Dimension-Labs 維度光電相機式與狹縫式光斑分析儀的選擇需基于應用場景的光斑尺寸、功率等級、脈沖特性及形態(tài)復雜度。相機式基于面陣傳感器成像,可測大10mm 光斑(受限于 sensor 尺寸),小光斑為 55μm(10 倍 5.5μm 像元),結(jié)合 6 片衰減片(BeamHere 標配)實現(xiàn) 1W 功率測量,適合大光斑、脈沖激光(觸發(fā)模式同步捕獲單脈沖)及非高斯光束(如貝塞爾光束)檢測,通過面陣實時反饋保留復雜形態(tài)細節(jié)。狹縫式采用正交狹縫掃描,刀口模式可測小 2.5μm 光斑,創(chuàng)新狹縫物理衰減機制允許直接測量近 10W 高功率激光,適合亞微米光斑、高功率及高斯光斑檢測,但需嚴格匹配掃描頻率與激光重頻以避免脈沖丟失,且復雜光斑會因狹縫累加導致能量分布失真。維度光電 BeamHere 系列提供雙技術方案,用戶可根據(jù)光斑尺寸(亞微米選狹縫,大光斑選相機)、功率等級(高功率選狹縫,微瓦級選相機)及光斑類型(復雜形態(tài)選相機,高斯光斑選狹縫)靈活選擇,實現(xiàn)光斑檢測全場景覆蓋。光斑分析儀以舊換新?維度光電推出設備升級計劃。遠紅外光斑分析儀是什么
使用維度光電BeamHere 光斑分析儀開展光斑與光束質(zhì)量測量的流程 系統(tǒng)搭建:將 BeamHere 相機式光斑分析儀的傳感器置于激光束路徑,通過支架調(diào)節(jié)位置確保光斑完整覆蓋 sensor。使用 USB 3.0 數(shù)據(jù)線連接設備與電腦,安裝 BeamHere V3.2 軟件并完成驅(qū)動校準。 數(shù)據(jù)采集:開啟半導體激光器至穩(wěn)定輸出狀態(tài),軟件選擇 "連續(xù)采集" 模式,設置曝光時間 50μs,幀率 100fps,同步觸發(fā)激光器確保單脈沖捕捉。 參數(shù)提取:軟件自動識別光斑區(qū)域,計算 FWHM 直徑(XY 軸)、橢圓率、能量集中度等 12 項基礎參數(shù),同時基于 ISO 11146 標準算法生成 M2 因子、瑞利長度等光束質(zhì)量指標。 可視化分析:切換至 3D 視圖旋轉(zhuǎn)觀察能量分布,通過 "刀邊法" 驗證光斑對稱性,標記異常區(qū)域進行局部放大分析。 報告輸出:點擊 "生成報告" 按鈕,自動插入測試日期、激光器參數(shù)、測量曲線等內(nèi)容,支持 PDF/A4 排版或自定義 LOGO 導出。激光加工光斑分析儀性能多光斑光束質(zhì)量測量系統(tǒng)。
維度光電光束質(zhì)量測量解決方案基于兩大技術平臺: 掃描狹縫式系統(tǒng):采用正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構,通過 ±90° 旋轉(zhuǎn)實現(xiàn) XY 軸同步掃描,結(jié)合刀口 / 狹縫雙模式切換,突破亞微米級光斑檢測極限。光學系統(tǒng)集成高靈敏度光電探測器,配合高斯擬合算法,實現(xiàn) 0.1μm 分辨率與 ±0.8% 測量重復性。 相機式成像系統(tǒng):搭載背照式 CMOS 傳感器(量子效率 95%@500-1000nm),結(jié)合非球面透鏡組消除畸變,支持皮秒級觸發(fā)同步與全局快門技術,捕捉單脈沖光斑形態(tài)。算法通過二階矩法計算 M2 因子,測量精度達 ±0.3%。 創(chuàng)新突破: 狹縫物理衰減機制實現(xiàn) 10W 級激光直接測量 面陣傳感器動態(tài)范圍擴展技術支持 1μW-1W 寬功率檢測 AI 缺陷診斷模型自動識別光斑異常(率 97.2%)
維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列提供高性價比光束質(zhì)量檢測解決方案,涵蓋掃描狹縫式、相機式及 M2 測試模塊三大產(chǎn)品線: 掃描狹縫式光斑分析儀采用國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術,支持 190-2700nm 寬光譜范圍,可測量 2.5μm-10mm 光束直徑,0.1μm 超高分辨率實現(xiàn)亞微米級光斑細節(jié)捕捉。創(chuàng)新狹縫物理衰減機制使其無需外置衰減片即可直接測量近 10W 高功率激光,適用于激光加工等高能量場景。 相機式光斑分析儀覆蓋 400-1700nm 波段,支持 2D/3D 實時成像與動態(tài)分析,可測量非高斯光束(如平頂、貝塞爾光束)。獨特的六濾光片轉(zhuǎn)輪設計實現(xiàn)功率范圍擴展,可拆卸結(jié)構支持科研成像功能拓展。 M2 測試模塊適配全系產(chǎn)品,通過 ISO 11146 標準算法測量光束傳播參數(shù)(M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等),結(jié)合 BeamHere 軟件實現(xiàn)一鍵生成報告、多參數(shù)同步分析。系統(tǒng)以模塊化設計滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等領域的光斑檢測需求,兼顧實驗室與產(chǎn)線在線監(jiān)測場景。如何利用光斑分析儀和 M2 因子測量模塊評估激光光束的質(zhì)量?
維度光電光束質(zhì)量測量解決方案應用場景 Dimension-Labs 方案覆蓋工業(yè)、醫(yī)療、科研等多領域: 工業(yè)制造:高功率激光切割 / 焊接實時監(jiān)測,優(yōu)化熱影響區(qū)控制;亞微米光斑檢測保障半導體晶圓劃片良率。 醫(yī)療健康:飛秒激光手術光斑能量分析,提升角膜切削精度;M2 因子模塊校準醫(yī)用激光設備光束質(zhì)量。 :解析超快激光傳輸特性,支持新型激光器;高精度參數(shù)測量加速非線性光學實驗進展。 光通信:光纖端面光斑形態(tài)優(yōu)化,保障光器件耦合效率;激光器性能一致性檢測。 新興領域:Bessel 光束能量分布分析助力光鑷系統(tǒng)精度提升;激光育種參數(shù)優(yōu)化推動作物改良。 優(yōu)勢: 全場景適配:狹縫式(高功率 / 亞微米)與相機式(脈沖 / 復雜光束)組合覆蓋多樣化需求。 智能分析:AI 算法自動識別光斑異常,生成標準化報告。 模塊化擴展:支持 M2 因子測試、寬光譜適配等功能升級。光束質(zhì)量分析儀推薦?維度光電 M2 因子測量模塊;維度光電光斑分析儀購買
如何評判激光質(zhì)量的好壞?遠紅外光斑分析儀是什么
使用 BeamHere 光斑分析儀測量光斑與光束質(zhì)量的流程 1. 成像原理 BeamHere 采用背照式 CMOS 傳感器,量子效率達 95%(500-1000nm),配合非球面透鏡組實現(xiàn)無畸變成像。 2. 信號處理 采集到的模擬信號經(jīng) 16 位 ADC 轉(zhuǎn)換,通過數(shù)字濾波算法消除噪聲,確保弱光信號(SNR>40dB)還原。 3. 參數(shù)計算 光斑尺寸:基于高斯擬合與閾值分割法 M2 因子:采用 ISO 11146-1:2005 標準的二階矩法 發(fā)散角:通過不同位置光斑尺寸計算斜率 4. 校準流程 內(nèi)置波長校準模塊(400-1700nm),每年需用標準光源進行增益校準,確保測量精度 ±1.5%。 5. 數(shù)據(jù)安全 測量數(shù)據(jù)自動加密存儲于本地數(shù)據(jù)庫,支持云端備份,符合 GDPR 數(shù)據(jù)保護法規(guī)。遠紅外光斑分析儀是什么
深圳市維度科技有限公司(DimensionTechnologyCo.,Ltd)2007年于深圳成立,為國際前列光測量整體解決方案供應商,自創(chuàng)立以來便不斷深耕,積累了深厚的行業(yè)經(jīng)驗。旗下維度光電(Dimension-labs)以突破技術壁壘、打破國外壟斷、加速國產(chǎn)化替代為己任,構建并培育網(wǎng)狀光電生態(tài)鏈,維度光電產(chǎn)品覆蓋全系列光斑、光功率、光譜測量等儀器、高精度成像系統(tǒng)、高穩(wěn)定光機械、光學元件等多領域,服務全球高校、科研機構、企業(yè)及創(chuàng)客團體,在行業(yè)內(nèi)影響力深遠,著光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展潮流,通過一站式光電產(chǎn)品線上/線下服務平臺,一站下單,現(xiàn)貨秒發(fā),深度融合互聯(lián)網(wǎng)電子商務與光電行業(yè),形成創(chuàng)新型數(shù)字化產(chǎn)業(yè)生態(tài)鏈,助力各領域創(chuàng)新發(fā)展。