維度光電BeamHere 光斑分析儀系列,提供全場景激光光束質(zhì)量分析解決方案。產(chǎn)品覆蓋 190-2700nm 光譜,包括掃描狹縫式和相機(jī)式技術(shù),實現(xiàn)亞微米至毫米級光斑測量。掃描狹縫式支持 2.5μm-10mm 光斑檢測,具備 0.1μm 分辨率,適用于高功率激光。相機(jī)式提供 400-1700nm 響應(yīng),實現(xiàn) 2D/3D 成像分析,測量功率范圍 1μW-1W。M2 因子測試模塊基于 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn),評估光束質(zhì)量。軟件提供自動化分析和標(biāo)準(zhǔn)化報告。技術(shù)創(chuàng)新包括正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構(gòu)和適應(yīng)復(fù)雜光斑的面陣傳感器。產(chǎn)品適用于光束整形檢驗、光鑷系統(tǒng)檢測和準(zhǔn)直監(jiān)測。結(jié)構(gòu)設(shè)計優(yōu)化,通過 CE/FCC 認(rèn)證,應(yīng)用于多個領(lǐng)域,助力光束質(zhì)量分析和工藝優(yōu)化。掃描和狹縫光斑分析儀怎么選?光束質(zhì)量光斑分析儀優(yōu)勢
Dimension-Labs 推出的掃描狹縫式光斑分析儀,通過國內(nèi)的雙模式切換技術(shù),實現(xiàn) 190-2700nm 寬光譜覆蓋與 2.5μm-10mm 光束直徑測量。其 0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級光斑細(xì)節(jié),創(chuàng)新設(shè)計解決三大檢測痛點: 小光斑測量:刀口模式分析 < 20μm 光斑形態(tài),避免像素丟失 高功率檢測:狹縫物理衰減機(jī)制允許直接測量近 10W 激光,無需衰減片 大光斑分析:狹縫模式支持 10mm 光斑能量分布檢測 設(shè)備采用正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構(gòu),通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù),經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等參數(shù)。緊湊設(shè)計適配多場景安裝,通過 CE/FCC 認(rèn)證,適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域,幫助客戶提升光束質(zhì)量檢測效率,降**檢測成本。光斑分析儀制造商光斑分析儀保修期多長?維度光電整機(jī) 3 年質(zhì)保,部件 5 年延保。
維度光電 BeamHere 系列為激光光束質(zhì)量檢測提供高性價比解決方案: 掃描狹縫式:國內(nèi)刀口 / 狹縫雙模式切換,覆蓋 190-2700nm 光譜,可測 2.5μm-10mm 光束,0.1μm 分辨率實現(xiàn)亞微米級光斑分析。創(chuàng)新狹縫衰減機(jī)制支持 10W 級高功率直接測量,無需外置衰減片。 相機(jī)式:400-1700nm 寬譜響應(yīng),支持實時 2D/3D 成像與非高斯光束測量。六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計擴(kuò)展功率量程,可拆卸結(jié)構(gòu)兼顧工業(yè)檢測與科研成像需求。 M2 測試模塊:通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法,測量 M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等參數(shù),適配全系產(chǎn)品。 配套 BeamHere 軟件提供直觀操作界面,支持一鍵生成標(biāo)準(zhǔn)化報告,滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等多場景需求。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計實現(xiàn)高精度檢測,助力客戶提升效率與產(chǎn)品質(zhì)量。
在激光應(yīng)用領(lǐng)域,高功率光束檢測一直是個難題。傳統(tǒng)面陣傳感器十分靈敏,在每平方厘米約 10μW 的功率水平下就會飽和,常規(guī)激光器功率遠(yuǎn)超此強(qiáng)度,不衰減光束不僅無法測量光斑信息,還可能損壞設(shè)備。維度光電為此推出 BeamHere 光斑分析儀系列及適配的高功率光束取樣系統(tǒng)。其掃描狹縫式光斑分析儀采用創(chuàng)新的狹縫物理衰減機(jī)制,可直接測量近 10W 的高功率激光,無需額外衰減片。在此基礎(chǔ)上,還推出單次取樣與雙次取樣兩款衰減配件,可組裝疊加形成多次取樣系統(tǒng)。與合適衰減片搭配,可測功率超 1000W。單次取樣配件型號 DL - LBA - 1,45° 傾斜設(shè)計,取樣率 4% - 5%,有 C 口安裝方式和鎖緊環(huán)結(jié)構(gòu),能測量任意角度入射激光;雙次取樣配件型號 DL - LBA - 2,內(nèi)部緊湊安裝兩片取樣透鏡,取樣率 0.16% - 0.25%,可應(yīng)對 400W 功率光束,多面體結(jié)構(gòu)有多個支撐安裝孔位。組合安裝配件可進(jìn)一步衰減更高功率激光,大衰減程度達(dá) 10??。而且其緊湊結(jié)構(gòu)的取樣光程能滿足聚焦光斑測量需求,單次取樣 68mm,雙次取樣 53mm,為各類激光應(yīng)用場景的檢測提供了方案。光斑分析儀都有哪些類型?
Dimension-Labs 維度光電相機(jī)式光斑分析儀系列覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,實現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實時檢測。其優(yōu)勢包括: 動態(tài)分析能力 支持 2D 光斑實時成像與 3D 功率分布動態(tài)顯示,高幀率(100fps)連續(xù)測量模式可捕捉光斑瞬態(tài)變化,3D 視圖支持任意角度旋轉(zhuǎn)分析,為光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復(fù)雜光斑適應(yīng)性 基于面陣傳感器技術(shù),可測量非高斯光束(如平頂、貝塞爾光束)及含高階橫模的復(fù)雜光斑,突破傳統(tǒng)掃描式設(shè)備的局限性。 功率調(diào)節(jié) 標(biāo)配 6 片不同衰減率的濾光片(0.1%-100%),通過轉(zhuǎn)輪結(jié)構(gòu)實現(xiàn)一鍵切換,可測功率達(dá) 10W/cm2,滿足從弱光器件到高功率激光的全量程需求。 科研級擴(kuò)展性 采用模塊化設(shè)計,相機(jī)與濾光片轉(zhuǎn)輪可分離使用。拆卸后的相機(jī)兼容通用驅(qū)動軟件,支持科研成像、光譜分析等擴(kuò)展應(yīng)用,實現(xiàn)工業(yè)檢測與實驗室的一機(jī)多用。國產(chǎn)光斑分析儀哪個好?維度光電光斑分析儀全系列。光束質(zhì)量光斑分析儀原理
國產(chǎn)光斑分析儀廠家有哪些?維度光電深耕18年。光束質(zhì)量光斑分析儀優(yōu)勢
Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列采用國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),覆蓋 190-2700nm 寬光譜,可測 2.5μm-10mm 光束直徑,0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)檢測極限。其創(chuàng)新設(shè)計實現(xiàn)三大優(yōu)勢: 雙模式自適應(yīng)檢測 通過軟件切換刀口 / 狹縫模式,分析 < 20μm 極小光斑形態(tài)或 10mm 大光斑能量分布,全量程無盲區(qū)。 高功率直接測量 狹縫物理衰減機(jī)制允許單次通過狹縫區(qū)域光,無需外置衰減片即可安全測量近 10W 高功率激光。 超分辨率成像 基于狹縫掃描原理實現(xiàn) 0.1μm 分辨率,完整捕捉亞微米級光斑細(xì)節(jié),避免能量分布特征丟失。 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動輪,通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸功率數(shù)據(jù),經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等 20 + 參數(shù)。緊湊模塊化設(shè)計適配多場景安裝,通過 CE/FCC 認(rèn)證,適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域,助力客戶提升光束質(zhì)量檢測精度與效率。光束質(zhì)量光斑分析儀優(yōu)勢