調(diào)整器件字符的方法還有:“1”、“O”、△、或者其他符號要放在對應(yīng)的1管腳處;對BGA器件用英文字母和阿拉伯?dāng)?shù)字構(gòu)成的矩陣方式表示。帶極性器件要把“+”或其他標(biāo)識放在正極旁;對于管腳較多的器件要每隔5個管腳或者收尾管腳都要標(biāo)出管腳號(6)對于二極管正極標(biāo)注的擺放需要特別注意:首先在原理圖中確認(rèn)正極對應(yīng)的管腳號(接高電壓),然后在PCB中,找到對應(yīng)的管腳,將正極極性標(biāo)識放在對應(yīng)的管腳旁邊7)穩(wěn)壓二級管是利用pn結(jié)反向擊穿狀態(tài)制成的二極管。所以正極標(biāo)注放在接低電壓的管腳處。如何創(chuàng)建PCB文件、設(shè)置庫路徑?湖北PCB設(shè)計包括哪些
評估平面層數(shù),電源平面數(shù)的評估:分析單板電源總數(shù)與分布情況,優(yōu)先關(guān)注分布范圍大,及電流大于1A以上的電源(如:+5V,+3.3V此類整板電源、FPGA/DSP的核電源、DDR電源等)。通常情況下:如果板內(nèi)無BGA封裝的芯片,一般可以用一個電源層處理所有的電源;如果有BGA封裝的芯片,主要以BGA封裝芯片為評估對象,如果BGA內(nèi)的電源種類數(shù)≤3種,用一個電源平面,如果>3種,則使用2個電源平面,如果>6則使用3個電源平面,以此類推。備注:1、對于電流<1A的電源可以采用走線層鋪銅的方式處理。2、對于電流較大且分布較集中或者空間充足的情況下采用信號層鋪銅的方式處理。地平面層數(shù)的評估:在確定了走線層數(shù)和電源層數(shù)的基礎(chǔ)上,滿足以下疊層原則:1、疊層對稱性2、阻抗連續(xù)性3、主元件面相鄰層為地層4、電源和地平面緊耦合(3)層疊評估:結(jié)合評估出的走線層數(shù)和平面層數(shù),高速線優(yōu)先靠近地層的原則,進(jìn)行層疊排布。鄂州什么是PCB設(shè)計包括哪些PCB設(shè)計疊層相關(guān)方案。
DDR與SDRAM信號的不同之處,1、DDR的數(shù)據(jù)信號與地址\控制信號是參考不同的時鐘信號,數(shù)據(jù)信號參考DQS選通信號,地址\控制信號參考CK\CK#差分時鐘信號;而SDRAM信號的數(shù)據(jù)、地址、控制信號是參考同一個時鐘信號。2、數(shù)據(jù)信號參考的時鐘信號即DQS信號是上升沿和下降沿都有效,即DQS信號的上升沿和下降沿都可以觸發(fā)和鎖存數(shù)據(jù),而SDRAM的時鐘信號只有在上升沿有效,相對而言DDR的數(shù)據(jù)速率翻倍。3、DDR的數(shù)據(jù)信號通常分成幾組,如每8位數(shù)據(jù)信號加一位選通信號DQS組成一組,同一組的數(shù)據(jù)信號參考相同組里的選通信號。4、為DDRSDRAM接口同步工作示意圖,數(shù)據(jù)信號與選通信號分成多組,同組內(nèi)的數(shù)據(jù)信號參考同組內(nèi)的選通信號;地址、控制信號參考CK\CK#差分時鐘信號。
射頻、中頻電路(2)屏蔽腔的設(shè)計1、應(yīng)把不同模塊的射頻單元用腔體隔離,特別是敏感電路和強(qiáng)烈輻射源之間,在大功率多級放大器中,也應(yīng)保證級與級之間隔開。2、印刷電路板的腔體應(yīng)做開窗處理、方便焊接屏蔽殼。3、在屏蔽腔體上設(shè)計兩排開窗過孔屏,過孔應(yīng)相互錯開,同排過孔間距為150Mil。4、在腔體的拐角處應(yīng)設(shè)計3mm的金屬化固定孔,保證其固定屏蔽殼。5、腔體的周邊為密封的,一般接口的線要引入腔體里采用帶狀線的結(jié)構(gòu);而腔體內(nèi)部不同模塊之間可以采用微帶線的結(jié)構(gòu),這樣內(nèi)部的屏蔽腔采用開槽處理,開槽的寬度一般為3mm、微帶線走在中間。6、屏蔽罩設(shè)計實(shí)例如何解決PCB設(shè)計中電源電路放置問題?
存儲模塊介紹:存儲器分類在我們的設(shè)計用到的存儲器有SRAM、DRAM、EEPROM、Flash等,其中DDR系列用的是多的,其DDR-DDR4的詳細(xì)參數(shù)如下:DDR采用TSSOP封裝技術(shù),而DDR2和DDR3內(nèi)存均采用FBGA封裝技術(shù)。TSSOP封裝的外形尺寸較大,呈長方形,其優(yōu)點(diǎn)是成本低、工藝要求不高,缺點(diǎn)是傳導(dǎo)效果差,容易受干擾,散熱不理想,而FBGA內(nèi)存顆粒精致小巧,體積大約只有DDR內(nèi)存顆粒的三分之一,有效地縮短信號傳輸距離,在抗干擾、散熱等方面更有優(yōu)勢,而DDR4采用3DS(3-DimensionalStack)三維堆疊技術(shù)來增大單顆芯片容量,封裝外形則與DDR2、DDR3差別不大。制造工藝不斷提高,從DDR到DDR2再到DDR3內(nèi)存,其制造工藝都在不斷改善,更高工藝水平會使內(nèi)存電氣性能更好,成本更低;DDR內(nèi)存顆粒大范圍采用0.13微米制造工藝,而DDR2采用了0.09微米制造工藝,DDR3則采用了全新65nm制造工藝,而DDR4使用20nm以下的工藝來制造,從DDR~DDR4的具體參數(shù)如下表所示。PCB典型的電路設(shè)計指導(dǎo)。咸寧PCB設(shè)計包括哪些
PCB設(shè)計中電氣方面的注意事項(xiàng)。湖北PCB設(shè)計包括哪些
整板扇出(1)對板上已處理的表層線和過孔按照規(guī)則進(jìn)行相應(yīng)的調(diào)整。(2)格點(diǎn)優(yōu)先選用25Mil的,其次采用5Mil格點(diǎn),過孔扇出在格點(diǎn)上,相同器件過孔走線采用復(fù)制方式,保證過孔上下左右對齊、常見分立器件的扇出形式(3)8MIL過孔中心間距35MIL以上,10MIL過孔中心間距40MIL以上,以免將平面層隔斷;差分過孔間距一般為30Mil(或過孔邊緣距為8Mil)。(4)芯片電源管腳先過電容再打過孔(5)所有電源/地管腳就近打孔,高速差分過孔附近30-50Mil內(nèi)加回流地孔,模塊內(nèi)通過表層線直連,無法連接的打過孔處理。(6)電源輸出過孔打在輸出濾波電容之后,電源輸入過孔扇出在輸入濾波電容之前,過孔數(shù)目滿足電源載流要求,過孔通流能力參照,地孔數(shù)不少于電源過孔數(shù)。湖北PCB設(shè)計包括哪些
武漢京曉科技有限公司在同行業(yè)領(lǐng)域中,一直處在一個不斷銳意進(jìn)取,不斷制造創(chuàng)新的市場高度,多年以來致力于發(fā)展富有創(chuàng)新價值理念的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn),在湖北省等地區(qū)的電工電氣中始終保持良好的商業(yè)口碑,成績讓我們喜悅,但不會讓我們止步,殘酷的市場磨煉了我們堅強(qiáng)不屈的意志,和諧溫馨的工作環(huán)境,富有營養(yǎng)的公司土壤滋養(yǎng)著我們不斷開拓創(chuàng)新,勇于進(jìn)取的無限潛力,武漢京曉科技供應(yīng)攜手大家一起走向共同輝煌的未來,回首過去,我們不會因?yàn)槿〉昧艘稽c(diǎn)點(diǎn)成績而沾沾自喜,相反的是面對競爭越來越激烈的市場氛圍,我們更要明確自己的不足,做好迎接新挑戰(zhàn)的準(zhǔn)備,要不畏困難,激流勇進(jìn),以一個更嶄新的精神面貌迎接大家,共同走向輝煌回來!