光學(xué)玻璃拋光液考量光學(xué)玻璃拋光追求低亞表面損傷與高透光率。氧化鈰（CeO?）因其對(duì)硅酸鹽玻璃的化學(xué)活性成為優(yōu)先選擇的磨料，通過Ce3?/Ce??氧化還原反應(yīng)促進(jìn)表面水解。稀土鈰礦提純工藝影響顆?；钚猿煞趾?。pH值中性至弱堿性范圍（7-9）平衡材料去除率與表面...

表界面化學(xué)在懸浮體系中的創(chuàng)新應(yīng)用賦耘二氧化硅拋光劑的穩(wěn)定性突破源于對(duì)顆粒表面雙電層的精細(xì)調(diào)控。通過引入聚丙烯酸銨（NH4PAA）作為分散劑，其在納米SiO?表面形成厚度約3nm的吸附層，使Zeta電位絕? ? 對(duì)值提升至45mV以上，顆粒間排斥勢(shì)能增加70%1...

醫(yī)療植入物表面處理的特殊需求人工關(guān)節(jié)、牙種植體等醫(yī)療器械要求拋光液在去除毛刺的同時(shí)保留多孔鈦涂層結(jié)構(gòu)，并控制金屬離子釋放量。恒耀尚材GP-X系列拋光液通過生物表面活性劑調(diào)控磨料形狀，將特種鋼表面精度提至2.68nm，解決輸氣管內(nèi)壁粗糙導(dǎo)致的醫(yī)用高純氣體污染問題...

環(huán)保政策驅(qū)動(dòng)的配方革新全球環(huán)保法規(guī)正重塑拋光液技術(shù)路線：歐盟REACH法規(guī)新增六種限制物質(zhì)，中國(guó)將金屬拋光粉塵納入危廢目錄，蘋果供應(yīng)鏈強(qiáng)制要求“無鉻鈍化拋光”認(rèn)證。企業(yè)被迫轉(zhuǎn)型，如派森新材研發(fā)銅化學(xué)機(jī)械拋光液，采用柔性烷基鏈連接的雙苯并三氮唑基團(tuán)腐蝕抑制劑，實(shí)...

量子計(jì)算基材的超精密表面量子比特載體（如砷化鎵、磷化銦襯底）要求表面粗糙度低于0.1nm，傳統(tǒng)化學(xué)機(jī)械拋光工藝面臨量子阱結(jié)構(gòu)損傷風(fēng)險(xiǎn)。德國(guó)弗勞恩霍夫研究所開發(fā)非接觸式等離子體拋光技術(shù)，通過氟基活性離子束實(shí)現(xiàn)原子級(jí)蝕刻，表面起伏波動(dòng)控制在±0.05nm內(nèi)。國(guó)內(nèi)"...

磨料顆粒在拋光中的機(jī)械作用受其物理特性影響。顆粒硬度通常需接近或高于被拋光材料以產(chǎn)生切削效果；粒徑大小決定劃痕深度與表面粗糙度，較小粒徑有利于獲得光滑表面。顆粒形狀（球形、多面體）影響接觸應(yīng)力分布：球形顆粒應(yīng)力均勻但切削效率可能較低，多角形顆粒切削力強(qiáng)但劃傷風(fēng)...

量子計(jì)算基材的超精密表面量子比特載體（如砷化鎵、磷化銦襯底）要求表面粗糙度低于0.1nm，傳統(tǒng)化學(xué)機(jī)械拋光工藝面臨量子阱結(jié)構(gòu)損傷風(fēng)險(xiǎn)。德國(guó)弗勞恩霍夫研究所開發(fā)非接觸式等離子體拋光技術(shù)，通過氟基活性離子束實(shí)現(xiàn)原子級(jí)蝕刻，表面起伏波動(dòng)控制在±0.05nm內(nèi)。國(guó)內(nèi)"...

超導(dǎo)腔無磁污染拋光工藝粒子加速器鈮超導(dǎo)腔要求表面殘余電阻小于5nΩ，鐵磁性雜質(zhì)需低于0.1ng/cm2。德國(guó)DESY實(shí)驗(yàn)室開發(fā)無磨料電化學(xué)拋光：在甲醇-硫酸電解液中施加1200A/dm2超高電流密度，形成厚度可控的溶解邊界層，表面粗糙度達(dá)Ra0.8nm。中科院...

特殊材料加工的針對(duì)性解決方案針對(duì)高溫焊料（Pb-Sn合金）易嵌入陶瓷碎片的難題，賦耘開發(fā)了高粘度金剛石凝膠拋光劑。其粘彈性網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)可阻隔硬度達(dá)莫氏9級(jí)的Al?O?碎屑，相較傳統(tǒng)SiC磨料，嵌入污染物減少約90%。在微電子封裝領(lǐng)域，含鉍快削鋼的偏振光干擾問題通過...

超精密拋光液要求量子器件、光學(xué)基準(zhǔn)平等超精密拋光要求亞埃級(jí)表面精度。拋光液趨向超純化：磨料經(jīng)多次離子交換與分級(jí)純化，金屬雜質(zhì)含量低于ppb級(jí)；溶劑為超純水（電阻率>18MΩ·cm）；添加劑采用高純電子化學(xué)品。單分散球形二氧化硅磨料（直徑<10nm）通過化學(xué)作用...

賦耘檢測(cè)技術(shù)提供金相制樣方案，從切割、鑲嵌、磨拋、腐蝕都是一條龍。拋光分為機(jī)械拋光、電解拋光、化學(xué)拋光，各有各的優(yōu)勢(shì)，各有各的用途，選擇合適的就能少走彎路。賦耘檢測(cè)技術(shù)的金剛石拋光液每一顆金剛石磨粒均經(jīng)國(guó)際先進(jìn)氣流粉碎工藝而成，完全保證了金剛石的純度和磨...

光伏與新能源領(lǐng)域拋光液的功能化創(chuàng)新鈣鈦礦-硅雙結(jié)太陽能電池（PSTSCs）的效率提升長(zhǎng)期受困于鈣鈦礦層殘留PbI2引發(fā)的非輻射復(fù)合。新研究采用二甲基亞砜（DMSO）-氯苯混合溶劑拋光策略，通過分子動(dòng)力學(xué)模擬優(yōu)化溶劑配比，使DMSO選擇性溶解PbI2而不破壞鈣鈦...

拋光是制備試樣的步驟或中間步驟，以得到一個(gè)平整無劃痕無變形的鏡面。這樣的表面是觀察真實(shí)顯微組織的基礎(chǔ)以便隨后的金相解釋，包括定量定性。拋光技術(shù)不應(yīng)引入外來組織，例如干擾金屬，坑洞，夾雜脫出，彗星拖尾，著色或浮雕(不同相的高度不同或孔和組織高度不同。）初的粗拋光...

光伏與新能源領(lǐng)域拋光液的功能化創(chuàng)新鈣鈦礦-硅雙結(jié)太陽能電池（PSTSCs）的效率提升長(zhǎng)期受困于鈣鈦礦層殘留PbI2引發(fā)的非輻射復(fù)合。新研究采用二甲基亞砜（DMSO）-氯苯混合溶劑拋光策略，通過分子動(dòng)力學(xué)模擬優(yōu)化溶劑配比，使DMSO選擇性溶解PbI2而不破壞鈣鈦...

印刷線路板(PCB’s)的種類很多，大量的印刷線路板由多層的玻璃光纖與聚合物構(gòu)成。伸縮的線路非常普遍，但通常不含玻璃光纖，作為替代，主要由多層聚合物構(gòu)成。兩種線路板是由電鍍或鋁箔金屬為主構(gòu)成的。這類金屬通常是銅，少數(shù)情況下出現(xiàn)的是金或經(jīng)過鍍鎳處理的。此外...

金屬層拋光液設(shè)計(jì)集成電路銅互連CMP拋光液包含氧化劑（H?O?）、絡(luò)合劑（甘氨酸）、緩蝕劑（BTA）及磨料（Al?O?/SiO?）。氧化劑將銅轉(zhuǎn)化為Cu2?，絡(luò)合劑與之形成可溶性復(fù)合物加速溶解；緩蝕劑吸附在凹陷區(qū)銅表面抑制過度腐蝕。磨料機(jī)械去除凸起部位鈍化膜實(shí)...

鐵基金相試樣制備方法非常適合于固熔退火的奧氏體不銹鋼以及較軟的板鋼。對(duì)照片質(zhì)量要求較高的公開出版物或彩色腐蝕而言，在執(zhí)行前面的步驟后，應(yīng)在下一步在拋光布上用拋光劑進(jìn)行一個(gè)短時(shí)間的振動(dòng)拋光。許多鋼，特別像較硬的鋼采用三步制樣程序就能獲得非常好的結(jié)果，對(duì)較軟的合金...

材料科學(xué)視角下的磨料形態(tài)設(shè)計(jì)賦耘金剛石拋光劑采用氣流粉碎工藝使磨粒呈球形八面體結(jié)構(gòu)，該形態(tài)在微觀尺度上平衡了切削力與應(yīng)力分布。相較于傳統(tǒng)多棱角磨料，球形磨粒與材料表面形成多向接觸而非單點(diǎn)穿刺，可將局部壓強(qiáng)降低約40%，有效抑制硬質(zhì)合金拋光中的微裂紋擴(kuò)展16。這...

拋光液：精密制造的“表面藝術(shù)家”拋光液作為表面處理的核? 心材料，通過化學(xué)與機(jī)械作用的協(xié)同，實(shí)現(xiàn)材料原子級(jí)的平整與光潔。在半導(dǎo)體領(lǐng)域，化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）液需平衡納米磨料的機(jī)械研磨與化學(xué)腐蝕，以滿足晶圓表面超高平整度要求。例如，氧化鈰、氧化鋁等磨料的粒徑均一...

藍(lán)寶石襯底拋光挑戰(zhàn)藍(lán)寶石（α-Al?O?）因高硬度與化學(xué)惰性使拋光困難。酸性拋光液（pH3-4）常用氧化鋁或二氧化硅磨料，添加金屬離子催化劑（Fe3?/Cr??）誘導(dǎo)表面生成較軟的勃姆石（γ-AlOOH）過渡層，磨料隨后去除該層。高溫（50-80°C）可加速化...

磁性材料拋光特殊性鐵氧體、釹鐵硼等磁性材料拋光需避免成分改變與磁性能劣化。酸性體系易溶解鐵導(dǎo)致組分偏離，中性至弱堿性水基拋光液更適用。磨料選擇非金屬材質(zhì)（ZrO?/SiO?）減少鐵屑污染。添加緩蝕劑（磷酸鹽）抑制晶界腐蝕，但需評(píng)估對(duì)磁疇壁移動(dòng)的潛在影響。清洗階...

航天航空極端工況的拋光挑戰(zhàn)SpaceX星艦發(fā)動(dòng)機(jī)渦輪葉片需將拋光殘留應(yīng)力嚴(yán)控在極限閾值，傳統(tǒng)工藝無法滿足。溫控相變磨料成為破局關(guān)鍵：固態(tài)硬盤磁頭拋光中，該材料實(shí)現(xiàn)“低溫切削-高溫自鈍化”智能切換；航空鈦合金部件采用pH自適應(yīng)拋光劑，根據(jù)材質(zhì)動(dòng)態(tài)調(diào)節(jié)酸堿度，減少...

金屬層拋光液設(shè)計(jì)集成電路銅互連CMP拋光液包含氧化劑（H?O?）、絡(luò)合劑（甘氨酸）、緩蝕劑（BTA）及磨料（Al?O?/SiO?）。氧化劑將銅轉(zhuǎn)化為Cu2?，絡(luò)合劑與之形成可溶性復(fù)合物加速溶解；緩蝕劑吸附在凹陷區(qū)銅表面抑制過度腐蝕。磨料機(jī)械去除凸起部位鈍化膜實(shí)...

環(huán)保型拋光液發(fā)展趨勢(shì)環(huán)保要求推動(dòng)拋光液向低毒、可生物降解方向演進(jìn)。替代傳統(tǒng)有毒螯合劑（EDTA）的綠色絡(luò)合劑（如谷氨酸鈉、檸檬酸鹽）被開發(fā)應(yīng)用。生物基表面活性劑（糖酯類）逐步替代烷基酚聚氧乙烯醚（APEO）。磨料方面，天然礦物（如竹炭粉）或回收材料（廢玻璃微粉...

拋光液流變行為影響拋光液流變性能影響磨料輸送與界面剪切行為。牛頓流體（如水）在低速剪切下表現(xiàn)穩(wěn)定，但高速拋光可能因離心力導(dǎo)致磨料分布不均。非牛頓流體（如剪切稀化型）在低剪切速率（儲(chǔ)存時(shí)）保持高粘度防沉降，高剪切速率（拋光區(qū)）粘度下降利于鋪展。粘度過高增加泵送阻...

拋光是制備試樣的步驟或中間步驟，以得到一個(gè)平整無劃痕無變形的鏡面。這樣的表面是觀察真實(shí)顯微組織的基礎(chǔ)以便隨后的金相解釋，包括定量定性。拋光技術(shù)不應(yīng)引入外來組織，例如干擾金屬，坑洞，夾雜脫出，彗星拖尾，著色或浮雕(不同相的高度不同或孔和組織高度不同。）初的粗拋光...

賦耘檢測(cè)技術(shù)（上海）有限公司產(chǎn)品產(chǎn)品名稱：數(shù)顯洛氏硬度計(jì)產(chǎn)品型號(hào)：FY-HRM-150S二、產(chǎn)品特點(diǎn)高精度位移感器4寸LCD屏顯示，菜單式結(jié)構(gòu)，12種洛氏硬度標(biāo)尺的選擇，硬度換算功能，硬度測(cè)試結(jié)果打印輸出，具有良好的可靠性，可操作性和直觀性結(jié)構(gòu)堅(jiān)固，剛性...

金相拋光布是在金相試樣制備過程中至關(guān)重要的工具。它主要用于對(duì)經(jīng)過切割、研磨等初步處理后的金相試樣表面進(jìn)行精細(xì)拋光操作。通過在拋光機(jī)上配合拋光液使用，金相拋光布能有效去除試樣表面殘留的細(xì)微劃痕、變形層等，使試樣表面達(dá)到平整、光亮如鏡的狀態(tài)，從而便于在金相顯微鏡下...

偏光明暗場(chǎng)倒置金相顯微鏡一．產(chǎn)品介紹采用優(yōu)良的無限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)與模塊化的功能設(shè)計(jì)理念，可以方便升級(jí)系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)偏光觀察、暗場(chǎng)觀察等功能。緊湊穩(wěn)定的高剛性主體，充分體現(xiàn)了顯微鏡操作的防振要求。符合人機(jī)工程學(xué)要求的理想設(shè)計(jì)，使操作更方便舒適，空間更廣闊。適用于金...

奧氏體不銹鋼的實(shí)踐觀察奧氏體不銹鋼在工程應(yīng)用中可能遇到晶間腐蝕問題。碳含量較高的牌號(hào)（如304）在焊接熱影響區(qū)或不當(dāng)熱處理后，發(fā)生晶間腐蝕的可能性存在。為此發(fā)展的低碳牌號(hào)（如304L、316L）通過降低碳含量來減少碳化物析出驅(qū)動(dòng)力。添加鈦或鈮的穩(wěn)定化牌號(hào)（如3...