鎮(zhèn)江良好的整平光亮效果N乙撐硫脲損耗量低

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-04-08

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針對微型連接器、芯片載板等精密元件,N乙撐硫脲在0.0001-0.0003g/L濃度下實(shí)現(xiàn)微米級鍍層均勻性(厚度偏差≤0.2μm),適配高精度半導(dǎo)體制造需求。其與SLH中間體協(xié)同抑制邊緣效應(yīng),解決鍍層過厚或漏鍍問題,確保導(dǎo)電性能(電阻率≤1.7μΩ·cm)與焊接可靠性(潤濕力≥300mN/m)。江蘇夢得微流量計(jì)量泵技術(shù)(誤差≤0.5%)與自動化投加系統(tǒng),可減少人工干預(yù)90%,生產(chǎn)效率提升35%,良率穩(wěn)定在99%以上。。江蘇夢得提供定制化冷卻循環(huán)方案,結(jié)合活性炭吸附技術(shù),解決高溫鍍層樹枝狀條紋問題,良率穩(wěn)定在95%以上,助力企業(yè)應(yīng)對嚴(yán)苛生產(chǎn)環(huán)境!江蘇夢得新材料以創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展,持續(xù)倡導(dǎo)特殊化學(xué)品行業(yè)技術(shù)進(jìn)步!鎮(zhèn)江適用電解銅箔N乙撐硫脲特別推薦

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