吉林超高速灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術的重要部分是Nanoscribe獨有專項的雙光子灰度光刻技術（2GL®）。該技術將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術要點在于：這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到精細同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解雙光子灰度光刻技術的應用。吉林超高速灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領域是一個不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、與材料的普適性和便于操作的軟件工具，在科學和工業(yè)項目中備受青睞。這種可快速打印的微結構在科研、手板定制、模具制造和小批量生產(chǎn)中具有廣闊的應用前景。也就是說，在納米級、微米級以及中尺度結構上，可以直接生產(chǎn)用于工業(yè)批量生產(chǎn)的聚合物母版。借助Nanoscribe雙光子聚合技術特殊的高設計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機械元件和微機電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。黑龍江高分辨率灰度光刻三維光刻在灰度光刻技術的幫助下，芯片制造商可以更好地滿足不斷增長的市場需求。

灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結構。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)。需要注意，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多，約為Ra=100nm，前兩者可以會的Ra=50nm的球面。微納3D打印與灰度光刻有點類似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構，不光是微透鏡陣列結構（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設計獲得想要的結構，對于雙光子聚合的微結構，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續(xù)的復制工作，并通過納米壓印技術進行復制。

納米紋理在納米技術中起著越來越重要的作用。近期的研究表明，可以通過空間調(diào)節(jié)其納米級像素的高度來進一步增強其功能。但是，實現(xiàn)該概念非常具有挑戰(zhàn)性，因為它需要對納米像素進行“灰度”打印，其中，納米像素高度的精度需要控制在幾納米之內(nèi)。只有少數(shù)幾種方法（例如，灰度光刻或掃描束光刻）可以滿足這種嚴格的要求，但通常其成本較高，并且它們中的大多數(shù)需要化學開發(fā)過程。因此，具有高垂直和水平分辨率的可重構灰度納米像素打印技術受到高度追捧。靈活性高：由于無需制作實體掩膜版，無掩膜光刻技術可以快速地更改光刻圖案，方便進行試制和修改。

超高速灰度光刻技術是一項帶領科技發(fā)展的重大突破，為我們帶來了無限可能。這項技術的出現(xiàn)，將徹底改變我們對光刻的認知，為各行各業(yè)帶來了巨大的創(chuàng)新機遇。超高速灰度光刻技術主要是利用高能激光束對材料進行精確的刻蝕，從而實現(xiàn)微米級甚至納米級的精細加工。相比傳統(tǒng)的光刻技術，超高速灰度光刻技術具有更高的加工速度和更精確的刻蝕效果。這意味著我們可以在更短的時間內(nèi)完成更復雜的加工任務，提高了生產(chǎn)效率。超高速灰度光刻技術在電子、光電子、生物醫(yī)藥等領域具有廣泛的應用前景。在電子領域，它可以用于制造更小、更快的芯片和電路板，推動電子產(chǎn)品的迭代升級。在光電子領域，它可以用于制造高精度的光學元件，提高光學設備的性能。在生物醫(yī)藥領域，它可以用于制造微型生物芯片和生物傳感器，實現(xiàn)更精確的醫(yī)學診斷。灰度光刻技術可以實現(xiàn)高分辨率的微納米結構制造。湖南2GL灰度光刻激光直寫

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如何減少甚至避免因此帶來的柔軟樣品表面的形變，以實現(xiàn)對原始表面的精確成像一直是一個重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng)，雙光子聚合技術是實現(xiàn)微納尺度3D打印特別有效的技術，其打印物體的特別小特征尺寸可達亞微米級，并可達到光學質(zhì)量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及非常普遍的材料-基板選擇。吉林超高速灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)