海南無掩膜光刻技術3D打印

來源: 發(fā)布時間:2022-10-10

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學器件直接打印在光纖上,構建了一款功能齊全的超薄像差校正光學相干斷層掃描探頭。這是迄今有報道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭,包括導管鞘在內(nèi)的直徑只為mm。什么是Quantum X 新型超高速無掩模光刻系統(tǒng)?請咨詢納糯三維科技(上海)有限公司。海南無掩膜光刻技術3D打印

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Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術,用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械,傳感器和執(zhí)行器是至關重要的?;陔p光子聚合原理的激光直寫技術,可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作;也適合科學家和工程師們在無需額外成本增加的前提下,實現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結構的制作。微米級增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學設計的上限,借助Nanoscribe雙光子聚合技術的出色的性能,可以輕松實現(xiàn)球形,非球形,自由曲面或復雜3D微納光學元件制作,并具備出色的光學質(zhì)量表面和形狀精度。德國超高速無掩膜光刻系統(tǒng)Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司邀您一起探討無掩膜光刻技術。

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德國公司Nanoscribe是高精度增材制造技術的帶領開發(fā)商,也是BICO集團(前身為Cellin)的一部分,推出了一款新型高精度3D打印機,用于制造微納米級的精細結構。據(jù)該公司稱,新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產(chǎn)品線,其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學、材料工程、微流體、微光學、微機械和微機電系統(tǒng)(MEMS)應用的精度、輸出和可用性?;陔p光子聚合(2PP),一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術,Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結構,在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示,該公司正在通過其新機器為科學和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設定新標準?!半m然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造,但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)?!?/p>

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及比較廣的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力特別好的證明。了解更多無掩膜光刻的技術和產(chǎn)品信息,請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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光子集成電路(PhotonicIntegratedCircuit,PIC)與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件,比如激光器、電光調(diào)制器、光電探測器、光衰減器、光復用/解復用器以及光放大器等。集成光子學可較廣地應用于各種領域,例如數(shù)據(jù)通訊,激光雷達系統(tǒng)的自動駕駛技術和YL領域中的移動感應設備等。而光子集成電路這項關鍵技術,尤其是微型光子組件應用,可以很大程度縮小復雜光學系統(tǒng)的尺寸并降低成本。光子集成電路的關鍵技術還在于連接接口,例如光纖到芯片的連接,可以有效提高集成度和功能性。類似于這種接口的制造非常具有挑戰(zhàn)性,需要權衡對準、效率和寬帶方面的種種要求。針對這些困難,科學家們提出了寬帶光纖耦合概念,并通過Nanoscribe的雙光子微納3D打印設備而制造的3D耦合器得以實現(xiàn)。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究。江蘇雙光子無掩膜光刻微納光刻

無掩膜光刻是一類不采用光刻掩膜版的光刻技術,即采用電子束直接在硅片上制作出需要的圖形。海南無掩膜光刻技術3D打印

因Nanoscribe公司的加入使得CELLINK集團成為世界上頭一家擁有雙光子聚合(2PP)增材制造能力的生物科技公司。Nanoscribe公司的2PP技術能夠在亞細胞尺度上對血管微環(huán)境進行生物打印,適用于細胞研究和芯片實驗室應用。該技術未來也將助力集團的相關產(chǎn)品線開發(fā),用于制造植入體、微針、微孔膜和組學應用耗材等。CELLINK集團的前列宏觀結構生物打印技術與Nanoscribe公司的微觀結構生物打印技術相結合做到了強強聯(lián)手的協(xié)作效應,可以實現(xiàn)更逼真的組織結構,例如血管化和細胞支持體等。2PP技術將實現(xiàn)CELLINK集團所有三個業(yè)務的跨領域應用,并增強集團的耗材產(chǎn)品開發(fā)和供應?!敖柚鶱anoscribe特別先進的2PP技術,我們可以實現(xiàn)擴大補充我們的產(chǎn)品組合,為我們的客戶提供更加廣的產(chǎn)品?!盋ELLINK首席執(zhí)行官ErikGatenholm強調(diào)說,“為了改善全球人民的健康狀況,我們正在以此為目標導向,不斷強大公司擴大規(guī)模,持續(xù)開發(fā)研究開創(chuàng)性生物融合技術。”海南無掩膜光刻技術3D打印

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