廣東德國PSP-POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

在微流體領域，Polos系列光刻機通過無掩模技術實現(xiàn)了復雜3D流道結構的快速成型。例如，中科院理化所利用類似技術制備跨尺度微盤陣列，研究細胞球浸潤行為，為組織工程提供了新型生物界面設計策略10。Polos設備的精度與靈活性可支持此類仿生結構的批量生產(chǎn)，推動醫(yī)療診斷芯片的研發(fā)。無掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢。Polos-BESM：基礎款高性價比，適合高校實驗室基礎微納加工。廣東德國PSP-POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

在organ芯片研究中，模擬人體organ微環(huán)境需要微米級精度的三維結構。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術，幫助科研團隊在 PDMS 材料上構建出仿生血管網(wǎng)絡與組織界面。某再生醫(yī)學實驗室使用 Polos 光刻機，成功制備出肝芯片微通道，其內(nèi)皮細胞黏附率較傳統(tǒng)方法提升 40%，且可通過軟件實時調整通道曲率，precise模擬肝臟血流動力學。該技術縮短了organ芯片的研發(fā)周期，為藥物肝毒性測試提供了更真實的體外模型，相關成果入選《自然?生物技術》年度創(chuàng)新技術案例。湖北德國BEAM光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸掩模制備時間歸零，科研人員耗時減少 60%，項目交付周期縮短 50%。

石墨烯、二硫化鉬等二維材料的器件制備依賴高精度圖案轉移，Polos 光刻機的激光直寫技術避免了傳統(tǒng)濕法轉移的污染問題。某納米電子實驗室在 SiO?基底上直接曝光出 10nm 間隔的電極陣列，成功制備出石墨烯場效應晶體管，其電子遷移率達 2×10? cm2/(V?s)，接近理論極限。該技術支持快速構建多種二維材料異質結，使器件研發(fā)效率提升 5 倍，相關成果推動二維材料在柔性電子、量子計算領域的應用研究進入快車道。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。

某智能機器人實驗室采用 Polos 光刻機制造了磁控微納機器人。其激光直寫技術在鎳鈦合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋槳結構，機器人在旋轉磁場下的推進速度達 50μm/s，轉向精度小于 5°。通過自定義三維運動軌跡，該機器人在微流控芯片中成功實現(xiàn)了單個紅細胞的捕獲與轉運，操作成功率從傳統(tǒng)方法的 40% 提升至 85%。其輕量化設計（質量 < 1μg）還支持在活細胞表面進行納米級手術，相關成果入選《Science Robotics》年度創(chuàng)新技術。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。生物界面創(chuàng)新：微納結構可控加工，為組織工程提供新型仿生材料解決方案。

一所高校的電子工程實驗室專注于新型傳感器的研究。在開發(fā)一款超靈敏壓力傳感器時，面臨著如何在微小尺寸上構建高精度電路圖案的難題。德國 Polos 光刻機的引入解決了這一困境。其可輕松輸入任意圖案進行曝光的特性，讓研究人員能夠根據(jù)傳感器的特殊需求，設計并制作出獨特的電路結構。通過 Polos 光刻機precise的光刻，成功制造出的壓力傳感器，靈敏度比現(xiàn)有市場產(chǎn)品提高了兩倍以上。該成果已獲得多項patent，并吸引了多家科技企業(yè)的關注，有望實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化應用，為可穿戴設備、智能機器人等領域帶來新的發(fā)展機遇。德國 SPS Polos：深耕微納加工 35 年，專注半導體與生命科學領域，全球布局 6 大技術中心，服務 500 + 科研機構。遼寧POLOSBEAM-XL光刻機

緊湊桌面設計：Polos-BESM系統(tǒng)only占桌面空間，適合實驗室高效原型開發(fā)。廣東德國PSP-POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

微納衛(wèi)星對部件重量與精度要求苛刻，傳統(tǒng)加工難以兼顧。Polos 光刻機在硅基材料上實現(xiàn)了 50nm 深度的微溝槽加工，為某航天團隊制造出輕量化星載慣性導航陀螺結構。通過自定義螺旋型振動梁圖案，陀螺的零偏穩(wěn)定性提升至 0.01°/h，較商用產(chǎn)品性能翻倍。該技術還被用于微推進器噴嘴陣列加工，使衛(wèi)星姿態(tài)調整精度達到亞毫牛級，助力我國低軌衛(wèi)星星座建設取得關鍵突破。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。廣東德國PSP-POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸