1.更換SEM側(cè)面板(如有必要)。檢查隔離系統(tǒng)和SEM的所有電纜是否松動(dòng)連接。檢查并確保沒(méi)有將SEM耦合到地面或其他振動(dòng)源。2.將電源線插入控制器背面。翻轉(zhuǎn)前面板上的“ON”開(kāi)關(guān)。按紅色按鈕啟用活動(dòng)隔離。3.幾秒鐘后,使能LED指示燈將變穩(wěn)定,指示系統(tǒng)已正確隔...
AVI-600/LP的每個(gè)單元均可調(diào)節(jié),以適應(yīng)0至600kg的負(fù)載。對(duì)于任何設(shè)置由兩個(gè)單元組成的系統(tǒng)上的負(fù)載,可在+/-90kg之間變化,而不必重設(shè)調(diào)整。手次操作系統(tǒng)時(shí),請(qǐng)將前面板隔離開(kāi)關(guān)設(shè)置為OFF(黑色旋出)。接通電源。電源指示燈現(xiàn)在將點(diǎn)亮,并且24個(gè)顯示...
納米壓印應(yīng)用三:連續(xù)性UV納米壓印EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺(tái),可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50mmx50mm的小模具到蕞大300mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車(chē)削或直接寫(xiě)入方法相...
SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)XIAN的NIL技術(shù),可對(duì)小于40nm*的極小特征進(jìn)行圖案化,并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)無(wú)人能比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì),同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的S...
關(guān)于三坐標(biāo)測(cè)量輪廓度及粗糙度三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)是不能測(cè)量粗糙度的,至于測(cè)量零件的表面輪廓,要視三坐標(biāo)的測(cè)量精度及零件表面輪廓度的要求了,如果你的三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)精度比較高,但零件輪廓度要求不可,是可以用三坐標(biāo)來(lái)代替的。一般三坐標(biāo)精度都在2-3um左右,而輪廓儀都在2um...
如何正確使用輪廓儀準(zhǔn)備工作1.測(cè)量前準(zhǔn)備。2.開(kāi)啟電腦、打開(kāi)機(jī)器電源開(kāi)關(guān)、檢查機(jī)器啟動(dòng)是否正常。3.擦凈工件被測(cè)表面。測(cè)量1.將測(cè)針正確、平穩(wěn)、可靠地移動(dòng)在工件被測(cè)表面上。2.工件固定確認(rèn)工件不會(huì)出現(xiàn)松動(dòng)或者其它因素導(dǎo)致測(cè)針與工件相撞的情況出現(xiàn)3.在儀器上設(shè)置...
我們應(yīng)該如何正確使用輪廓儀?一、準(zhǔn)備工作1.測(cè)量前準(zhǔn)備。2.開(kāi)啟電腦、打開(kāi)機(jī)器電源開(kāi)關(guān)、檢查機(jī)器啟動(dòng)是否正常。3.擦凈工件被測(cè)表面。二、測(cè)量1.將測(cè)針正確、平穩(wěn)、可靠地移動(dòng)在工件被測(cè)表面上。2.工件固定確認(rèn)工件不會(huì)出現(xiàn)松動(dòng)或者其它因素導(dǎo)致測(cè)針與工件相撞的情況出...
輪廓儀,能描繪工件表面波度與粗糙度,并給出其數(shù)值的儀器,采用精密氣浮導(dǎo)軌為直線基準(zhǔn)。輪廓測(cè)試儀是對(duì)物體的輪廓、二維尺寸、二維位移進(jìn)行測(cè)試與檢驗(yàn)的儀器,作為精密測(cè)量?jī)x器在汽車(chē)制造和鐵路行業(yè)的應(yīng)用十分廣范。(來(lái)自網(wǎng)絡(luò))先進(jìn)的輪廓儀集成模塊60年世界水平半導(dǎo)體檢測(cè)技...
表面三維微觀形貌測(cè)量的意義在生產(chǎn)中,表面三維微觀形貌對(duì)工程零件的許多技術(shù)性能的評(píng)家具有蕞直接的影響,而且表面三維評(píng)定參數(shù)由于能更權(quán)面,更真實(shí)的反應(yīng)零件表面的特征及衡量表面的質(zhì)量而越來(lái)越受到重視,因此表面三維微觀形貌的測(cè)量就越顯重要。通過(guò)兌三維形貌的測(cè)量可以比較...
共聚焦顯微鏡方法共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉(zhuǎn)多真孔盤(pán)、帶有壓電驅(qū)動(dòng)器的物鏡和CCD相機(jī)。LED光源通過(guò)多真孔盤(pán)(MPD)和物鏡聚焦到樣品表面上,從而反射光。反射光通過(guò)MPD的真孔減小到聚焦的部分落在CCD相機(jī)上。傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細(xì)節(jié),但...
NanoX-系列產(chǎn)品PCB測(cè)量應(yīng)用測(cè)試案例測(cè)量種類(lèi)?基板ASoldMask3D形貌、尺寸?基板ASoldMask粗糙度?基板A綠油區(qū)域3D形貌?基板A綠油區(qū)域Pad粗糙度?基板A綠油區(qū)域粗糙度?基板A綠油區(qū)域pad寬度?基板ATrace3D形貌和尺寸?基板B背...
EVG?6200NT掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(半自動(dòng)/自動(dòng))特色:EVG?6200NT掩模對(duì)準(zhǔn)器為光學(xué)雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達(dá)200毫米。技術(shù)數(shù)據(jù):EVG6200NT以其自動(dòng)化靈活性和可靠性而著稱(chēng),可在蕞小的占位面積上提供蕞先近的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù),并具有蕞高的產(chǎn)能,...
厚度測(cè)量產(chǎn)品:我們的膜厚測(cè)量產(chǎn)品可適用于各種應(yīng)用。我們大部分的產(chǎn)品皆備有庫(kù)存以便快速交貨。請(qǐng)瀏覽本公司網(wǎng)頁(yè)產(chǎn)品資訊或聯(lián)系我們的應(yīng)用工程師針對(duì)您的厚度測(cè)量需求提供立即協(xié)助。單點(diǎn)厚度測(cè)量:一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺(tái)式測(cè)量系統(tǒng)。測(cè)量1nm到13mm的單層薄膜或多層...
EVG?620NT掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(半自動(dòng)/自動(dòng))特色:EVG?620NT提供國(guó)家的本領(lǐng)域掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)在蕞小化的占位面積,支持高達(dá)150毫米晶圓尺寸。技術(shù)數(shù)據(jù):EVG620NT以其多功能性和可靠性而著稱(chēng),在蕞小的占位面積上結(jié)合了先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能和蕞優(yōu)化的總體擁有成本...
HERCULES光刻軌道系統(tǒng)特征:生產(chǎn)平臺(tái)以蕞小的占地面積結(jié)合了EVG精密對(duì)準(zhǔn)和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢(shì);多功能平臺(tái)支持各種形狀,尺寸,高度變形的模具晶片甚至托盤(pán)的全自動(dòng)處理;高達(dá)52,000cP的涂層可制造高度高達(dá)300微米的超厚光刻膠特征;CoverSpi...
更可加裝至三個(gè)探頭,同時(shí)測(cè)量三個(gè)樣品,具紫外線區(qū)或標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)可供選擇。F40:這型號(hào)安裝在任何顯微鏡外,可提供*小5um光點(diǎn)(100倍放大倍數(shù))來(lái)測(cè)量微小樣品。F50:這型號(hào)配備全自動(dòng)XY工作臺(tái),由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過(guò)快速掃瞄功...
集成化光刻系統(tǒng)HERCULES光刻量產(chǎn)軌道系統(tǒng)通過(guò)完全集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合了掩模對(duì)準(zhǔn)和曝光以及集成的預(yù)處理和后處理功能的高度自動(dòng)化,完善了EVG光刻產(chǎn)品系列。HERCULES光刻軌道系統(tǒng)基于模塊化平臺(tái),將EVG已建立的光學(xué)掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)與集成的清潔,光刻膠涂層,...
F60系列包含的內(nèi)容:集成平臺(tái)/光譜儀/光源裝置(不含平臺(tái))4",6"and200mm參考晶圓TS-SiO2-4-7200厚度標(biāo)準(zhǔn)真空泵備用燈型號(hào)厚度范圍*波長(zhǎng)范圍F60-t:20nm-70μm380-1050nmF60-t-UV:5nm-40μm190-11...
集成化光刻系統(tǒng)HERCULES光刻量產(chǎn)軌道系統(tǒng)通過(guò)完全集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合了掩模對(duì)準(zhǔn)和曝光以及集成的預(yù)處理和后處理功能的高度自動(dòng)化,完善了EVG光刻產(chǎn)品系列。HERCULES光刻軌道系統(tǒng)基于模塊化平臺(tái),將EVG已建立的光學(xué)掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)與集成的清潔,光刻膠涂層,...
(光刻膠)polyerlayers(高分子聚合物層)polymide(聚酰亞胺)polysilicon(多晶硅)amorphoussilicon(非晶硅)基底實(shí)例:對(duì)于厚度測(cè)量,大多數(shù)情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底。對(duì)于光學(xué)常數(shù)測(cè)量,需要一塊平整的鏡面...
納米壓印微影技術(shù)有望優(yōu)先導(dǎo)入LCD面板領(lǐng)域原本計(jì)劃應(yīng)用在半導(dǎo)體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(shù)(Nano-ImpLithography;NIL),現(xiàn)將率先應(yīng)用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術(shù)。據(jù)ETNews報(bào)導(dǎo),南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研...
光刻機(jī)處理結(jié)果:EVG在光刻技術(shù)方面的合心競(jìng)爭(zhēng)力在于其掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(EVG6xx和IQAligner系列)以及高度集成的涂層平臺(tái)(EVG1xx系列)的高吞吐量的接近和接觸曝光能力。EVG所有光刻設(shè)備平臺(tái)均為300mm,可完全集成到HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中...
EVG?150特征:晶圓尺寸可達(dá)300毫米多達(dá)6個(gè)過(guò)程模塊可自定義的數(shù)量-多達(dá)20個(gè)烘烤/冷卻/汽化堆多達(dá)四個(gè)FOUP裝載端口或盒式磁帶裝載可用的模塊包括旋轉(zhuǎn)涂層,噴涂,NanoCoat?,顯影,烘烤/冷卻/蒸氣/上等EV集團(tuán)專(zhuān)有的OmniSpray?超聲波霧...
SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)仙的NIL技術(shù),可對(duì)小于40nm*的極小特征進(jìn)行圖案化,并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)無(wú)人可比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì),同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的Smar...
NIL300mmEV集團(tuán)企業(yè)技術(shù)開(kāi)發(fā)和知識(shí)產(chǎn)權(quán)總監(jiān)MarkusWimplinger表示:“EVG的NILPhotonics能力中心成立于2014年,為光刻/納米壓印技術(shù)供應(yīng)鏈中的各個(gè)合作伙伴和公司與EVG合作提供了一個(gè)開(kāi)放式的創(chuàng)新孵化器,從而縮短創(chuàng)新光子器件和...
納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果:新應(yīng)用程序的開(kāi)發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,并在顯示器,生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRISmartNIL?壓印上的單個(gè)像素的1.AFM圖像壓印全...
SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)仙的NIL技術(shù),可對(duì)小于40nm*的極小特征進(jìn)行圖案化,并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)無(wú)人可比的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì),同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的Smar...
1.3.培訓(xùn)計(jì)劃在完成系統(tǒng)布線并開(kāi)始設(shè)備安裝后,即向甲方和業(yè)主介紹整個(gè)系統(tǒng)的概況及性能、特點(diǎn)、設(shè)備布置情況和相互之間的關(guān)系等,讓甲方和業(yè)主對(duì)整個(gè)系統(tǒng)有一個(gè)權(quán)面的認(rèn)識(shí)。在整個(gè)系統(tǒng)驗(yàn)收前后,安排有關(guān)人員在進(jìn)行培訓(xùn)。1.4.培訓(xùn)形式公司指派技術(shù)人員向相關(guān)人員講解系統(tǒng)...
系統(tǒng)培訓(xùn)的注意事項(xiàng)如何使用電子書(shū)閱讀軟件和軟、硬件的操作手冊(cè);數(shù)據(jù)采集功能的講解:通訊端口、連接計(jì)算器、等待時(shí)間等參數(shù)的解釋和參數(shù)設(shè)置;實(shí)際演示一一講解;如何做好備份和恢復(fù)備份資料;當(dāng)場(chǎng)演示各種報(bào)表的操作并進(jìn)行操作解說(shuō);數(shù)據(jù)庫(kù)文件應(yīng)定時(shí)作備份,大變動(dòng)時(shí)更應(yīng)做好...
輪廓儀是用容易理解的機(jī)械技術(shù)測(cè)量薄膜厚度。它的工作原理是測(cè)量測(cè)量劃過(guò)薄膜的檢測(cè)筆的高度(見(jiàn)右圖)。輪廓儀的主要優(yōu)點(diǎn)是可以測(cè)量所有固體膜,包括不透明的厚金屬膜。更昂貴的系統(tǒng)能測(cè)繪整個(gè)表面輪廓。(有關(guān)我們的低成本光學(xué)輪廓儀的資訊,請(qǐng)點(diǎn)擊這里).獲取反射光譜指南然而...