真空鍍膜機(jī)的鍍膜效果通常通過(guò)多個(gè)評(píng)估指標(biāo)來(lái)進(jìn)行綜合評(píng)估。以下是一些常見的用于評(píng)估鍍膜效果的指標(biāo):1.鍍層附著力:衡量涂層與基底之間的結(jié)合強(qiáng)度。通常通過(guò)切割試驗(yàn)、微觀觀察或拉伸測(cè)試等方法來(lái)評(píng)估。2.表面粗糙度:描述涂層表面的光滑程度和均勻性??梢允褂帽砻娲植诙葍x或掃描電子顯微鏡等工具進(jìn)行測(cè)量。3.光學(xué)性能:包括透過(guò)率、反射率、吸收率等光學(xué)特性。對(duì)于光學(xué)涂層,這些參數(shù)直接影響其在光學(xué)器件中的性能。4.厚度均勻性:衡量涂層在整個(gè)表面上的厚度分布。通過(guò)測(cè)量不同位置的涂層厚度來(lái)評(píng)估。5.硬度:描述涂層的硬度,對(duì)于一些工具涂層或防護(hù)性涂層而言,硬度是關(guān)鍵的性能指標(biāo)。6.抗腐蝕性:衡量涂層對(duì)腐蝕...
真空鍍膜機(jī)的鍍膜效果通常通過(guò)多個(gè)評(píng)估指標(biāo)來(lái)進(jìn)行綜合評(píng)估。以下是一些常見的用于評(píng)估鍍膜效果的指標(biāo):1.鍍層附著力:衡量涂層與基底之間的結(jié)合強(qiáng)度。通常通過(guò)切割試驗(yàn)、微觀觀察或拉伸測(cè)試等方法來(lái)評(píng)估。2.表面粗糙度:描述涂層表面的光滑程度和均勻性??梢允褂帽砻娲植诙葍x或掃描電子顯微鏡等工具進(jìn)行測(cè)量。3.光學(xué)性能:包括透過(guò)率、反射率、吸收率等光學(xué)特性。對(duì)于光學(xué)涂層,這些參數(shù)直接影響其在光學(xué)器件中的性能。4.厚度均勻性:衡量涂層在整個(gè)表面上的厚度分布。通過(guò)測(cè)量不同位置的涂層厚度來(lái)評(píng)估。5.硬度:描述涂層的硬度,對(duì)于一些工具涂層或防護(hù)性涂層而言,硬度是關(guān)鍵的性能指標(biāo)。6.抗腐蝕性:衡量涂層對(duì)腐蝕...
真空鍍膜機(jī)是一種用于在物體表面形成薄膜涂層的設(shè)備,通過(guò)在真空環(huán)境中對(duì)物體進(jìn)行鍍膜處理。這種技術(shù)主要應(yīng)用于改善物體的性能、外觀或其他特定的功能。以下是真空鍍膜機(jī)的一些基本原理和應(yīng)用:基本原理:1.真空環(huán)境:真空鍍膜機(jī)通過(guò)將處理室中的空氣抽取,創(chuàng)造一個(gè)真空環(huán)境。這有助于減少氣體分子的干擾,確保薄膜沉積的均勻性。2.薄膜材料:鍍膜機(jī)使用不同種類的薄膜材料,通常是金屬或化合物,例如鋁、鉻、氮化硅等,根據(jù)所需的特性和應(yīng)用。3.蒸發(fā)或?yàn)R射:薄膜材料可以通過(guò)蒸發(fā)或?yàn)R射的方式沉積到物體表面。在蒸發(fā)過(guò)程中,薄膜材料加熱至其熔點(diǎn)以上,然后蒸發(fā)并沉積在物體表面。在濺射過(guò)程中,使用電子束或離子束等方法將薄膜材料從...
手機(jī)是我們?nèi)粘I钪胁豢苫蛉钡碾娮赢a(chǎn)品,而手機(jī)的各個(gè)部件的質(zhì)量和性能直接影響著手機(jī)的使用體驗(yàn)。為了提高手機(jī)的質(zhì)量和性能,手機(jī)的各個(gè)部件需要進(jìn)行真空鍍膜處理。手機(jī)有哪些部件需要真空鍍膜呢?首先,手機(jī)的屏幕是需要進(jìn)行真空鍍膜處理的部件之一。屏幕的鍍膜可以提高屏幕的亮度和對(duì)比度,同時(shí)還可以增強(qiáng)屏幕的耐磨性和防刮性能,使得手機(jī)的屏幕更加耐用。其次,手機(jī)的攝像頭也需要進(jìn)行真空鍍膜處理。鍍膜可以提高攝像頭的透光率和抗反射性能,從而提高攝像頭的拍攝效果和清晰度,使得手機(jī)的拍照功能更加出色。另外,手機(jī)的金屬外殼也需要進(jìn)行真空鍍膜處理。鍍膜可以提高金屬外殼的耐腐蝕性和耐磨性,從而保護(hù)手機(jī)的外殼不受外...
真空鍍膜機(jī)通常由多個(gè)主要部件組成,每個(gè)部件都有特定的功能,以確保涂層過(guò)程的順利進(jìn)行。以下是真空鍍膜機(jī)的一些主要部件及其功能:1.真空腔體(VacuumChamber):功能:提供一個(gè)密封的空間,用于創(chuàng)建真空環(huán)境。在這個(gè)腔體中,涂層過(guò)程將在無(wú)空氣或真空的條件下進(jìn)行。2.真空泵(VacuumPump):功能:用于抽取真空腔體內(nèi)的空氣,創(chuàng)造高度真空的工作環(huán)境。不同類型的真空泵包括機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、離心泵等,其選擇取決于所需的真空度。3.靶材或蒸發(fā)源(TargetorEvaporationSource):功能:提供薄膜材料,可以是金屬靶材或化合物靶材。靶材通過(guò)蒸發(fā)或?yàn)R射的方式將薄膜材料釋放到真空腔體...
真空鍍膜機(jī)的鍍膜厚度是通過(guò)控制涂層過(guò)程中沉積材料的速率來(lái)實(shí)現(xiàn)的。涂層厚度的控制是一個(gè)精密的過(guò)程,受到多種因素的影響。以下是一些影響真空鍍膜機(jī)鍍膜厚度控制的因素:1.蒸發(fā)源或?yàn)R射靶材的速率:蒸發(fā)源或?yàn)R射靶材釋放涂層材料的速率直接影響涂層的沉積速率。通過(guò)控制這些速率,可以調(diào)整涂層的厚度。2.襯底旋轉(zhuǎn)或運(yùn)動(dòng):襯底在真空腔體中的旋轉(zhuǎn)或運(yùn)動(dòng)可以確保涂層在整個(gè)表面上均勻沉積,影響涂層的均勻性和厚度。3.真空度:真空度的高低影響蒸發(fā)或?yàn)R射過(guò)程中氣體分子的數(shù)量,從而影響沉積速率。較高的真空度通常有助于更準(zhǔn)確地控制涂層厚度。4.溫度:物體表面的溫度可以影響涂層的附著力和晶體結(jié)構(gòu),從而影響厚度的控制。加熱蒸發(fā)...
真空鍍膜機(jī)的維護(hù)保養(yǎng)對(duì)于確保設(shè)備長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)行和保持涂層質(zhì)量非常重要。以下是一些需要注意的問(wèn)題以及維護(hù)保養(yǎng)的一般指導(dǎo):1.真空系統(tǒng)的檢查:·定期檢查真空泵和真空管路,確保系統(tǒng)真空度穩(wěn)定。清理真空室和泵的內(nèi)部,防止積聚的雜質(zhì)影響真空度。2.鍍膜材料的管理:定期檢查和更換鍍膜材料,確保蒸發(fā)源或?yàn)R射靶材的穩(wěn)定性和壽命。清理鍍膜源周圍區(qū)域,防止雜質(zhì)進(jìn)入涂層。3.電源和加熱系統(tǒng)的檢查:定期檢查電源和加熱系統(tǒng)的工作狀態(tài),確保設(shè)備能夠提供足夠的功率。檢查加熱元件和溫度控制系統(tǒng),確保溫度控制精度。4.底座和旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的維護(hù):檢查底座和襯底旋轉(zhuǎn)系統(tǒng),確保其運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)。潤(rùn)滑旋轉(zhuǎn)部件,防止因摩擦而導(dǎo)致的故障...
真空鍍膜機(jī)的價(jià)格和性能之間的關(guān)系主要受以下因素影響:1.設(shè)備型號(hào)和規(guī)格:不同型號(hào)和規(guī)格的真空鍍膜機(jī)具有不同的性能特點(diǎn)和處理能力。一般而言,設(shè)備規(guī)格越高,價(jià)格也越高。2.自動(dòng)化程度:自動(dòng)化程度較高的真空鍍膜機(jī)通常具有更先進(jìn)的控制系統(tǒng)和更多的自動(dòng)化功能,能夠提高生產(chǎn)效率和一致性。但隨之而來(lái)的是更高的成本。3.涂層功能和材料:不同的涂層功能和涂層材料可能需要不同的工藝和設(shè)備,因此涉及到更復(fù)雜的涂層需求可能會(huì)導(dǎo)致更高的價(jià)格。4.生產(chǎn)能力:生產(chǎn)能力是真空鍍膜機(jī)一個(gè)重要的性能指標(biāo)。較大生產(chǎn)能力的設(shè)備通常價(jià)格更高,但可以更快速地處理更多工件。5.能效和節(jié)能設(shè)計(jì):具有先進(jìn)的能效和節(jié)能設(shè)計(jì)的設(shè)備可能在長(zhǎng)期運(yùn)...
真空鍍膜機(jī)的價(jià)格和性能之間的關(guān)系主要受以下因素影響:1.設(shè)備型號(hào)和規(guī)格:不同型號(hào)和規(guī)格的真空鍍膜機(jī)具有不同的性能特點(diǎn)和處理能力。一般而言,設(shè)備規(guī)格越高,價(jià)格也越高。2.自動(dòng)化程度:自動(dòng)化程度較高的真空鍍膜機(jī)通常具有更先進(jìn)的控制系統(tǒng)和更多的自動(dòng)化功能,能夠提高生產(chǎn)效率和一致性。但隨之而來(lái)的是更高的成本。3.涂層功能和材料:不同的涂層功能和涂層材料可能需要不同的工藝和設(shè)備,因此涉及到更復(fù)雜的涂層需求可能會(huì)導(dǎo)致更高的價(jià)格。4.生產(chǎn)能力:生產(chǎn)能力是真空鍍膜機(jī)一個(gè)重要的性能指標(biāo)。較大生產(chǎn)能力的設(shè)備通常價(jià)格更高,但可以更快速地處理更多工件。5.能效和節(jié)能設(shè)計(jì):具有先進(jìn)的能效和節(jié)能設(shè)計(jì)的設(shè)備可能在長(zhǎng)期運(yùn)...
BLL-1350PVD真空鍍膜機(jī)使用注意事項(xiàng)1.開機(jī)前確認(rèn)冷卻水,壓縮空氣是否正常。2.確認(rèn)中頻電源及靶材冷卻水是否正常。3.確認(rèn)工藝所使用的反應(yīng)氣體是否還充足。4.如遇緊急情況可以按下“急停”按鈕停止所有輸出。5.畫面參數(shù)更改方式,先選中,更改后點(diǎn)擊旁邊空白處即確認(rèn)。6.進(jìn)入維修權(quán)限,在左上角工藝名稱處輸入86577718,點(diǎn)擊空白處,再點(diǎn)擊維修按鈕,3秒后維修按鈕變?yōu)榫G色,進(jìn)入維修模式(非專業(yè)人員請(qǐng)勿進(jìn)入維修模式)。7.主頁(yè)上閥門如RV,HV,MV,VV上小紅點(diǎn)為到位檢測(cè)開關(guān),紅色表示該閥門已經(jīng)關(guān)到位,綠色表示打開狀態(tài)。如遇真空動(dòng)作異常時(shí)可以先確認(rèn)閥門時(shí)候動(dòng)作到位。8.打開工藝...
高真空多層精密光學(xué)鍍膜機(jī)BLL-1200F型常規(guī)配置;真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP300WAU1001/2001EH1200/EH2600高真空泵:分子泵低溫泵擴(kuò)散泵真空室加熱系統(tǒng)ZUI高溫度:0到400℃型號(hào):不銹鋼管裝加熱器(選擇:紅外線燈管)基片架盤型號(hào):球面型(選擇:平面型,公自轉(zhuǎn),多行星型,可調(diào)角度行星盤)轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟,軟停,可調(diào)速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進(jìn)口復(fù)合真空計(jì)MFC系統(tǒng):進(jìn)口質(zhì)量流量控制器;進(jìn)口電磁閥APC系統(tǒng)鍍膜沉積控制系統(tǒng):晶控美國(guó)產(chǎn)IC-6,XTC-3S/M,INFICON310.石英晶體感...
中頻熱蒸發(fā)雙門真空鍍膜機(jī)BLLVAC-1600S型常規(guī)配置; 真空系統(tǒng)真空泵:HG-150SV630E2M275增壓泵:ZJP1200/1800WAU2001EH2600高真空泵:擴(kuò)散泵基片架盤型號(hào):公自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟,軟停,可調(diào)速電器控制系統(tǒng):觸膜屏面板或PC和PLC控制全程自動(dòng)控制鍍膜以達(dá)到終產(chǎn)品所需要求VAC系統(tǒng):進(jìn)口真空計(jì)硅油系統(tǒng):德國(guó)進(jìn)口流量控制器:1進(jìn)口電磁閥:1APC系統(tǒng)輔助源:意大利10KW中頻電源,AE電源,直流電源蒸發(fā)源:40KW電阻熱蒸發(fā)深冷系統(tǒng):真空室麥斯納阱擴(kuò)散泵冷阱,真空硅油桶 光學(xué)真空鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、航空航天等領(lǐng)域。山東多弧離子...
BLL-1500F燈管真空鍍膜機(jī) 1.工藝文件選擇框;2.為廠家的每一爐產(chǎn)品識(shí)別號(hào)(如沒(méi)有則不用輸入),使用可方便日后查找鍍膜過(guò)程記錄文件;3.讀取當(dāng)前選擇工藝文件按鈕;4.點(diǎn)擊可打開當(dāng)前所選擇的Excel文件;5.晶控復(fù)位按鈕,可以恢復(fù)晶控里一些生產(chǎn)廠家預(yù)設(shè);6.用于鍍膜過(guò)程中出現(xiàn)突發(fā)狀況的暫停,點(diǎn)擊之后可對(duì)設(shè)備做任何操作(如放氣,開門,斷電,重啟),完成之后只需繼續(xù)按鈕,就可以繼續(xù)執(zhí)行暫停時(shí)執(zhí)行的膜層未完成的膜厚;7.鍍膜手自動(dòng)開始選擇按鈕,選擇自動(dòng)時(shí),則當(dāng)真空點(diǎn)1E-3Pa為綠、鍍膜溫度、滿足時(shí)自動(dòng)開始執(zhí)行當(dāng)前所選擇工藝文件;8工藝開始時(shí)蜂鳴器響2下提示音。11處可以打...
真空鍍膜機(jī)的維護(hù)保養(yǎng)對(duì)于確保設(shè)備長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)行和保持涂層質(zhì)量非常重要。以下是一些需要注意的問(wèn)題以及維護(hù)保養(yǎng)的一般指導(dǎo):1.真空系統(tǒng)的檢查:·定期檢查真空泵和真空管路,確保系統(tǒng)真空度穩(wěn)定。清理真空室和泵的內(nèi)部,防止積聚的雜質(zhì)影響真空度。2.鍍膜材料的管理:定期檢查和更換鍍膜材料,確保蒸發(fā)源或?yàn)R射靶材的穩(wěn)定性和壽命。清理鍍膜源周圍區(qū)域,防止雜質(zhì)進(jìn)入涂層。3.電源和加熱系統(tǒng)的檢查:定期檢查電源和加熱系統(tǒng)的工作狀態(tài),確保設(shè)備能夠提供足夠的功率。檢查加熱元件和溫度控制系統(tǒng),確保溫度控制精度。4.底座和旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)的維護(hù):檢查底座和襯底旋轉(zhuǎn)系統(tǒng),確保其運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)。潤(rùn)滑旋轉(zhuǎn)部件,防止因摩擦而導(dǎo)致的故障...
真空鍍膜技術(shù)在不斷發(fā)展,未來(lái)的發(fā)展趨勢(shì)主要包括以下幾個(gè)方面:1.智能化和自動(dòng)化:隨著工業(yè),真空鍍膜機(jī)將更加智能化和自動(dòng)化。采用先進(jìn)的控制系統(tǒng)、傳感器技術(shù)和數(shù)據(jù)分析,實(shí)現(xiàn)自動(dòng)監(jiān)測(cè)、調(diào)整和優(yōu)化,提高生產(chǎn)效率和一致性。2.高效能源利用:未來(lái)的真空鍍膜機(jī)將更注重能源效率。通過(guò)優(yōu)化加熱系統(tǒng)、真空泵系統(tǒng)和其他關(guān)鍵組件,以減少能源浪費(fèi),降低生產(chǎn)成本,并減少對(duì)環(huán)境的影響。3.多功能涂層:隨著對(duì)功能性涂層需求的增加,未來(lái)的真空鍍膜技術(shù)將更加注重實(shí)現(xiàn)多功能性。例如,兼具抗腐蝕、導(dǎo)電、光學(xué)和生物相容性的涂層。4.納米涂層技術(shù):隨著納米技術(shù)的不斷發(fā)展,真空鍍膜機(jī)將更多地應(yīng)用于制備納米涂層。這些涂層具有特殊的物理和...
以下是一些常見的真空鍍膜機(jī)鍍膜材料及其特點(diǎn)和應(yīng)用場(chǎng)景的詳細(xì)信息:1.鋁(Al):特點(diǎn):具有良好的導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性和反射性,形成金屬外觀。應(yīng)用場(chǎng)景:食品包裝、反射鏡、裝飾品、光學(xué)鏡片。2.鉻(Cr):特點(diǎn):具有硬度高、耐腐蝕性好的特性,提供裝飾性和保護(hù)性涂層。應(yīng)用場(chǎng)景:裝飾品、汽車零部件、鏡子涂層。3.銅(Cu):特點(diǎn):具有良好的導(dǎo)電性,常用于電子器件和導(dǎo)電涂層。應(yīng)用場(chǎng)景:集成電路、電子連接器、導(dǎo)電涂層。4.金(Au):特點(diǎn):具有優(yōu)越的導(dǎo)電性和光學(xué)性能,耐腐蝕。應(yīng)用場(chǎng)景:首飾、電子器件、太陽(yáng)能電池、光學(xué)鏡片。5.鈦(Ti):特點(diǎn):輕質(zhì)、高韌度、耐腐蝕,廣泛應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域。應(yīng)用場(chǎng)景:醫(yī)療器械、航...
真空鍍膜機(jī)的鍍膜厚度是通過(guò)控制涂層過(guò)程中沉積材料的速率來(lái)實(shí)現(xiàn)的。涂層厚度的控制是一個(gè)精密的過(guò)程,受到多種因素的影響。以下是一些影響真空鍍膜機(jī)鍍膜厚度控制的因素:1.蒸發(fā)源或?yàn)R射靶材的速率:蒸發(fā)源或?yàn)R射靶材釋放涂層材料的速率直接影響涂層的沉積速率。通過(guò)控制這些速率,可以調(diào)整涂層的厚度。2.襯底旋轉(zhuǎn)或運(yùn)動(dòng):襯底在真空腔體中的旋轉(zhuǎn)或運(yùn)動(dòng)可以確保涂層在整個(gè)表面上均勻沉積,影響涂層的均勻性和厚度。3.真空度:真空度的高低影響蒸發(fā)或?yàn)R射過(guò)程中氣體分子的數(shù)量,從而影響沉積速率。較高的真空度通常有助于更準(zhǔn)確地控制涂層厚度。4.溫度:物體表面的溫度可以影響涂層的附著力和晶體結(jié)構(gòu),從而影響厚度的控制。加熱蒸發(fā)...
高真空多層精密光學(xué)鍍膜機(jī)BLL-900F型常規(guī)配置;真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP300WAU1001EH1200高真空泵:分子泵低溫泵擴(kuò)散泵真空室加熱系統(tǒng):ZUI高溫度:0到400℃型號(hào):不銹鋼管裝加熱器(選擇:紅外線燈管)基片架盤型號(hào):球面型(選擇:平面型,公自轉(zhuǎn),多行星型,可調(diào)角度行星盤)轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟,軟停,可調(diào)速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進(jìn)口復(fù)合真空計(jì)MFC系統(tǒng):進(jìn)口質(zhì)量流量控制器;進(jìn)口電磁閥:APC系統(tǒng)鍍膜沉積控制系統(tǒng):晶控美國(guó)產(chǎn)IC-6,XTC-3S/M,INFICON310.石英晶體感應(yīng)器:1,2,6頭光控...
真空鍍膜的厚度可以通過(guò)以下幾種方式來(lái)控制:1.時(shí)間控制法:通過(guò)控制鍍膜時(shí)間來(lái)控制膜層的厚度,一般適用于單層膜的制備。2.監(jiān)測(cè)法:通過(guò)在真空室內(nèi)安裝監(jiān)測(cè)儀器,如晶體振蕩器、光學(xué)膜厚計(jì)等,實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)膜層厚度,從而控制鍍膜時(shí)間和速率,適用于多層膜的制備。3.電子束控制法:通過(guò)控制電子束的功率和掃描速度來(lái)控制膜層的厚度,適用于高精度、高質(zhì)量的膜層制備。4.磁控濺射控制法:通過(guò)控制磁場(chǎng)和濺射功率來(lái)控制膜層的厚度,適用于制備金屬、合金等材料的膜層。以上方法可以單獨(dú)或結(jié)合使用,根據(jù)不同的材料和工藝要求選擇合適的控制方法。磁控濺射真空鍍膜機(jī)具有較高的鍍膜均勻性和重復(fù)性,可以保證產(chǎn)品的質(zhì)量穩(wěn)定性。全國(guó)多弧離子真空...
BLL-1500F燈管真空鍍膜機(jī) 1.工藝文件選擇框;2.為廠家的每一爐產(chǎn)品識(shí)別號(hào)(如沒(méi)有則不用輸入),使用可方便日后查找鍍膜過(guò)程記錄文件;3.讀取當(dāng)前選擇工藝文件按鈕;4.點(diǎn)擊可打開當(dāng)前所選擇的Excel文件;5.晶控復(fù)位按鈕,可以恢復(fù)晶控里一些生產(chǎn)廠家預(yù)設(shè);6.用于鍍膜過(guò)程中出現(xiàn)突發(fā)狀況的暫停,點(diǎn)擊之后可對(duì)設(shè)備做任何操作(如放氣,開門,斷電,重啟),完成之后只需繼續(xù)按鈕,就可以繼續(xù)執(zhí)行暫停時(shí)執(zhí)行的膜層未完成的膜厚;7.鍍膜手自動(dòng)開始選擇按鈕,選擇自動(dòng)時(shí),則當(dāng)真空點(diǎn)1E-3Pa為綠、鍍膜溫度、滿足時(shí)自動(dòng)開始執(zhí)行當(dāng)前所選擇工藝文件;8工藝開始時(shí)蜂鳴器響2下提示音。11處可以打...
高真空多層精密光學(xué)鍍膜機(jī)BLL-900F型常規(guī)配置;真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP300WAU1001EH1200高真空泵:分子泵低溫泵擴(kuò)散泵真空室加熱系統(tǒng):ZUI高溫度:0到400℃型號(hào):不銹鋼管裝加熱器(選擇:紅外線燈管)基片架盤型號(hào):球面型(選擇:平面型,公自轉(zhuǎn),多行星型,可調(diào)角度行星盤)轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟,軟停,可調(diào)速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進(jìn)口復(fù)合真空計(jì)MFC系統(tǒng):進(jìn)口質(zhì)量流量控制器;進(jìn)口電磁閥:APC系統(tǒng)鍍膜沉積控制系統(tǒng):晶控美國(guó)產(chǎn)IC-6,XTC-3S/M,INFICON310.石英晶體感應(yīng)器:1,2,6頭光控...
光學(xué)真空鍍膜機(jī)是一種用于制備光學(xué)薄膜的設(shè)備,其鍍膜材料主要包括金屬、氧化物、氟化物、硅化物等。以下是常見的鍍膜材料及其特點(diǎn):1.金屬:如鋁、銀、鎳、鉻等。金屬薄膜具有良好的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性,適用于制備反射鏡、透鏡等光學(xué)元件。2.氧化物:如二氧化硅、氧化鋁、氧化鋅等。氧化物薄膜具有良好的耐腐蝕性和光學(xué)性能,適用于制備光學(xué)濾波器、偏振器等元件。3.氟化物:如氟化鎂、氟化鎂鋁、氟化鋁等。氟化物薄膜具有良好的耐腐蝕性和光學(xué)性能,適用于制備高透過(guò)率的光學(xué)元件。4.硅化物:如二氧化硅、氮化硅、碳化硅等。硅化物薄膜具有良好的機(jī)械性能和光學(xué)性能,適用于制備光學(xué)薄膜和硬質(zhì)涂層??傊?,光學(xué)真空鍍膜機(jī)的鍍膜材料種...
寶來(lái)利真空機(jī)電有限公司是一家專業(yè)從事真空鍍膜機(jī)的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的高科技企業(yè)。公司擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)精湛的研發(fā)團(tuán)隊(duì),不斷推出具有創(chuàng)新性和高性價(jià)比的產(chǎn)品,并為客戶提供定制化產(chǎn)品,深受廣大客戶的信賴和好評(píng)。公司的主營(yíng)業(yè)務(wù)是真空鍍膜機(jī),產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、汽車、建筑等領(lǐng)域。公司秉承“高質(zhì)量、客戶至上”的經(jīng)營(yíng)理念,不斷提升產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)水平,為客戶提供滿意的產(chǎn)品和完善的售后服務(wù)。寶來(lái)利真空機(jī)電有限公司擁有現(xiàn)代化的生產(chǎn)設(shè)備和完善的質(zhì)量管理體系,產(chǎn)品通過(guò)ISO9001質(zhì)量管理體系認(rèn)證和CE認(rèn)證,確保產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定可靠。公司還注重技術(shù)創(chuàng)新和人才培養(yǎng),不斷引進(jìn)和培養(yǎng)高素質(zhì)的人才,為公司的發(fā)...
生活用品中需要真空鍍膜的有:1.金屬餐具:真空鍍膜可以使餐具表面更加光滑、美觀,同時(shí)還可以提高餐具的耐腐蝕性和耐磨性。2.金屬首飾:真空鍍膜可以使首飾表面更加光滑、亮麗,同時(shí)還可以提高首飾的耐磨性和耐腐蝕性。3.金屬手表:真空鍍膜可以使手表表面更加光滑、美觀,同時(shí)還可以提高手表的耐磨性和耐腐蝕性。4.金屬眼鏡框:真空鍍膜可以使眼鏡框表面更加光滑、美觀,同時(shí)還可以提高眼鏡框的耐磨性和耐腐蝕性。5.金屬手機(jī)殼:真空鍍膜可以使手機(jī)殼表面更加光滑、美觀,同時(shí)還可以提高手機(jī)殼的耐磨性和耐腐蝕性。6.金屬家居飾品:真空鍍膜可以使家居飾品表面更加光滑、美觀,同時(shí)還可以提高家居飾品的耐磨性和耐腐蝕性。光學(xué)真空...
高真空多層精密光學(xué)鍍膜機(jī)BLL-1800F型常規(guī)配置; 真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP1200WAU2001EH2600高真空泵:分子泵低溫泵擴(kuò)散泵真空室加熱系統(tǒng)ZUI高溫度:0到400℃型號(hào):不銹鋼管裝加熱器(選擇:紅外線燈管)基片架盤型號(hào):球面型(選擇:平面型,公自轉(zhuǎn),多行星型,可調(diào)角度行星盤)轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟,軟停,可調(diào)速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進(jìn)口復(fù)合真空計(jì)MFC系統(tǒng):進(jìn)口質(zhì)量流量控制器;進(jìn)口電磁閥APC系統(tǒng)鍍膜沉積控制系統(tǒng):晶控美國(guó)產(chǎn)IC-6,XTC-3S/M,INFICON310。石英晶體感應(yīng)器:1,2,...
磁控濺射真空鍍膜機(jī)是一種高科技的表面處理設(shè)備,它采用磁控濺射技術(shù),可以在各種材料表面上形成均勻、致密、高質(zhì)量的薄膜。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于電子、光電、航空、汽車、醫(yī)療等領(lǐng)域,是現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中不可或缺的重要設(shè)備之一。我們公司的磁控濺射真空鍍膜機(jī)采用先進(jìn)的控制系統(tǒng)和高精度的機(jī)械結(jié)構(gòu),能夠?qū)崿F(xiàn)高效、穩(wěn)定、可靠的生產(chǎn)過(guò)程。該設(shè)備具有以下特點(diǎn):1.高效能:采用高頻電源和磁控濺射技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)高效能的鍍膜過(guò)程,提高生產(chǎn)效率。2.高質(zhì)量:采用高精度的機(jī)械結(jié)構(gòu)和先進(jìn)的控制系統(tǒng),能夠?qū)崿F(xiàn)均勻、致密、高質(zhì)量的薄膜,提高產(chǎn)品的品質(zhì)。3.多功能:該設(shè)備可用于各種材料的表面處理,如金屬、陶瓷、玻璃、塑料等,具有廣...
BLL-1680RS濺射鍍膜機(jī)工藝操作(摘選) ①工藝自動(dòng)前提條件,設(shè)備必須在自動(dòng),自抽模式下,手動(dòng)模式下不會(huì)自動(dòng)執(zhí)行工藝。②工藝自動(dòng)情況下,在滿足真空度,抽真空時(shí)間,鍍膜溫度后,自動(dòng)執(zhí)行所選擇的工藝,進(jìn)行輝光清洗→弧光清洗→沉積,所有沉積層計(jì)時(shí)完成后,工藝完成。③工藝自動(dòng)執(zhí)行過(guò)程中,可以通過(guò)點(diǎn)擊相應(yīng)過(guò)程按鈕終止當(dāng)前流程,例:此時(shí)工藝流程輝光清洗已經(jīng)完成,進(jìn)行到弧光清洗中,則單擊弧光清洗按鈕可以停止當(dāng)前流程。④工藝自動(dòng)執(zhí)行到沉積層任意一層時(shí),如遇問(wèn)題,點(diǎn)擊暫停按鈕可停止當(dāng)前層沉積,排除問(wèn)題后,點(diǎn)擊繼續(xù)按鈕即可繼續(xù)沉積(繼續(xù)時(shí)需保證所執(zhí)行的工藝沒(méi)有改變,以及弧光清洗已經(jīng)完成)。⑤手動(dòng)沉...
真空鍍膜機(jī)日常維護(hù)保養(yǎng)是一項(xiàng)非常重要的工作,它能夠保證設(shè)備的正常運(yùn)行,延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命,提高設(shè)備的生產(chǎn)效率。在真空鍍膜機(jī)的日常維護(hù)保養(yǎng)中,需要注意以下幾點(diǎn):1.定期清洗真空鍍膜機(jī)的內(nèi)部和外部,特別是真空室和鍍膜室,以保證設(shè)備的清潔衛(wèi)生,避免污染和腐蝕。2.定期檢查真空鍍膜機(jī)的各個(gè)部件,如真空泵、電源、閥門等,以確保它們的正常運(yùn)行和安全性。3.定期更換真空鍍膜機(jī)的耗材,如鍍膜材料、真空泵油、電極等,以保證設(shè)備的正常運(yùn)行和鍍膜質(zhì)量。4.定期進(jìn)行真空鍍膜機(jī)的維護(hù)保養(yǎng)記錄,以便及時(shí)發(fā)現(xiàn)和解決設(shè)備的故障和問(wèn)題。在真空鍍膜機(jī)日常維護(hù)保養(yǎng)中,需要注意以下幾點(diǎn):1.真空鍍膜機(jī)的維護(hù)保養(yǎng)需要由專業(yè)...
光學(xué)真空鍍膜機(jī)安裝要求 1光學(xué)真空鍍膜機(jī)重量較大,要求其安置場(chǎng)所(操作間)以及搬運(yùn)通道的地面必須有足夠的承載強(qiáng)度。如果不能滿足要求,請(qǐng)進(jìn)行必要的改建。.2使用本機(jī),需要提供5.5Kg-6.5Kg的壓縮空氣、三相五線380V/50Hz的電力、接地電阻小于10?,電阻率為5?.cm的清潔冷卻水(水溫18℃-25℃,冷卻水壓:入口0.3MPa-0.4MPa/出口OKg-1Kg)。3真空室內(nèi)有人時(shí),不得關(guān)閉真空室門。否則,可能出現(xiàn)的誤操作(如抽真空)將在極短的時(shí)間內(nèi)導(dǎo)致真空室內(nèi)的人員死亡,造成無(wú)法挽回的嚴(yán)重后果。.4本機(jī)不能進(jìn)行含自燃性、可燃性及爆性氣體的排放,不能在含有自燃性、可燃性及B性...
1.真空鍍膜機(jī)是什么?真空鍍膜機(jī)是一種用于在物體表面形成薄膜的設(shè)備,通常用于制造電子元件、光學(xué)器件、裝飾品等。2.真空鍍膜機(jī)的工作原理是什么?真空鍍膜機(jī)通過(guò)在真空環(huán)境下,將金屬或其他材料加熱至蒸發(fā)溫度,使其蒸發(fā)成氣體,然后在物體表面形成薄膜。3.真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域有哪些?真空鍍膜機(jī)廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、裝飾、汽車、航空航天等領(lǐng)域。4.真空鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn)是什么?真空鍍膜機(jī)可以在物體表面形成均勻、致密、高質(zhì)量的薄膜,具有優(yōu)異的光學(xué)、電學(xué)、機(jī)械性能。5.真空鍍膜機(jī)的缺點(diǎn)是什么?真空鍍膜機(jī)需要高昂的設(shè)備成本和能源消耗,同時(shí)操作復(fù)雜,需要專業(yè)技術(shù)人員進(jìn)行維護(hù)和操作。6.真空鍍膜機(jī)的維護(hù)保養(yǎng)需...