精密環(huán)控柜主要由設備主柜體、控制系統(tǒng)、氣流循環(huán)系統(tǒng)、潔凈過濾器、制冷(熱)系統(tǒng)、照明系統(tǒng)、局部氣浴等組成,為光刻機、激光干涉儀等精密測量、精密制造設備提供超高精度溫濕度、潔凈度的工作環(huán)境。該設備內部通過風機引導氣流以一定的方向循環(huán),控制系統(tǒng)對循環(huán)氣流的每個環(huán)節(jié)進行處理,從而使柜內的溫濕度達到超高的控制精度。該系統(tǒng)可實現(xiàn)潔凈度百級、十級、一級,溫度波動值±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.002℃等精密環(huán)境控制。自面世以來,已為相關領域客戶提供了穩(wěn)定的實驗室環(huán)境以及監(jiān)測服務,獲得了眾多好評。精密環(huán)境控制設備內部溫度規(guī)格設定為 22.0°C 且可靈活調節(jié),以滿足不同控溫需求。福建芯片恒溫恒濕
在航空航天和新能源電子領域,眾多零部件的制造與檢測對環(huán)境的精密性要求極高,精密環(huán)控柜為這些關鍵環(huán)節(jié)提供了可靠保障。航空航天零部件多采用先進材料制造,其加工和檢測過程需要嚴苛的環(huán)境條件。如航空發(fā)動機葉片的精密加工,0.05℃的溫度波動都可能使機床的主軸、導軌等關鍵部件熱變形,導致葉片加工精度不達標。精密環(huán)控柜的高精度溫度控制,確保加工環(huán)境穩(wěn)定,保障葉片加工質量。同時,其超高水準潔凈度控制,防止塵埃顆粒對航空零部件的污染,提升產品可靠性。除此之外,一些需要高精密環(huán)境的領域,也離不開精密環(huán)控柜。半導體恒溫恒濕模擬柜設備運行穩(wěn)定性高,可連續(xù)穩(wěn)定工作時間大于144h。
我司憑借深厚的技術積累,自主研發(fā)出高精密控溫技術,精度高達 0.1% 的控制輸出。溫度波動值可實現(xiàn)±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等精密環(huán)境控制。該系統(tǒng)潔凈度可實現(xiàn)百級、十級、一級。關鍵區(qū)域 ±5mK(靜態(tài))的溫度穩(wěn)定性,以及均勻性小于 16mK/m 的內部溫度規(guī)格,為諸如芯片研發(fā)這類對溫度極度敏感的項目,打造了近乎完美的溫場環(huán)境,保障實驗數(shù)據(jù)不受溫度干擾。同時,設備內部濕度穩(wěn)定性可達±0.5%@8h,壓力穩(wěn)定性可達+/-3Pa,長達 144h 的連續(xù)穩(wěn)定工作更是讓長時間實驗和制造無后顧之憂。在潔凈度方面,實現(xiàn)百級以上潔凈度控制,工作區(qū)潔凈度優(yōu)于 ISO class3,確保實驗結果的準確性與可靠性,也保障了精密儀器的正常工作和使用壽命。
在芯片這一高科技產品的復雜生產流程里,眾多環(huán)節(jié)對溫濕度的波動展現(xiàn)出了近乎苛刻的精密度要求。光刻過程中,利用高精度的光刻設備,將預先設計好的復雜電路圖案轉移至硅片表面。溫度的穩(wěn)定性起著決定性作用,哪怕有零點幾攝氏度的微小波動,都會使光刻膠內部的化學反應速率產生偏差。光刻膠作為一種對光敏感的高分子材料,其反應速率的改變將直接作用于光刻成像效果,致使圖案邊緣模糊、線條粗細不均,進而讓芯片上的線路出現(xiàn)偏差,甚至引發(fā)短路故障,讓前期投入的大量人力、物力和時間付諸東流。與此同時,濕度因素同樣不可小覷。光刻車間若濕度偏高,水汽極易滲透至光刻膠內部,使其含水量上升,感光度隨之降低,如同給精密的 “光刻鏡頭” 蒙上一層霧靄,嚴重影響光刻精度,導致芯片良品率大打折扣,大幅增加生產成本。主要由設備主柜體、控制系統(tǒng)、氣流循環(huán)系統(tǒng)、潔凈過濾器、制冷(熱)系統(tǒng)、照明系統(tǒng)、局部氣浴等組成。
超精密激光外徑測量儀,在精密制造領域里,是線纜、管材等產品外徑測量環(huán)節(jié)中不可或缺的存在。其測量精度直接關乎產品質量。然而,環(huán)境因素對它的干擾不容小覷。一旦溫度產生波動,儀器的光學系統(tǒng)便會因熱脹冷縮發(fā)生熱變形,致使原本激光聚焦出現(xiàn)偏差,光斑尺寸也隨之改變,如此一來,根本無法精確測量產品外徑。像在高精度線纜生產中,哪怕只是極其微小的溫度變化,都可能致使產品外徑公差超出標準范圍。而在高濕度環(huán)境下,水汽對激光的散射作用大幅增強,返回的激光信號強度減弱,噪聲卻不斷增大,測量系統(tǒng)難以準確識別產品邊界,造成測量數(shù)據(jù)的重復性和準確性都嚴重變差 。高精密環(huán)境控制設備主要由主柜體、控制系統(tǒng)、氣流循環(huán)系統(tǒng)、潔凈過濾器、制冷(熱)系統(tǒng)、照明系統(tǒng)等組成。半導體恒溫恒濕模擬柜
在超高水準潔凈度控制下,該系統(tǒng)設備工作區(qū)呈現(xiàn)潔凈度,可優(yōu)于 ISO class3。福建芯片恒溫恒濕
激光干涉儀以其納米級別的測量精度,在半導體制造、精密機械加工等領域發(fā)揮著關鍵作用。然而,它對環(huán)境變化極為敏感,溫度、濕度的微小波動以及空氣潔凈度的差異,都可能干擾激光的傳播路徑與干涉效果,致使測量結果出現(xiàn)偏差。精密環(huán)控柜的超高精度溫度控制,能將溫度波動控制在極小區(qū)間,如關鍵區(qū)域 ±2mK(靜態(tài)),同時確保濕度穩(wěn)定性可達 ±0.5%@8h,并且實現(xiàn)百級以上潔凈度控制,為激光干涉儀提供穩(wěn)定、潔凈的測量環(huán)境,保障其測量精度不受外界因素干擾。光譜分析儀用于分析物質的光譜特性,廣泛應用于半導體材料檢測、化學分析等領域。在工作時,外界環(huán)境的不穩(wěn)定可能導致儀器內部光學元件的性能變化,影響光譜的采集與分析精度。精密環(huán)控柜通過調控溫濕度,避免因溫度變化使光學元件熱脹冷縮產生變形,以及因濕度異常造成的鏡片霉變、光路散射等問題。其穩(wěn)定的環(huán)境控制能力,保證光譜分析儀能夠準確、可靠地分析物質光譜,為科研與生產提供數(shù)據(jù)支持。福建芯片恒溫恒濕