世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL?）系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合，從而達(dá)到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別...

雙光子聚合激光直寫技術(shù)在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域也有著廣泛的應(yīng)用前景。通過控制激光束的強(qiáng)度和聚焦點的位置，我們可以在生物材料中實現(xiàn)微創(chuàng)傷害，實現(xiàn)精確的細(xì)胞操作。這為組織工程等領(lǐng)域的研究提供了新的工具和方法，有望推動醫(yī)學(xué)科學(xué)的進(jìn)一步發(fā)展。雙光子聚合激光直寫技術(shù)的發(fā)展離不開科...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù)，用于快速，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學(xué)制作。可以搭配不同的基板，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打...

事實上，雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的，其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時這個實驗室在nature上發(fā)表的一篇工作，也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動：《Finerfeaturesforfunctional...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，...

雖然半導(dǎo)體行業(yè)一直在使用3D打印技術(shù)，我們可能會有一個疑問，為什么我們沒有聽說，一個因素是競爭。如果全球只有四個龐大的大型公司，它們構(gòu)成了光刻或制造機(jī)器的主要部分，那么這些公司并沒有告訴外界關(guān)于他們應(yīng)用3D打印技術(shù)的內(nèi)幕，因為他們想確保的競爭優(yōu)勢。至少，對外界...

QuantumXshape技術(shù)特點概要：快速原型制作，高精度，高設(shè)計自由度，簡易明了的工程流程；工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn)；200個標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量；通用及專門使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高...

為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2G...

Nanoscribe公司推出針對微光學(xué)元件（如微透鏡、棱鏡或復(fù)雜自由曲面光學(xué)器件）具有特殊性能的新型打印材料，IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率，高色散和低阿貝數(shù)的特性，這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學(xué)元件設(shè)計尤為重要，尤其是在沒有旋轉(zhuǎn)對稱性...

Nanoscribe是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的子公司，開發(fā)并提供用于納米、微米和中尺度的3D打印機(jī)以及光敏材料和工藝解決方案。其口號是：“我們讓小物件變得重要”，公司創(chuàng)始人開發(fā)出一種技術(shù)，對智能手機(jī)、手持設(shè)備和醫(yī)療技術(shù)領(lǐng)域至關(guān)重要的3D打印產(chǎn)品。通過基于...

光學(xué)和光電組件的小型化對于實現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應(yīng)用至關(guān)重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設(shè)計會有分辨率不足和光學(xué)質(zhì)量表面不達(dá)標(biāo)的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術(shù)不光可以用于在平面基板上打印微納米部件...

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術(shù)，用于快速，精度非常高的微納加工，可以輕松3D微納光學(xué)制作?？梢源钆洳煌幕?，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。...

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機(jī)型。基于雙光子聚合技術(shù)，該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機(jī)型，同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)模化生產(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于N...

Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方...

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實現(xiàn)通過簡單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL?)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和...

我們往往需要通過灰度光刻的方式來實現(xiàn)微透鏡陣列結(jié)構(gòu)，灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機(jī)控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)（如下圖4所示，八邊金字塔結(jié)構(gòu)...

作為微納加工和3D打印領(lǐng)域的帶領(lǐng)者，Nanoscribe一直致力于推動各個科研領(lǐng)域，諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強(qiáng)了全球銷售活動，...

2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個用于實時過程控制的攝像頭和一個樹脂分配器。為了簡化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識別會自動運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffract...

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加...

Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場的帶領(lǐng)者，推動著諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人，再生醫(yī)...

俄亥俄州代頓的美國空軍技術(shù)學(xué)院的科研人員開發(fā)了新一代的基于光纖的傳感器，其部件可實現(xiàn)動態(tài)旋轉(zhuǎn)。他們使用**支撐結(jié)構(gòu)一步打印了智能化的3D微鉸鏈和可活動部件。這種巧妙的設(shè)計和3D打印策略使優(yōu)化的傳感器（例如具有更高靈敏度的Fabry-Pérot傳感器）和新型傳感...

近年來，實現(xiàn)微納尺度下的3D灰度光刻結(jié)構(gòu)在包括微機(jī)電（MEMS）、微納光學(xué)及微流控研究領(lǐng)域內(nèi)備受關(guān)注，良好的線性側(cè)壁灰度結(jié)構(gòu)可以很大程度上提高維納器件的靜電力學(xué)特性，信號通訊性能及微流通道的混合效率等。相比一些獲取灰度結(jié)構(gòu)的傳統(tǒng)手段，如超快激光刻蝕工藝、電化學(xué)...

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的重要部分是Nanoscribe獨有專項的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL?）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時具備高速打印，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對...

Nanoscribe的PhotonicProfessional設(shè)備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學(xué)組件打印于微孔支架材料上（例如孔狀硅材及二氧化硅）。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合（2PP）那樣在基體表面進(jìn)行直寫，而是在孔型支架內(nèi)。通過調(diào)整直...

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quant...

高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學(xué)元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術(shù)所具有的設(shè)計自由度和光學(xué)質(zhì)量的特點，您可以進(jìn)行幾乎任何形狀，包括球形，非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設(shè)計。另外，Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度，...

借助Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)特殊的高設(shè)計自由度和高精度特點，您可以制作具有微米級高精度機(jī)械元件和微機(jī)電系統(tǒng)。歡迎探索Nanoscribe針對快速原型設(shè)計和制造真正高精度的微納零件的3D微納加工解決方案。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(shù)...

雙光子聚合（2PP）是一種可實現(xiàn)比較高精度和完全設(shè)計自由度的增材制造方法。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)QuantumXshape具有下列優(yōu)異性能：首先，在所有空間方向上低至100納米的特征尺寸控制，適用于納米和微米級打??；其次制作高達(dá)50毫米的目標(biāo)結(jié)構(gòu)，適...

Nanoscribe公司推出針對微光學(xué)元件（如微透鏡、棱鏡或復(fù)雜自由曲面光學(xué)器件）具有特殊性能的新型打印材料，IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率，高色散和低阿貝數(shù)的特性，這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學(xué)元件設(shè)計尤為重要，尤其是在沒有旋轉(zhuǎn)對稱性...