到小的程度，還可以充入惰性氣體等，這對于濕式鍍膜而言是無法實現(xiàn)的。(5)由于鍍膜設(shè)備的不斷改進，鍍膜過程可以實現(xiàn)連續(xù)化，從而地提高產(chǎn)品的產(chǎn)量，而且在生產(chǎn)過程中對環(huán)境無污染。(6)在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需要再加工，這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好。真空鍍膜系統(tǒng)的工作原理。深圳uv真空鍍膜工藝
真空鍍膜技術(shù)具有以下特點：(1)各種鍍膜技術(shù)都需一個特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需有一個蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進，擴大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或濺射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進行比較精確的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。(4)每種薄膜都可以通過微調(diào)閥精確地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分數(shù)，從而防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質(zhì)量分數(shù)降低到小的程度，還可以充入惰性氣體等，這對于濕式鍍膜而言是無法實現(xiàn)的。(5)由于鍍膜設(shè)備的不斷改進，鍍膜過程可以實現(xiàn)連續(xù)化，從而提高產(chǎn)品的產(chǎn)量，而且在生產(chǎn)過程中對環(huán)境無污染。(6)由于在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需再加工，這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好。湖北燈飾真空鍍膜加工真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。
真空鍍膜的方法主要有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍：實質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結(jié)合，兼有兩者的工藝特點。
真空鍍膜法在手機消費電子的表面處理中，物li氣相沉積（PVD）是主要的真空鍍膜方法。其原理為：在真空條件下，將金屬氣化成原子或分子，或者使其離子化成離子，直接沉積到工件表面，形成涂層，其沉積粒子束來源于非化學(xué)因素，如蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍等。真空不導(dǎo)電電鍍，稱NCVM，是一種真空電鍍的高新技術(shù)。也是目前塑膠件外殼普遍采用的物理法表面處理工藝之一。采用新的鍍膜技術(shù)、新的材料，做出普通真空電鍍的不同顏色的金屬外觀效果，起到美化工件表面之功用。真空鍍膜設(shè)備使用注意事項。
真空電鍍主要部件有哪些功能？現(xiàn)在真空電鍍設(shè)備是做的越來越好，從一開始功能較單一的真空電鍍到如今的多功能結(jié)合的真空電鍍，其中經(jīng)歷了較長時間。真空電鍍設(shè)備的真空室能用不銹鋼或者碳鋼組合使用制作，真空電鍍設(shè)備做成單開門或者又開門。真空電鍍設(shè)備能通過利用電阻加熱，若電阻要加熱，真空電鍍設(shè)備所使用的材料包括石墨、鎢、鉭、鉬、鎳鉻等，真空電鍍設(shè)備加熱后要進行保溫，真空電鍍設(shè)備設(shè)置了保溫層就可以提高加熱的效率，以免真空電鍍設(shè)備的熱量快速散失，一般有金屬保溫層和復(fù)合保溫層兩種形式。真空電鍍設(shè)備為更好的進行測試、測定室內(nèi)溫度，真空電鍍設(shè)備使用測溫儀器和控溫儀器，避免溫度過高或不達標真空電鍍設(shè)備，抽氣系統(tǒng)由各種真空泵及附件按其各自功能組裝使用。在ABS真空電鍍中,底漆或面漆經(jīng)常會選擇UV漆,因為UV在ABS底材的附著力大多比較好。廣東樹脂真空鍍膜系統(tǒng)
真空鍍膜知識知多少—顏色。深圳uv真空鍍膜工藝
在某些材料的表面上只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導(dǎo)體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應(yīng)，這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時還會產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱為干式鍍膜技術(shù)。深圳uv真空鍍膜工藝
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