利用氣體動力學效用類真空計測量與真空相連的容器表面受到的壓力作用而產(chǎn)生的彈性變形或其他力學性能變化來推算真空度的。典型**有波爾登規(guī)(Bourdon)和薄膜電容規(guī)。a)波爾登規(guī)利用彈性元件(如波紋管)在壓力作用下的變形來測量真空度。當氣體壓力作用在波紋管上時,波紋管會產(chǎn)生變形,這種變形可以通過機械傳動機構轉(zhuǎn)化為指針的偏轉(zhuǎn),從而指示出真空度的大小。b)電容薄膜真空計利用薄膜的形變與電容的變化關系來測量真空度。當氣壓發(fā)生變化時,薄膜會相應地產(chǎn)生形變,這種形變會導致電容的改變,進而通過測量電容的變化量來推算出真空度的數(shù)值。薄膜電容規(guī)具有結(jié)構簡單、響應迅速、測量范圍廣等特點。皮拉尼真空計是一種測量真空壓力的儀器,它是根據(jù)皮拉尼原理制成的。高純度真空計設備廠家
真空計的安裝誤差安裝位置不當導致誤差:①管路流導限制(需短而粗的連接管);②溫度梯度(避免熱源附近);③振動(機械泵需隔振);④方向性(某些薄膜規(guī)需水平安裝)。規(guī)范要求測量點盡量靠近真空腔體,必要時使用差分測量消除管路效應。電離規(guī)安裝角度應避免顆粒落入燈絲區(qū)域。10.真空計的氣體種類影響不同氣體熱導率/電離效率差異***:皮拉尼計對H?的靈敏度是N?的7倍;電離規(guī)對Ar的靈敏度比He高30倍。實際應用中需輸入氣體修正因子(如SEMI標準E12-0305提供常見氣體系數(shù))?;旌蠚怏w需質(zhì)譜儀輔助分析,否則可能導致>50%的測量偏差。高純度真空計設備廠家電容薄膜真空計的校準注意事項有?
真空計在半導體工藝中的應用刻蝕機需多規(guī)聯(lián)合監(jiān)控:電容規(guī)測腔體壓力(1~10?2Pa),電離規(guī)監(jiān)控等離子體區(qū)(10?2~10??Pa)。ALD設備要求真空計耐腐蝕(如Al?O?鍍膜用氟化釔涂層電離規(guī))。數(shù)據(jù)采樣率需>10Hz以匹配工藝控制節(jié)奏。14.真空計的壽命與維護熱陰極規(guī)壽命約1~2萬小時(燈絲斷裂);冷陰極規(guī)可達10萬小時。維護包括:①定期烘烤除氣(200℃/24h);②避免油蒸氣污染;③檢查電纜絕緣(高阻抗易受干擾)。故障模式中,燈絲開路占70%,陶瓷絕緣劣化占20%。
常見的真空計類型包括:直接讀取式真空計:如U型管壓力計、壓縮式真空計等,它們直接讀取氣體壓力,其壓力響應(刻度)可通過自身幾何尺寸計算出來或由測力確定。這類真空計對所有氣體都是準確的,且與氣體種類無關。相對真空計:如熱傳導真空計、電離真空計等,它們由一些與氣體壓力有函數(shù)關系的量來確定壓力,不能通過簡單的計算進行刻度,必須進行校準。這類真空計的讀數(shù)與氣體種類有關。電容式薄膜真空計:利用彈性薄膜在壓差作用下產(chǎn)生應變而引起電容變化的原理制成,是一種絕壓、全壓測量的真空計。它的測量直接反映了真空壓力的變化值,而且只與壓力有關,與氣體成分無關。部分真空計對被測氣體有要求。
陶瓷薄膜真空計應用領域半導體制造:用于工藝過程中的真空度監(jiān)控。真空鍍膜:確保鍍膜質(zhì)量??蒲袑嶒灒河糜诟呔日婵諟y量。醫(yī)療設備:如電子顯微鏡、質(zhì)譜儀等。優(yōu)缺點優(yōu)點:高精度、耐腐蝕、穩(wěn)定性好、量程寬。缺點:成本較高,對安裝和使用環(huán)境要求嚴格。維護與保養(yǎng)定期校準以確保精度。保持清潔,避免污染影響性能。避免機械沖擊和振動??偨Y(jié)陶瓷薄膜真空計憑借其高精度和穩(wěn)定性,在多個領域得到廣泛應用,盡管成本較高,但其性能優(yōu)勢明顯。定制真空計可以做到哪些調(diào)整?安徽mems真空計設備公司
真空計的維修與保養(yǎng)。高純度真空計設備廠家
熱陰極電離真空計(Bayard-Alpert計)通過加熱陰極(銥合金或氧化釔涂層鎢絲)發(fā)射電子,電子撞擊氣體分子產(chǎn)生離子,離子電流與壓力成正比。量程10?1~10?? Pa,精度±20%。需避免氧氣環(huán)境導致陰極氧化,且高壓(>1 Pa)下可能燒毀燈絲。改進型抑制規(guī)(Suppressor Gauge)通過電極設計減少X射線效應,可測至10?1? Pa。4. 冷陰極電離真空計(潘寧規(guī))利用磁場約束放電產(chǎn)生離子,無需加熱陰極。量程1~10?? Pa,抗污染能力強,但啟動壓力需<1 Pa(需預抽真空)。放電不穩(wěn)定可能導致讀數(shù)波動±30%。逆磁控管設計提升靈敏度,用于半導體設備監(jiān)控。其壽命可達10萬小時,但強磁場可能干擾周圍儀器。高純度真空計設備廠家