山東2PP灰度光刻技術

來源: 發(fā)布時間:2024-11-17

納米紋理在納米技術中起著越來越重要的作用。近期的研究表明,可以通過空間調節(jié)其納米級像素的高度來進一步增強其功能。但是,實現該概念非常具有挑戰(zhàn)性,因為它需要對納米像素進行“灰度”打印,其中,納米像素高度的精度需要控制在幾納米之內。只有少數幾種方法(例如,灰度光刻或掃描束光刻)可以滿足這種嚴格的要求,但通常其成本較高,并且它們中的大多數需要化學開發(fā)過程。因此,具有高垂直和水平分辨率的可重構灰度納米像素打印技術受到高度追捧。Nanoscribe中國分公司-納糯三維為您介紹Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設備應用的領域。山東2PP灰度光刻技術

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QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統,用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產領域的潛力。該系統是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業(yè)激光直寫系統,可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產尤其重要,這對于科研和工業(yè)生產領域應用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統QuantumX產品系列的第二臺設備,可實現在25cm2面積內打印任何結構,很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統,非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。湖北工業(yè)級灰度光刻無掩光刻Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL ?)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結構原型母版制作。

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Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的子公司,開發(fā)并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機以及光敏材料和工藝解決方案。其口號是:“我們讓小物件變得重要”,公司創(chuàng)始人開發(fā)出一種技術,對智能手機、手持設備和醫(yī)療技術領域至關重要的3D打印產品。通過基于雙光子聚合(2PP)的3D打印機投入市場,他們已經為全球的大學和新興行業(yè)提供了新的解決方案,致力于3D微打印生命科學研究以及納米級3D打印光學,甚至利用他們的技術來開發(fā)創(chuàng)新的設備,例如用于類固醇洗脫的3D微支架人工耳蝸。根據Nanoscribe的聯合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法,“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制,QuantumX采用雙光子灰度光刻技術,克服了這些限制,提供了前所未有的設計自由度和易用性,我們的客戶正在微加工的前沿工作。

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機型?;陔p光子聚合技術,該激光直寫系統不只是快速成型制作的特別好的機型,同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)?;a。QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調制比和超精細處理網格,從而實現亞體素的尺寸控制。此外,受益于雙光子灰度光刻對體素的微調,該系統在表面微結構的制作上可達到超光滑,同時保持高精度的形狀控制?;叶裙饪碳夹g具有廣泛的應用領域。

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德國Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統,該系統是first基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的精密加工微納米打印系統,可應用于折射和衍射微光學。Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印的面世**著Nanoscribe已進軍現代微加工工業(yè)領域。具有全自動化系統的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現代工業(yè)需求。下面講講在衍射微光學中的應用:多級衍射光學元件雙光子灰度光刻技術可以一步實現真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件(DOE),并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。更多雙光子灰度光刻技術,請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。上海雙光子灰度光刻系統

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作為基于雙光子聚合技術(2PP)的微納加工領域市場帶領者,Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體?;?PP微納加工技術方面的專業(yè)知識,Nanoscribe為頂端科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展。“我們非常期待加入CELLINK集團,共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造專業(yè)人才,一直致力于開發(fā)和生產和無掩模光刻系統,以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。山東2PP灰度光刻技術