氦質(zhì)譜檢漏儀的噪聲主要來源于電路噪聲和本底噪聲，目前設(shè)備電子線路和電子元件的改進(jìn)，使得電路噪聲已經(jīng)降得很低，因此氦質(zhì)譜檢漏儀的本底噪聲成為影響設(shè)備性能的主要因素。而其本底噪聲的產(chǎn)生主要是由于本底峰的不穩(wěn)定造成的，主要形成的原因包括：一、離子源中的發(fā)射電流、加速電壓以及分析器的電磁參數(shù)不穩(wěn)定。二、真空油脂、橡膠材料、有機(jī)絕緣材料都可吸附和再釋放出氦氣，而電離規(guī)，特別是磁放電真空規(guī)對氦有記憶效應(yīng)，其表面污染時(shí)就更為嚴(yán)重。三、抽氣系統(tǒng)中抽速不穩(wěn)定和氦的反擴(kuò)散。四、氦質(zhì)譜檢漏儀中空氣的本底影響。為盡量消除氦質(zhì)譜檢漏儀的本底噪聲，需要針對性的采取措施，如減少采用有機(jī)材料，不用磁放電規(guī)等。由于氦質(zhì)譜檢漏儀儀為高精度精密儀器，其存放和使用環(huán)境要保持干凈、衛(wèi)生。智能氦檢機(jī)原理
氦質(zhì)譜檢漏儀在使用時(shí)需注意哪些問題？1、氦質(zhì)譜檢漏儀實(shí)際的檢漏靈敏度比理論計(jì)算值低，一是由于所噴出的氦氣流是散開的，故摻有一定數(shù)量的空氣，使氦氣的濃度有所降低。二是噴出的氣流的方向不可能完全對準(zhǔn)漏孔的方向，此外、在凹缺處所存在的空氣會使得進(jìn)入漏孔的氦氣濃度降低。2、檢漏次序：從被檢件物體的上方至下方，由近處向遠(yuǎn)離檢漏儀處逐點(diǎn)進(jìn)行噴氦檢查。3、檢出的大漏孔要經(jīng)修補(bǔ)后再去找小漏孔。4、當(dāng)存在兩個相距很近的可疑的漏孔點(diǎn)時(shí)，應(yīng)先把一個點(diǎn)蓋住，再對另一點(diǎn)進(jìn)行噴氦。5、當(dāng)噴在某一點(diǎn)時(shí)，如果，檢漏儀上的顯示有變化，其上升速度很慢且顯示值不穩(wěn)定表示鄰近其它地方有很大漏孔。上海妤林氦檢儀使用方法氦質(zhì)譜檢漏儀安裝時(shí)要避免安裝部位出現(xiàn)泄漏，可用儀器進(jìn)行自身檢漏。
氦質(zhì)譜檢漏儀性能試驗(yàn)方法：1、反應(yīng)時(shí)間、消除時(shí)間及其測定，反應(yīng)時(shí)間是指儀器節(jié)流閥完全開啟，本底訊號為零(或補(bǔ)償?shù)搅?時(shí)，由恒定的氦流量使輸儀表訊號上升到值的(1-e-1)倍(即O.63)所需要的時(shí)間，記為τR。消除時(shí)間是指輸出儀表訊號穩(wěn)定到固定值后，停止送氦，其訊號下降到值的e-1倍(即O.37)所需要的時(shí)間，記為τC。2、工作真空、極限真空及入口處抽速，質(zhì)譜室極限真空，尤其是工作真空及入口處抽速是表征儀器性能的重要參數(shù)。利用氦質(zhì)譜檢漏儀的真空規(guī)可以測定儀器的極限真空和工作真空。利用流量計(jì)可測定儀器入口處抽速。
氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏方式通常有兩種，一種為常規(guī)檢漏，另一種為逆擴(kuò)散檢漏。逆擴(kuò)散檢漏是把被檢件接在分子泵出氣口一端，漏入的氦氣由分子泵出氣口逆著泵的排氣方向進(jìn)入安裝在泵的進(jìn)氣口端的質(zhì)譜管內(nèi)而被檢測。這一檢漏方式是基于分子泵對不同質(zhì)量的氣體具有不同壓縮比(氣體在分子泵出氣口壓強(qiáng)與進(jìn)氣口壓強(qiáng)之比)即利用不同氣體的逆擴(kuò)散程度不同程度而設(shè)計(jì)的。氦質(zhì)譜檢漏儀是根據(jù)被檢工件的不同它所使用的檢漏方法也是不同的。對產(chǎn)品檢漏前首先要對工件的結(jié)構(gòu)和制造工業(yè)有所了解，了解有哪些漏源，才能快，準(zhǔn)，狠的完成檢漏。氦質(zhì)譜檢漏儀的質(zhì)譜模塊組件的超聲清洗以及分子泵的要定期保養(yǎng)維護(hù)。
氦質(zhì)譜檢漏儀為什么會選擇氦氣作為主要的示漏氣體？1、氦氣的質(zhì)量輕，易于穿過漏孔，進(jìn)入系統(tǒng)時(shí)流動和擴(kuò)散快，因此響應(yīng)快，檢漏靈敏度高。2、氦離子質(zhì)荷比小，因此可以減小磁分析器偏轉(zhuǎn)半徑的尺寸和選用較弱一點(diǎn)的磁場。同時(shí)一階氦離子的質(zhì)荷比與一階氫離子、二階碳離子相差較大，利于離子分離，可以適當(dāng)降低對分析器制造精度的要求，使質(zhì)譜室中氦離子通過的各個縫隙，從而提高氦離子的傳輸率。3、氦在空氣中及殘余氣體中的含量少，在材料出氣中氦氣也很少，因此本底壓力小，檢漏時(shí)本底信號小。氦質(zhì)譜檢漏儀不會受到主觀因素判斷的影響。安徽妤林氦檢設(shè)備
敏度、反應(yīng)時(shí)間、消除時(shí)間、極限真空度及儀器入口處抽速是評價(jià)氦質(zhì)譜檢漏儀的主要性能指標(biāo)。智能氦檢機(jī)原理
氦質(zhì)譜檢漏儀的主要性能指標(biāo)：1、可檢漏率：即氦質(zhì)譜檢漏儀所能檢出的漏孔的漏率。2、響應(yīng)(消除)時(shí)間：指一定流量的探索氣體進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀后，電子和真空系統(tǒng)需要一定的響應(yīng)時(shí)間，漏率指示才能達(dá)到固定值；反之，停止供氣后，漏率指示不能立即回零，需要一定時(shí)間的下降過程，通常由于氦氣的吸附和脫附作用，消除時(shí)間稍長于響應(yīng)時(shí)間。3、啟動時(shí)間：指氦質(zhì)譜檢漏儀自接通電源到能進(jìn)行檢漏的時(shí)間。氦質(zhì)譜檢漏儀以其高靈敏度和準(zhǔn)確性而通常應(yīng)用于整體防漏等級較高的壓力容器上。影響氦質(zhì)譜檢漏儀靈敏度的因素包括實(shí)際檢測條件、輔助真空系統(tǒng)以及操作人員的技術(shù)等多方面。智能氦檢機(jī)原理
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