電容式位移傳感器是一種基于電容原理的位移測量儀器。屬于完全非接觸式位移傳感器,被測物無需任何附加和其他特別的要求,被測物沒有任何損傷。它通過測量沿軸向的機械位移與電容量的比例關(guān)系來實現(xiàn)位移的精確測量的。電容式位移傳感器由金屬電極和測量介質(zhì)構(gòu)成,金屬電極之間通過...
高精度電容位移傳感器的安裝和使用注意事項:1. 安裝時,應(yīng)選擇一個穩(wěn)定、平整的表面或安裝座,確保傳感器和被測物體之間的距離精度符合要求。2. 傳感器的兩個電極之間需要接通信號線和電源線。應(yīng)注意線路的質(zhì)量,以避免線路干擾對測量結(jié)果的影響。3. 在使用前,需要對傳...
使用位移傳感器的注意事項:1、傳感器的供電情況,如果位移傳感器供電電源容量不足,就會造成以下的情況:熔膠的運動會使合模電子尺的顯示變換,有波動,或者合模的運動會使射膠電子尺的顯示波動,造成測量誤差變大。如果電磁閥的驅(qū)動電源與直線位移傳感器供電電源共用的時候,更...
電容式位移傳感器具有哪些應(yīng)用優(yōu)勢?電容式位移傳感器應(yīng)用優(yōu)勢:1. 測量精度高:電容式位移傳感器具有很高的測量精度,測量范圍適中,且可以達到亞微米級別的精度,適用于高精度測量場合。2. 靈敏度好:電容式位移傳感器對于被測量的微小變化有較高的靈敏度,甚至在亞微米或...
位移傳感器是一種測量物體或構(gòu)件位置和方向的傳感器,用于測量在直線和/或角位移方向上的物理運動,可用于各種應(yīng)用,包括:1. 機械加工行業(yè):用于測量機器的精度和位置,以確保產(chǎn)品的精度和質(zhì)量。同時,還可用于測量機器的擠出量和警戒限度等。2. 汽車行業(yè):用于測量汽車上...
高精度電容位移傳感器選型需要注意什么?1. 測量范圍。首先需要考慮需要測量的位移范圍,以選擇合適的傳感器型號和量程。如果位移范圍過大,需要選擇大量程的傳感器,如果位移范圍過小,需要選擇小量程的傳感器,以充分利用測量范圍。2. 精度和靈敏度。要考慮如果精度或靈敏...
選擇高精度電容位移傳感器廠家時需要注意什么?1. 精度要求:電容式位移傳感器的精度要求高,因此選購時需要了解其測量范圍和精度要求是否達到了實際應(yīng)用的要求。2. 品牌信譽:品牌信譽是選購電容式位移傳感器時需要考慮的一個重要因素。選擇有較高名氣、生產(chǎn)經(jīng)驗豐富且產(chǎn)品...
對準(zhǔn)晶圓鍵合是晶圓級涂層,晶圓級封裝,工程襯底zhizao,晶圓級3D集成和晶圓減薄方面很有用的技術(shù)。反過來,這些工藝也讓MEMS器件,RF濾波器和BSI(背面照明)CIS(CMOS圖像傳感器)的生產(chǎn)迅速增長。這些工藝也能用于制造工程襯底,例如SOI(絕緣體上...
EVG的晶圓鍵合機鍵合室配有通用鍵合蓋,可快速排空,快速加熱和冷卻。通過控制溫度,壓力,時間和氣體,允許進行大多數(shù)鍵合過程。也可以通過添加電源來執(zhí)行陽極鍵合。對于UV固化黏合劑,可選的鍵合室蓋具有UV源。鍵合可在真空或受控氣體條件下進行。頂部和底部晶片的獨...
從表面上看,“引線鍵合”似乎只是焊接的另一個術(shù)語,但由于涉及更多的變量,因此該過程實際上要復(fù)雜得多。為了將各種組件長久地連接在一起,在電子設(shè)備上執(zhí)行引線鍵合過程,但是由于項目的精致性,由于它們的導(dǎo)電性和相對鍵合溫度,通常jin應(yīng)用金,鋁和銅。通過使用球形鍵合或...
EVG?520IS晶圓鍵合系統(tǒng)■擁有EVG?501和EVG?510鍵合機的所有功能■200mm的單個或者雙腔自動化系統(tǒng)■自動晶圓鍵合流程和晶圓替代轉(zhuǎn)移■集成冷卻站,實現(xiàn)高產(chǎn)量EVG?540自動鍵合系統(tǒng)■300mm單腔鍵合室■自動處理多達4個鍵合卡盤■模塊化鍵合...
EVG?610BA鍵對準(zhǔn)系統(tǒng)適用于學(xué)術(shù)界和工業(yè)研究的晶圓對晶圓對準(zhǔn)的手動鍵對準(zhǔn)系統(tǒng)。EVG610鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計用于蕞大200mm晶圓尺寸的晶圓間對準(zhǔn)。EVGroup的鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)可通過底側(cè)顯微鏡提供手動高精度對準(zhǔn)平臺。EVG的鍵對準(zhǔn)系統(tǒng)的精度可滿足MEMS生...
表面帶有微結(jié)構(gòu)硅晶圓的界面已受到極大的損傷,其表面粗糙度遠高于拋光硅片( Ra < 0. 5 nm) ,有時甚至可以達到 1 μm 以上。金硅共晶鍵合時將金薄膜置于欲鍵合的兩硅片之間,加熱至稍高于金—硅共晶點的溫度,即 363 ℃ , 金硅混合物從預(yù)鍵合的硅片...
長久鍵合系統(tǒng) EVG晶圓鍵合方法的引入將鍵合對準(zhǔn)與鍵合步驟分離開來,立即在業(yè)內(nèi)掀起了市場geming。利用高溫和受控氣體環(huán)境下的高接觸力,這種新穎的方法已成為當(dāng)今的工藝標(biāo)準(zhǔn),EVG的鍵合機設(shè)備占據(jù)了半自動和全自動晶圓鍵合機的主要市場份額,并且安裝的機臺已經(jīng)超過...
EVG?850LT特征利用EVG的LowTemp?等離子基活技術(shù)進行SOI和直接晶圓鍵合適用于各種熔融/分子晶圓鍵合應(yīng)用生產(chǎn)系統(tǒng)可在高通量,高產(chǎn)量環(huán)境中運行盒到盒的自動操作(錯誤加載,SMIF或FOUP)無污染的背面處理超音速和/或刷子清潔機械平整或缺口對準(zhǔn)的...
EVG?301單晶圓清洗系統(tǒng),屬于研發(fā)型單晶圓清洗系統(tǒng)。技術(shù)數(shù)據(jù) EVG301半自動化單晶片清洗系統(tǒng)采用一個清洗站,該清洗站使用標(biāo)準(zhǔn)的去離子水沖洗以及超音速,毛刷和稀釋化學(xué)藥品作為附加清洗選項來清洗晶片。EVG301具有手動加載和預(yù)對準(zhǔn)功能,是一種多功能的研發(fā)...
Smart View NT鍵合機特征 適合于自動化和集成EVG鍵合系統(tǒng)(EVG560?,GEMINI ? 200和300mm配置) 用于3D互連,晶圓級封裝和大批量MEMS器件的晶圓堆疊 通用鍵合對準(zhǔn)器(面對面,背面,紅外和透明對準(zhǔn)) 無需Z軸運動,也無需重新...
ComBond自動化的高真空晶圓鍵合系統(tǒng),高真空晶圓鍵合平臺促進“任何物上的任何東西”的共價鍵合特色技術(shù)數(shù)據(jù),EVGComBond高真空晶圓鍵合平臺標(biāo)志著EVG獨特的晶圓鍵合設(shè)備和技術(shù)產(chǎn)品組合中的一個新里程碑,可滿足市場對更復(fù)雜的集成工藝的需求ComBond支...
EVG?820層壓系統(tǒng) 將任何類型的干膠膜(膠帶)自動無應(yīng)力層壓到晶圓上 特色 技術(shù)數(shù)據(jù) EVG820層壓站用于將任何類型的干膠膜自動,無應(yīng)力地層壓到載體晶片上。這項獨特的層壓技術(shù)可對卷筒上的膠帶進行打孔,然后將其對齊并層壓到晶圓上。該材料通常是雙面膠帶。利用...
根據(jù)型號和加熱器尺寸,EVG500系列鍵合機可以用于碎片和50mm至300mm的晶圓。這些工具的靈活性非常適合中等批量生產(chǎn)、研發(fā),并且可以通過簡單的方法進行大批量生產(chǎn),因為鍵合程序可以轉(zhuǎn)移到EVGGEMINI大批量生產(chǎn)系統(tǒng)中。鍵合室配有通用鍵合蓋,可快速排空,...
半導(dǎo)體器件的垂直堆疊已經(jīng)成為使器件密度和性能不斷提高的日益可行的方法。晶圓間鍵合是實現(xiàn)3D堆疊設(shè)備的重要工藝步驟。然而,需要晶片之間的緊密對準(zhǔn)和覆蓋精度以在鍵合晶片上的互連器件之間實現(xiàn)良好的電接觸,并蕞小化鍵合界面處的互連面積,從而可以在晶片上騰出更多空間用于...
焊使用工具將導(dǎo)線施加到微芯片上時對其產(chǎn)生壓力。將導(dǎo)線牢固地固定到位后,將超聲波能量施加到表面上,并在多個區(qū)域中建立牢固的結(jié)合。楔形鍵合所需的時間幾乎是類似球形鍵合所需時間的兩倍,但它也被認(rèn)為是更穩(wěn)定的連接,并且可以用鋁或其他幾種合金和金屬來完成。不建議業(yè)余愛好...
從表面上看,“引線鍵合”似乎只是焊接的另一個術(shù)語,但由于涉及更多的變量,因此該過程實際上要復(fù)雜得多。為了將各種組件長久地連接在一起,在電子設(shè)備上執(zhí)行引線鍵合過程,但是由于項目的精致性,由于它們的導(dǎo)電性和相對鍵合溫度,通常jin應(yīng)用金,鋁和銅。通過使用球形鍵合或...
ComBond自動化的高真空晶圓鍵合系統(tǒng),高真空晶圓鍵合平臺促進“任何物上的任何東西”的共價鍵合特色技術(shù)數(shù)據(jù),EVGComBond高真空晶圓鍵合平臺標(biāo)志著EVG獨特的晶圓鍵合設(shè)備和技術(shù)產(chǎn)品組合中的一個新里程碑,可滿足市場對更復(fù)雜的集成工藝的需求ComBond支...
EVG?850LT的LowTemp?等離子計獲模塊 2種標(biāo)準(zhǔn)工藝氣體:N2和O2以及2種其他工藝氣體:高純度氣體(99.999%),稀有氣體(Ar,He,Ne等)和形成氣體(N2,Ar含量蕞/高為4%的氣體)2) 通用質(zhì)量流量控制器:蕞多可對4種工藝氣體進行自...
EVG501是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng),可處理從單芯片到150 mm(200 mm鍵合室的情況下為200 mm)的基片。該工具支持所有常見的晶圓鍵合工藝,如陽極,玻璃料,焊料,共晶,瞬態(tài)液相和直接鍵合。易于操作的鍵合室和工具設(shè)計,讓用戶能快速,輕松地重新裝配...
GEMINI?FB特征:新的SmartView?NT3面-面結(jié)合對準(zhǔn)具有亞50納米晶片到晶片的對準(zhǔn)精度多達六個預(yù)處理模塊,例如:清潔模塊LowTemp?等離子基活模塊對準(zhǔn)驗證模塊解鍵合模塊XT框架概念通過EFEM(設(shè)備前端模塊)實現(xiàn)ZUI高吞吐量可選功能:解鍵...
焊使用工具將導(dǎo)線施加到微芯片上時對其產(chǎn)生壓力。將導(dǎo)線牢固地固定到位后,將超聲波能量施加到表面上,并在多個區(qū)域中建立牢固的結(jié)合。楔形鍵合所需的時間幾乎是類似球形鍵合所需時間的兩倍,但它也被認(rèn)為是更穩(wěn)定的連接,并且可以用鋁或其他幾種合金和金屬來完成。不建議業(yè)余愛好...
EVG?501鍵合機特征:獨特的壓力和溫度均勻性;兼容EVG機械和光學(xué)對準(zhǔn)器;靈活的研究設(shè)計和配置;從單芯片到晶圓;各種工藝(共晶,焊料,TLP,直接鍵合);可選的渦輪泵(<1E-5mbar);可升級用于陽極鍵合;開室設(shè)計,易于轉(zhuǎn)換和維護;兼容試生產(chǎn),適合于學(xué)...
EVG320技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑(基板尺寸)200、100-300毫米清潔系統(tǒng)開室,旋轉(zhuǎn)器和清潔臂腔室:由PP或PFA制成(可選)清潔介質(zhì):去離子水(標(biāo)準(zhǔn)),其他清潔介質(zhì)(可選)旋轉(zhuǎn)卡盤:真空卡盤(標(biāo)準(zhǔn))和邊緣處理卡盤(選件),由不含金屬離子的清潔材料制成旋轉(zhuǎn):蕞...